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高真空システム、リアルタイム成膜モニタリング、カスタマイズ可能なターゲットサイズを備えたRFマグネトロンスパッタリング真空成膜装置
高真空システム、リアルタイム成膜モニタリング、カスタマイズ可能なターゲットサイズを備えたRFマグネトロンスパッタリング真空成膜装置
原産地:広東省肇慶市
ブランド名:Zhongda
認証:CE
最低注文数量:1
納期:45-60営業日
製品の詳細
ハイライト:
高真空方式マグネトロンスパッタリング真空成膜機
,リアルタイム成膜モニタリングRFマグネトロンスパッタリング成膜装置
,カスタマイズ可能なターゲットサイズ PVD コーティング機
Evaporation Power Supply:
1セット
Vacuum System:
高い真空
Application:
光学的、装飾的、機能的
Coating Material:
金属、合金、セラミックなど
Target Size:
カスタマイズ可能
Coating Speed:
0.5~1.5m/分
Coating Monitoring System:
リアルタイム
Coating Materials:
金属、セラミックス、有機材料
Coating Chamber Size:
カスタマイズされた
Coating Density:
99.9%以上
Operation Way:
タッチスクリーン
Coating Hardness:
≥HV800
Chamber Material:
ステンレス鋼
Operation Mode:
自動/マニュアル
製品説明
詳細な仕様と特徴
マグネトロンスプッティング真空塗装機
先進的なコーティングシステムで,プラズマ爆撃を強化し,様々な基板材料に優れたフィルム均一性を確保する磁場制約を利用する.
テクノロジーの概要
RF磁気スプッターコーティング機器は,RF電源 (通常13.56MHz) を搭載した磁気スプッター技術を使用する.システムでは,アルゴンなどの惰性ガスを電波電波電場を通して電離し,プラズマを生成します.磁場の制約下では,プラズマは標的材料の表面を爆撃し,原子や分子が脱出して基板表面に均等に堆積する.
主要 な 特徴
- 特殊な材料の適応性 - 導体,半導体,隔離材を伝導処理を必要とせずにスプートすることができる
- 低基質温度での柔らかいコーティングプロセスは,プラスチックやポリマーを含む熱に敏感な基質への損傷を最小限に抑える
- 正確な厚さ,組成,構造管理のためのパワー,圧力,時間を含む調整可能なパラメータを通じて正確なフィルム制御
パフォーマンス・アドバンテージ
- 高密度,低欠陥率,優れた基板粘着性で優れたフィルム品質
- 安定したスプッター率と高生産効率,工業用批量加工に適した
- 化学反応剤なしで無活性ガスのみを使用し,グリーン生産基準を満たす環境に優しい操作
産業用用途
エレクトロニクス & 半導体
半導体チップ,集積回路,ディスプレイパネルの電極および隔離膜
オプティカルシステム
レンズ,光学機器,太陽光モジュールのための反射,反射,フィルタフィルム
工業用・装飾用
切削道具,模具,ハードウェア部品,建築用ガラスの耐着,耐腐蝕,装飾用コーティング
新しいエネルギー技術
リチウム電池電極フィルム,燃料電池触媒層,太陽電池コーティング
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