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Macchina per rivestimento a vuoto sputtering magnetron
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RF Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine con sistema ad alto vuoto, monitoraggio del rivestimento in tempo reale e dimensioni bersaglio personalizzabili
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RF Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine con sistema ad alto vuoto, monitoraggio del rivestimento in tempo reale e dimensioni bersaglio personalizzabili
| Luogo di origine | Guangdong |
| Marca | Lion King |
| Certificazione | CE |
Dettagli del prodotto
Evaporazione dell'alimentazione:
1 INSIEME
Sistema a vuoto:
Vuoto alto
Applicazione:
Ottico, decorativo, funzionale
Materiale di rivestimento:
Metallo, lega, ceramica, ecc.
Dimensione target:
Personalizzabile
Velocità di rivestimento:
0,5-1,5 metri/minuto
Sistema di monitoraggio del rivestimento:
In tempo reale
Materiali di rivestimento:
Metallo, Ceramica, Materiali Organici
Dimensione della camera di rivestimento:
Personalizzato
Densità di rivestimento:
≥99,9%
Modo operativo:
schermo tattile
Durezza del rivestimento:
≥Hv800
Materiale della camera:
Acciaio inossidabile
Modalità operativa:
Automatico/manuale
Evidenziare:
Macchina per rivestimento sottovuoto con sistema ad alto vuoto Magnetron Sputtering
,Monitoraggio del rivestimento in tempo reale
,Macchina per rivestimento PVD con dimensioni target personalizzabili
Termini di pagamento e di spedizione
Quantità di ordine minimo
1
Tempi di consegna
45-60 giorni di lavoro
Descrizione del prodotto
Macchine per rivestimento a vuoto con sputtering magnetronico
Sistema di rivestimento avanzato che utilizza i vincoli del campo magnetico per migliorare il bombardamento del plasma e garantire un'uniformità superiore della pellicola su vari materiali del substrato.
Visualizzazione della tecnologia
Le apparecchiature di rivestimento per lo sputtering a magnetroni RF utilizzano la tecnologia di sputtering a magnetroni con alimentazione a RF (in genere 13,56MHz).Il sistema ionizza gas inerti come l'argon attraverso campi elettrici a radiofrequenza per generare plasmaSotto i vincoli del campo magnetico, il plasma bombarda la superficie del materiale bersaglio, causando l'escapamento di atomi o molecole che si depositano uniformemente sulle superfici del substrato.
Caratteristiche chiave
- eccezionale adattabilità dei materiali - in grado di sputtere conduttori, semiconduttori e isolanti senza richiedere un trattamento conduttivo
- Il processo di rivestimento delicato con bassa temperatura del substrato riduce al minimo i danni ai substrati sensibili al calore, comprese le materie plastiche e i polimeri
- Controllo preciso della pellicola attraverso parametri regolabili tra cui potenza, pressione e tempo per una gestione accurata dello spessore, della composizione e della struttura
Vantaggi di prestazione
- Qualità della pellicola superiore con elevata densità, basso tasso di difetti e eccellente adesione al substrato
- Tassi di sputtering stabili e elevata efficienza produttiva adatti alla lavorazione industriale dei lotti
- Funzionamento rispettoso dell'ambiente, utilizzando solo gas inerti senza reagenti chimici, conforme alle norme di produzione ecologica
Applicazioni industriali
Electronica e semiconduttori
Elettrodi e pellicole isolanti per chip semiconduttori, circuiti integrati e pannelli di visualizzazione
Sistemi ottici
Film antiriflesso, riflettenti e filtri per lenti, strumenti ottici e moduli fotovoltaici
Industriali e decorativi
Rivestimenti resistenti all'usura, alla corrosione e decorativi per utensili da taglio, stampi, componenti hardware e vetri architettonici
Nuove tecnologie energetiche
Pellicole di elettrodi per batterie al litio, strati di catalizzatori per celle a combustibile e rivestimenti per celle solari
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Lantang South road, Zona di Duanzhou, città di Zhaoqing, Guangdong 526060 Cina
