Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
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Joyería Relojes Accesorios Máquina de recubrimiento por pulverización catódica PVD por magnetrón al vacío Máquina PVD de acero inoxidable
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Joyería Relojes Accesorios Máquina de recubrimiento por pulverización catódica PVD por magnetrón al vacío Máquina PVD de acero inoxidable

Joyería Relojes Accesorios Máquina de recubrimiento por pulverización catódica PVD por magnetrón al vacío Máquina PVD de acero inoxidable

Lugar de origen guangdong
Nombre de la marca Lion King
Certificación CE
Detalles del producto
Solicitud:
Óptico, decorativo, funcional
Producto de recubrimiento:
Vidrio, metal, plástico, cerámica, etc.
Color de revestimiento:
Oro, plata, negro, azul, verde, etc.
Tamaño objetivo:
Personalizable
Material objetivo:
Metal, aleación, cerámica
Tecnología de recubrimiento:
Magnetrón pulverizando
Revestimiento:
Tin, Tic, Ticn, Tialn, CRN, Cu, Au, DLC
Material:
Acero inoxidable
Colores de recubrimiento:
Negro/azul/rojo
Tamaño de la máquina:
Personalizar
Espesor del revestimiento:
0.01-10 micras
Sistema de vacío:
Alto vacío
Uniformidad del recubrimiento:
≤±5%
Proceso de recubrimiento:
Magnetrón pulverizando
Fuente de alimentación:
DC/RF/AC
Material de sustrato:
Vidrio, metal, cerámica, plástico
Tamaño del sustrato:
Personalizable
Estructura de revestimiento:
Una sola capa, múltiples capas, gradiente, etc.
sistema de control:
PLC, pantalla táctil, manual
Tamaño del equipo de recubrimiento:
Personalizable
Material de revestimiento:
Metal, aleación, cerámica, material compuesto
Método de recubrimiento:
Magnetrón pulverizando
Resaltar: 

Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica magnetrón automatizada

,

Máquina de recubrimiento magnetrón para joyería

,

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón para joyería

Términos de pago y envío
Cantidad de orden mínima
1
Tiempo de entrega
20
Descripción del Producto

Pulverización Catódica por Magnetrón

Descripción General de la Tecnología

La pulverización catódica por magnetrón es una técnica versátil de Deposición Física de Vapor (PVD) ampliamente utilizada para depositar películas delgadas de alta calidad sobre diversos sustratos. Funciona ionizando un gas noble (por ejemplo, argón) en una cámara de alto vacío (presión < 10⁻³ Torr), creando plasma. Los iones energéticos del plasma bombardean un material objetivo, expulsando átomos que luego se depositan sobre el sustrato como una película uniforme y adherente. Este método es particularmente adecuado para metales, aleaciones, cerámicas y materiales compuestos, ofreciendo un control preciso sobre la composición y el espesor de la película.ModeloH1400H1500
Lion-1612 Diámetro de la cámara (mm) 1400 1500
1600 Diámetro máximo de bobina (mm) 600 700
700-750 Manual, semiautomático, automático, operación con pantalla táctil, controlado por PLC o computadora 12 12
12~16 600~1250 600~1250 600~1250
1050~1800 0~5 0~5 0~5
0~5 90~180 90~180 90~180
100~200 Velocidad de enrollado (m/min) 100~400 100~500
100~500 Área ocupada (m) 10*8*4.6 10*8*4.6
10*8*4.8 Generación de Plasma Generación de Plasma : Un campo eléctrico de alto voltaje ioniza el gas argón, produciendo iones Ar⁺ y electrones.

Confinamiento Magnético

  • : Un campo magnético (ortogonal al campo eléctrico) atrapa los electrones cerca de la superficie del objetivo, mejorando la eficiencia de ionización y la densidad del plasma.Proceso de Pulverización Catódica
  • : Los iones Ar⁺ acelerados impactan el objetivo, desalojando átomos que viajan al sustrato y forman una película delgada. El campo magnético minimiza el bombardeo de electrones del sustrato, reduciendo el daño por calor.Ventajas Clave
  • Uniformidad y Adhesión: Produce películas con una uniformidad de espesor excepcional (±5%) y una fuerte adhesión al sustrato debido al bombardeo de iones de alta energía.

Versatilidad de Materiales

  1. : Compatible con metales (por ejemplo, Ti, Cu), cerámicas (por ejemplo, SiO₂, Al₂O₃) y semiconductores.Deposición a Baja Temperatura
  2. : Adecuado para materiales sensibles al calor como plásticos y polímeros.Control del Proceso
  3. : Permite un ajuste preciso de las propiedades de la película (por ejemplo, conductividad, dureza) a través de los parámetros del plasma.Recubrimientos Multicomponente
  4. : Admite la pulverización catódica conjunta de múltiples objetivos para la producción de aleaciones o capas de gradiente.Industrias Aplicadas
  5. Electrónica: Empaquetado de CI, paneles de visualización y celdas fotovoltaicas.

