Аксессуары для ванной комнаты из нержавеющей стали / Вакуумная установка PVD-напыления золотом / Оборудование для магнетронного напыления

Он состоит из модуля импульсного источника питания, камеры магнетронного распыления, узла материала мишени, вакуумной системы, узла передачи подложки и контроля температуры, а также системы онлайн-мониторинга и т. д.

Выдавая импульсное напряжение с частотой от 10 до 350 кГц, распыление мишени достигается на этапе отрицательного напряжения, а электроны вводятся на этапе положительного напряжения для нейтрализации накопленных положительных зарядов на поверхности мишени. Во время работы камера сначала вакуумируется, и вводятся рабочие газы, такие как аргон. После того, как импульсный источник питания подает напряжение, газ ионизируется с образованием плазмы. Под воздействием магнитного поля плазма бомбардирует материал мишени, вызывая отрыв атомов или молекул материала мишени и осаждение на поверхности подложки с образованием пленки.

Оборудование может точно регулировать основные параметры, такие как частота импульсов, рабочий цикл и пиковая мощность, адаптируясь к различным материалам мишеней и требованиям к покрытию. Регулируя рабочий цикл, можно также сбалансировать тепловыделение материала мишени и скорость распыления. Некоторые модели высокого класса могут достигать частоты импульсов до 150 кГц, что может удовлетворить требования к осаждению сложных слоев пленки.

Он может не только обрабатывать металлические мишени, такие как Ti и Al, но и обеспечивать стабильное распыление изоляционных мишеней, таких как Al₂O₃ и TiO₂, с помощью двунаправленных импульсных или среднечастотных режимов переменного тока. Кроме того, конструкция низкотемпературного процесса может быть адаптирована к различным материальным подложкам, таким как стекло, пластик и ПЭТ, и особенно подходит для нанесения покрытий на термочувствительные подложки, такие как гибкие OLED.

Основные модели оснащены несколькими интегрированными вакуумными манипуляторами, онлайн-контролем толщины пленки и системами автоматического выравнивания, поддерживающими непрерывное производство в нескольких камерах.

Периодический режим работы импульсного источника питания может эффективно подавлять дуговой разряд на поверхности мишени и уменьшать дефекты пленки. В то же время импульсы высокой мощности могут генерировать плазму высокой плотности, делая слой пленки более плотным.

Коэффициент использования материала мишени оборудования может быть увеличен с 20% до 45%, потребление материала мишени может быть уменьшено на 40%, а стоимость использования редких металлов, таких как ITO, может быть снижена на 30%. Кроме того, скорость осаждения может достигать 10 нм/с, что значительно повышает эффективность производства.

Во время осаждения оксидных, нитридных и других композитных пленок реакционный газ, адсорбированный на поверхности мишени, может десорбироваться во время интервала импульса, предотвращая образование изоляционного слоя на поверхности мишени и решая проблему отравления мишени в традиционном магнетронном распылении постоянного тока, что делает распыление неустойчивым.