Calidad Máquina de recubrimiento de vacío por pulverización por magnétono RF con sistema de vacío alto, monitoreo de recubrimiento en tiempo real y tamaño de objetivo personalizable Fábrica

Máquina de recubrimiento de vacío por pulverización por magnétono RF con sistema de vacío alto, monitoreo de recubrimiento en tiempo real y tamaño de objetivo personalizable

Lugar de origen:Zhaoqing, Provincia de Cantón

Nombre de la marca:Zhongda

Proceso de dar un título:CE

Cantidad mínima de pedido:1

El tiempo de entrega:45-60 días de trabajo

Etiquetas:

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón

Sistema de recubrimiento de vacío con pulverización por magnetrón

con un contenido de aluminio superior a 10 W

Detalles del producto

Resaltar:

Máquina de revestimiento al vacío de farfulla con magnetrón

sistema de alto vacío

Equipo de revestimiento de pulverización por magnetrón de RF

Evaporation Power Supply: 1 JUEGO

Vacuum System: Altos vacío

Application: Óptico, decorativo, funcional

Coating Material: Metal, aleación, cerámica, etc.

Target Size: Personalizable

Coating Speed: 0,5-1,5 m/min

Coating Monitoring System: En tiempo real

Coating Materials: Metal, Cerámica, Materiales Orgánicos

Coating Chamber Size: Personalizado

Coating Density: ≥99.9%

Operation Way: pantalla táctil

Coating Hardness: ≥HV800

Chamber Material: Acero inoxidable

Operation Mode: Automático/manual

Descripción del Producto

Especificaciones y Características Detalladas

Máquina de recubrimiento de vacío con pulverización por magnetrón

Sistema de recubrimiento avanzado que utiliza las restricciones del campo magnético para mejorar el bombardeo de plasma y garantizar una uniformidad superior de la película en varios materiales de sustrato.

Descripción general de la tecnología

El equipo de recubrimiento de pulverización por magnetrones de RF emplea tecnología de pulverización por magnetrones con fuente de alimentación de RF (normalmente 13,56MHz).El sistema ioniza gases inertes como el argón a través de campos eléctricos de radio frecuencia para generar plasmaBajo las restricciones del campo magnético, el plasma bombardea la superficie del material objetivo, haciendo que los átomos o moléculas escapen y se depositen uniformemente en las superficies del sustrato.

Características clave

Excepcional adaptabilidad del material - capaz de pulverizar conductores, semiconductores e aislantes sin necesidad de tratamiento conductivo
Proceso de recubrimiento suave con baja temperatura del sustrato minimiza el daño a los sustratos sensibles al calor, incluidos plásticos y polímeros
Control preciso de la película a través de parámetros ajustables que incluyen potencia, presión y tiempo para un manejo preciso del grosor, la composición y la estructura

Ventajas de rendimiento

Calidad de película superior con alta densidad, bajos índices de defectos y excelente adhesión del sustrato
Tasa de pulverización estable y alta eficiencia de producción adecuada para el procesamiento industrial de lotes
Funcionamiento respetuoso con el medio ambiente, utilizando únicamente gases inertes sin reactivos químicos, que cumpla las normas de producción ecológica

Aplicaciones industriales

Electrónica y semiconductores

Los demás electrodos y películas aislantes para chips de semiconductores, circuitos integrados y paneles de visualización

Sistemas ópticos

Películas antirreflectantes, reflectoras y filtros para lentes, instrumentos ópticos y módulos fotovoltaicos

Industriales y decorativos

Revestimientos resistentes al desgaste, a la corrosión y decorativos para herramientas de corte, moldes, componentes de hardware y vidrio arquitectónico

Nuevas tecnologías energéticas

Películas de electrodos de baterías de litio, capas de catalizadores de pilas de combustible y recubrimientos de pilas solares

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