Qualität RF Magnetron Sputtering Vakuum Beschichtung Maschine mit hohem Vakuum-System, Echtzeit-Beschichtung Monitoring und anpassbare Zielgröße Fabrik

RF Magnetron Sputtering Vakuum Beschichtung Maschine mit hohem Vakuum-System, Echtzeit-Beschichtung Monitoring und anpassbare Zielgröße

Herkunftsort:Zhaoqing, Guangdong

Markenname:Zhongda

Zertifizierung:CE

Mindestbestellmenge:1

Lieferzeit:45-60 Arbeitstage

Tags:

Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine

Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungssystem

Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichter

Produktdetails

Hervorheben:

Hochvakuumsystem-Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsmaschine

Echtzeit-Beschichtungsüberwachung RF-Magnetron-Sputter-Beschichtungsgeräte

Anpassbare PVD-Beschichtungsmaschine mit Zielgröße

Evaporation Power Supply: 1 Satz

Vacuum System: Hohes Vakuum

Application: Optisch, dekorativ, funktional

Coating Material: Metall, Legierung, Keramik usw.

Target Size: Anpassbar

Coating Speed: 0,5-1,5 m/min

Coating Monitoring System: Echtzeit

Coating Materials: Metall, Keramik, organische Materialien

Coating Chamber Size: Maßgeschneidert

Coating Density: ≥ 99,9%

Operation Way: Touch-Screen

Coating Hardness: ≥HV800

Chamber Material: Edelstahl

Operation Mode: Automatisch/Handbuch

Produktbeschreibung

Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Maschine zur Vakuumbeschichtung mit Magnetronspritzer

Ein fortschrittliches Beschichtungssystem, das magnetische Feldbeschränkungen nutzt, um die Plasmabombardierung zu verbessern und eine überlegene Filmgleichheit in verschiedenen Substratmaterialien sicherzustellen.

Technologieübersicht

Die RF-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage verwendet eine Magnetron-Sputter-Technologie mit HF-Stromversorgung (normalerweise 13,56 MHz).Das System ionisiert inerte Gase wie Argon durch radiofrequente elektrische Felder, um Plasma zu erzeugenUnter Magnetfeldbeschränkungen bombardiert das Plasma die Zielmaterialoberfläche, wodurch Atome oder Moleküle entfliehen und sich gleichmäßig auf Substratoberflächen ablagern.

Wesentliche Merkmale

Außergewöhnliche Materialanpassungsfähigkeit - in der Lage, Leiter, Halbleiter und Isolatoren zu sprühen, ohne dass eine leitfähige Behandlung erforderlich ist
Ein sanfter Beschichtungsprozess mit niedriger Substrattemperatur minimiert Schäden an wärmeempfindlichen Substraten, einschließlich Kunststoffen und Polymeren
Präzise Filmkontrolle durch einstellbare Parameter einschließlich Leistung, Druck und Zeit für eine genaue Dicke, Zusammensetzung und Strukturmanagement

Leistungsvorteile

Überlegene Filmqualität mit hoher Dichte, geringer Defektquote und ausgezeichneter Substratadhäsion
Stabile Sputterraten und hohe Produktionseffizienz geeignet für die industrielle Chargenverarbeitung
Umweltschonender Betrieb mit ausschließlich inerten Gasen ohne chemische Reagenzien, der den Normen der grünen Produktion entspricht

Industrieanwendungen

Elektronik und Halbleiter

Elektroden und Isolierfolien für Halbleiterchips, integrierte Schaltungen und Display-Panels

Optische Systeme

Antireflexive, reflektierende und Filterfolien für Linsen, optische Instrumente und Photovoltaikmodule

Industrie und Dekoration

Verschleiß-, Korrosions- und Dekorationsbeschichtungen für Schneidwerkzeuge, Formen, Hardwarekomponenten und Architekturglas

Neue Energietechnologien

Lithiumbatterieelektrodenfolien, Katalysatorschichten für Brennstoffzellen und Beschichtungen für Solarzellen

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