اكسسوارات الحمام المعدنية من الفولاذ المقاوم للصدأ / آلة طلاء الفراغ PVD باللون الذهبي القصديري / معدات طلاء التذرية المغناطيسية

يتكون من وحدة إمداد الطاقة النبضية، وغرفة الرش المغناطيسي، وتجميع مادة الهدف، ونظام التفريغ، ووحدة نقل الركيزة والتحكم في درجة الحرارة، بالإضافة إلى نظام مراقبة عبر الإنترنت، إلخ.

عن طريق إخراج جهد نبضي بتردد يتراوح من 10 إلى 350 كيلو هرتز، يتم تحقيق رش الهدف في مرحلة الجهد السالب، ويتم إدخال الإلكترونات في مرحلة الجهد الموجب لتحييد الشحنات الموجبة المتراكمة على سطح الهدف. أثناء التشغيل، يتم أولاً إخلاء الغرفة إلى فراغ ويتم إدخال غازات العمل مثل الأرجون. بعد أن يطبق مصدر الطاقة النبضي الجهد، يتأين الغاز لتكوين البلازما. تحت قيود المجال المغناطيسي، تقصف البلازما مادة الهدف، مما يتسبب في انفصال ذرات أو جزيئات مادة الهدف وترسبها على سطح الركيزة لتكوين فيلم.

يمكن للمعدات ضبط المعلمات الأساسية بدقة مثل تردد النبض ودورة العمل والطاقة القصوى، والتكيف مع مواد الهدف المختلفة ومتطلبات الطلاء. عن طريق ضبط دورة العمل، يمكن أيضًا تحقيق التوازن بين توليد الحرارة لمادة الهدف ومعدل الرش. يمكن لبعض الطرز المتطورة تحقيق تردد نبضي يصل إلى 150 كيلو هرتز، والذي يمكنه تلبية متطلبات الترسيب لطبقات الأفلام المعقدة.

لا يمكنه فقط التعامل مع أهداف معدنية مثل Ti و Al، ولكنه يحقق أيضًا رشًا مستقرًا لأهداف عازلة مثل Al₂O₃ و TiO₂ من خلال أوضاع النبض ثنائي الاتجاه أو التيار المتردد متوسط التردد. علاوة على ذلك، يمكن تكييف تصميم العملية منخفضة الحرارة مع ركائز المواد المختلفة مثل الزجاج والبلاستيك و PET، وهو مناسب بشكل خاص لطلاء الركائز الحساسة للحرارة مثل OLeds المرنة.

تم تجهيز النماذج السائدة بآليات تفريغ مدمجة متعددة، ومراقبة سمك الفيلم عبر الإنترنت، وأنظمة محاذاة تلقائية، ودعم الإنتاج المستمر في غرف متعددة.

يمكن لوضع العمل الدوري لمصدر الطاقة النبضي أن يمنع بشكل فعال تفريغ القوس على سطح الهدف ويقلل من عيوب الفيلم. في الوقت نفسه، يمكن للنبضات عالية الطاقة أن تولد بلازما عالية الكثافة، مما يجعل طبقة الفيلم أكثر كثافة.

يمكن زيادة معدل استخدام مادة الهدف للمعدات من 20٪ إلى 45٪، ويمكن تقليل استهلاك مادة الهدف بنسبة 40٪، ويمكن تقليل تكلفة استخدام المعادن النادرة مثل ITO بنسبة 30٪. علاوة على ذلك، يمكن أن يصل معدل الترسيب إلى 10 نانومتر / ثانية، مما يعزز بشكل كبير كفاءة الإنتاج.

أثناء ترسيب الأكسيد والنيتريد وأفلام المركبات الأخرى، يمكن إزالة الغاز المتفاعل الممتص على سطح الهدف أثناء الفاصل الزمني للنبض، مما يمنع تكوين طبقة عازلة على سطح الهدف وحل مشكلة تسمم الهدف في الرش المغناطيسي DC التقليدي الذي يجعل الرش غير مستدام.