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Máquina de recubrimiento de vacío por pulverización por magnétono RF con sistema de vacío alto, monitoreo de recubrimiento en tiempo real y tamaño de objetivo personalizable
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Máquina de recubrimiento de vacío por pulverización por magnétono RF con sistema de vacío alto, monitoreo de recubrimiento en tiempo real y tamaño de objetivo personalizable
| Lugar de origen | Cantón |
| Nombre de la marca | Lion King |
| Certificación | CE |
Detalles del producto
Fuente de alimentación de evaporación:
1 JUEGO
Sistema de vacío:
Altos vacío
Solicitud:
Óptico, decorativo, funcional
Material de revestimiento:
Metal, aleación, cerámica, etc.
Tamaño objetivo:
Personalizable
Velocidad de recubrimiento:
0,5-1,5 m/min
Sistema de monitoreo de recubrimiento:
En tiempo real
Materiales de recubrimiento:
Metal, Cerámica, Materiales Orgánicos
Tamaño de la cámara de recubrimiento:
Personalizado
Densidad de recubrimiento:
≥99.9%
Operation Way:
pantalla táctil
Dureza de recubrimiento:
≥HV800
Material de la cámara:
Acero inoxidable
Modo de operación:
Automático/manual
Resaltar:
Máquina de revestimiento al vacío de farfulla con magnetrón
,sistema de alto vacío
,Equipo de revestimiento de pulverización por magnetrón de RF
Términos de pago y envío
Cantidad de orden mínima
1
Tiempo de entrega
45-60 días de trabajo
Descripción del Producto
Máquina de recubrimiento de vacío con pulverización por magnetrón
Sistema de recubrimiento avanzado que utiliza las restricciones del campo magnético para mejorar el bombardeo de plasma y garantizar una uniformidad superior de la película en varios materiales de sustrato.
Descripción general de la tecnología
El equipo de recubrimiento de pulverización por magnetrones de RF emplea tecnología de pulverización por magnetrones con fuente de alimentación de RF (normalmente 13,56MHz).El sistema ioniza gases inertes como el argón a través de campos eléctricos de radio frecuencia para generar plasmaBajo las restricciones del campo magnético, el plasma bombardea la superficie del material objetivo, haciendo que los átomos o moléculas escapen y se depositen uniformemente en las superficies del sustrato.
Características clave
- Excepcional adaptabilidad del material - capaz de pulverizar conductores, semiconductores e aislantes sin necesidad de tratamiento conductivo
- Proceso de recubrimiento suave con baja temperatura del sustrato minimiza el daño a los sustratos sensibles al calor, incluidos plásticos y polímeros
- Control preciso de la película a través de parámetros ajustables que incluyen potencia, presión y tiempo para un manejo preciso del grosor, la composición y la estructura
Ventajas de rendimiento
- Calidad de película superior con alta densidad, bajos índices de defectos y excelente adhesión del sustrato
- Tasa de pulverización estable y alta eficiencia de producción adecuada para el procesamiento industrial de lotes
- Funcionamiento respetuoso con el medio ambiente, utilizando únicamente gases inertes sin reactivos químicos, que cumpla las normas de producción ecológica
Aplicaciones industriales
Electrónica y semiconductores
Los demás electrodos y películas aislantes para chips de semiconductores, circuitos integrados y paneles de visualización
Sistemas ópticos
Películas antirreflectantes, reflectoras y filtros para lentes, instrumentos ópticos y módulos fotovoltaicos
Industriales y decorativos
Revestimientos resistentes al desgaste, a la corrosión y decorativos para herramientas de corte, moldes, componentes de hardware y vidrio arquitectónico
Nuevas tecnologías energéticas
Películas de electrodos de baterías de litio, capas de catalizadores de pilas de combustible y recubrimientos de pilas solares
Productos recomendados
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18207198662
Calle Lantang Sur, área de Duanzhou, ciudad de Zhaoqing, Guangdong 526060 China