Óptica

  • : Recubrimientos de baja emisividad (low-E) para eficiencia energética.Herramientas
  • : Recubrimientos de barrera térmica en álabes de turbina.Automotriz
  • : Acabados decorativos y resistentes a la corrosión en molduras y componentes.Medicina
  • : Recubrimientos biocompatibles para implantes e instrumentos.Efectos y Colores de Recubrimiento
  • Acabados de Superficie: Brillo metálico, texturas mate o patrones texturizados.

Gama de Colores

  • : Plata, oro, negro, azul y tonos personalizados mediante pulverización catódica reactiva (por ejemplo, TiN para acabados similares al oro).Tipos de Estructura
  • Magnetrón Planar: Ideal para deposición de área grande (por ejemplo, vidrio o paneles).

Magnetrón Rotatorio

  • : Mejora la utilización del objetivo y la tasa de deposición para sustratos cilíndricos o curvos.Magnetrón Desequilibrado
  • : Genera plasma con alta densidad de iones para películas densas y adherentes.Materiales de Sustrato
  • Plásticos (ABS, PET, PC), vidrio, cerámica, metales y compuestos.Materiales de Recubrimiento

Metales: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.

  • Cerámicas: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.

Aleaciones: NiCr, TiAl y superaleaciones.

  • Líneas de Producción de Soporte
  • Se integra con procesos posteriores al recubrimiento como curado UV o tratamiento de plasma para mejorar la funcionalidad.
  • Consumibles

Materiales objetivo (metálicos/cerámicos), gas argón y fuentes de alimentación de pulverización catódica.

  • AplicacionesÓptica: Espejos de alta reflectividad y recubrimientos antirreflejos.

Electrónica

  • : Óxidos conductores transparentes (ITO) para pantallas táctiles.

Aeroespacial

  • : Recubrimientos de barrera térmica en álabes de turbina.Vidrio Arquitectónico
  • : Recubrimientos de baja emisividad (low-E) para eficiencia energética.Personalización
  • Nuestros sistemas ofrecen diseños modulares con arreglos de magnetrones configurables, sistemas de bombeo de vacío y software de control de procesos para cumplir con requisitos de deposición específicos.Modelo de Equipo de Recubrimiento por Magnetrón (Altura ≤ 1.3m)
  • ModeloLion-0710

Lion-1012

Lion-1212



Lion-1412
Lion-1612
Lion-1813
industria relojera, industria 3C, industria de aparatos sanitarios, industria de joyeríaΦ700×H1000mm
industria relojera, industria 3C, industria de aparatos sanitarios, industria de joyeríaΦ1200×H1200mm
industria relojera, industria 3C, industria de aparatos sanitarios, industria de joyeríaΦ1600×H1200mm
industria relojera, industria 3C, industria de aparatos sanitarios, industria de joyeríaAplicación
industria relojera, industria 3C, industria de aparatos sanitarios, industria de joyeríaaccesorios de relojería, accesorios de teléfonos móviles, monturas de gafas, ropa, iluminación decorativa, sanitarios, maletas de hardware, vidrio, cerámica y plástico, etc.
Película de Recubrimiento
Ti-Oro, Oro Rosa, Oro Champagne, Oro Japonés, Plata Brillante, Arcoíris, Azul Joya, Rojo Rosa, Negro, etc.
Vacío
Estructura de puerta vertical, equipada con sistema de bombeo de aire y sistema de refrigeración por agua
Sistema de vacío
Bomba de mantenimiento + Bomba mecánica + Bomba Roots + Bomba de difusión
o Bomba molecular (modelo específico según los requisitos del cliente)
Vacuómetro
1 juego pirani, 1 juego cátodo frío, 1 juego manómetro de diafragma
Tipo de Suministro
CC, MF, pulsada (potencia de polarización, potencia de arco)
Último
30KW/1 juego
Potencia de Polarización
20KW/1 juego
20KW/1 juego
20KW/1 juego
30KW/1 juego
40KW/1 juego
60KW/1 juego
Fuente de Alimentación de Magnetrón
1-2 juego
1-2 juego






2-3 juego
3-4 juego
3-4 juego
3-4 juego
Rotación
Planetaria multieje con control de frecuencia (se puede controlar y ajustar)
Horneado
Temperatura
~
~
°C
°C
°C
°C
~
600
°C
se puede controlar y ajustar (control de temperatura PID)
GasControlAr, N₂ , O₂ , C₂H₂ , etc.Presión de AireMétodoPresión de Aire ControlManual, semiautomático, automático, operación con pantalla táctil, controlado por PLC o computadoraPresión de Aire0.5-0.8MPa
Agua
≤25°C ≥0.2MPa
Advertencia100~130KWPotencia Total100~130KW45~85KW65~105KW100~130KW95~125KW100~130KWSalida
Voltaje 380V, Frecuencia 50Hz (equipado según el estándar eléctrico nacional del cliente)
Ocupación
15~50m²
15~50m²
25~55m²
25~55m²
35~55m²
35~55m²
Observación
Diseñamos y producimos máquinas especiales según los requisitos del cliente, podemos agregar objetivo de pulverización catódica por magnetrón, objetivo doble MF, etc.

Etiquetas:

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón,

Sistema de recubrimiento de vacío con pulverización por magnetrón,

con un contenido de aluminio superior a 10 W

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