Introdução
Um revestimento de pulverização por magnetrão é um dispositivo baseado na tecnologia de pulverização por magnetrão.
Por que é bom: É conhecido por produzir filmes uniformes e densos com forte adesão.
Para que serve?:Amplamente utilizado para revestimento de peças de hardware, bem como revestimento funcional em campos como semicondutores, lentes ópticas e ferramentas de corte.
Revestimento de pulverização por magnétono
A pulverização por magnetrão é um processo de revestimento por plasma pelo qual o material de pulverização é ejetado devido ao bombardeio de íons na superfície alvo.A câmara de vácuo da máquina de revestimento PVD é preenchida com um gás inerteAplicando uma alta tensão, uma descarga de brilho é criada, resultando em aceleração de íons para a superfície alvo e um revestimento de plasma.Os íons argônio ejetarão materiais de pulverização da superfície alvo (pulverização)A tecnologia de pulverização por magneto é caracterizada por:
* Um alvo resfriado a água, gerando pouco calor de radiação
* Quase todos os materiais metais podem ser pulverizados sem decomposição
* Os materiais não condutores podem ser pulverizados utilizando radiofrequência (RF)
ou potência de média frequência (MF)
* Os revestimentos de óxido podem ser pulverizados (pulverizado reativo)
* Excelente uniformidade das camadas
* Revestimentos de pulverização muito lisos (sem gotículas)
* Os cátodos (de até 2 metros de comprimento) podem ser colocados em qualquer posição, por isso
flexibilidade do projecto do equipamento de pulverização
A máquina oferece revestimentos em várias cores metálicas, tais como ouro, ouro rosa, prata, aço, níquel, bronze, antracita e preto.que é composto de zircônioA nossa equipa de engenharia de processos pode ajustar a cor de acordo com as suas necessidades, para que possa ser único no seu mercado.
É amplamente utilizado em relógios, gavetas, jóias, telefones inteligentes, produtos eletrônicos, produtos sanitários, equipamentos de golfe, artigos de mesa, cosméticos, etc.Pode depositar todo o tipo de revestimentos decorativos como o TiN., TiC, TiCN, TiAlN, CrN, etc. e revestimentos Af.
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Tipo de filme comum
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Aplicações típicas
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Filmes de metais e ligas:
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De potência não superior a 1000 W
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Filmes isolantes
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Isolamento, protecção; utilizado para embalagens de componentes electrónicos, substratos de dispositivos ópticos
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Filmes ópticos
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Para lentes, ecrãs, filtros ópticos
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Filmes decorativos e protetores
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Para tratamento de superfícies de joias, ferramentas, ferramentas de corte e moldes
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Filmes compostos funcionais
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Conductividade transparente, propriedade antibacteriana, hidrofobidade; adequado para exibição electrónica, dispositivos médicos, novos produtos energéticos
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Características do equipamento: torna o filme suave e compacto, e a espessura do filme pode crescer linearmente.
Aplicação do equipamento: tacos de golfe, cerâmica, produtos de vidro, caixa de telemóvel, pulseira de caixa de relógio, jóias de luxo, artigos de mesa, etc.
Cor do processoOuro de titânio, ouro japonês, ouro rosa, ouro de champanhe, ouro de café, ouro negro, azul de gemas, sete cores, etc.
Notas: A configuração e o tamanho do equipamento de revestimento devem ser personalizados de acordo com as exigências dos clientes e os produtos processados pelos clientes.
Estrutura:
É composto por um módulo de alimentação por pulsos, uma câmara de pulverização de magnetrão, um conjunto de material alvo, um sistema de vácuo, uma unidade de transmissão e controlo de temperatura do substrato,bem como um sistema de monitorização online, etc.
Princípio de funcionamento:
A partir de uma tensão de saída de pulso com uma frequência que varia de 10 a 350 kHz, a pulverização alvo é obtida no estágio de tensão negativa,e os elétrons são introduzidos no estágio de tensão positiva para neutralizar as cargas positivas acumuladas na superfície alvoDurante a operação, a câmara é primeiro evacuada para um vácuo e gases de trabalho, como o argônio, são introduzidos.Sob a restrição do campo magnético, o plasma bombardeia o material alvo, fazendo com que os átomos ou moléculas do material alvo se separem e se depositem na superfície do substrato para formar um filme.
Características
Os parâmetros do pulso são flexíveis e ajustáveis:
O equipamento pode ajustar com precisão parâmetros essenciais como frequência de pulso, ciclo de trabalho e potência de pico, adaptando-se a diferentes materiais alvo e requisitos de revestimento.a geração de calor do material alvo e a taxa de pulverização também podem ser equilibradasAlguns modelos de ponta podem atingir uma frequência de pulso de até 150 kHz, o que pode satisfazer os requisitos de deposição de camadas de filme complexas.
Compatibilidade com diversos materiais e substratos alvo:
Ele não só pode lidar com alvos metálicos como Ti e Al, mas também alcançar pulverização estável de alvos isolantes como Al2O3 e TiO2 através de pulsos bidirecionais ou modos de CA de frequência média.Além disso,, o projeto de processo a baixa temperatura pode ser adaptado a diferentes substratos de materiais, como vidro, plástico e PET,e é particularmente adequado para revestimento de substratos sensíveis ao calor, como OLEDs flexíveis.
Alto grau de integração e inteligência:
Os modelos convencionais são equipados com múltiplos manipuladores de vácuo integrados, monitoramento de espessura da película on-line e sistemas de alinhamento automático, que suportam a produção contínua em várias câmaras.
Vantagens
Reduzir significativamente os defeitos da camada de filme:
O modo de funcionamento periódico da fonte de alimentação de pulso pode suprimir eficazmente a descarga de arco na superfície alvo e reduzir os defeitos do filme.pulsos de alta potência podem gerar plasma de alta densidade, tornando a camada de filme mais densa.
Melhorar a utilização dos recursos e a eficiência económica:
A taxa de utilização do material alvo do equipamento pode ser aumentada de 20% para 45%, o consumo de material alvo pode ser reduzido em 40%,e o custo da utilização de metais raros como o ITO pode ser reduzido em 30%Além disso, a taxa de deposição pode atingir 10nm/s, aumentando significativamente a eficiência da produção.
Evitar o problema do envenenamento do alvo:
Durante a deposição de óxido, nitruro e outras películas compostas, o gás de reação adsorvido na superfície alvo pode ser dessorbido durante o intervalo de pulso,prevenção da formação de uma camada isolante na superfície alvo e solução do problema do envenenamento do alvo no pulverizador de magnetrão DC tradicional que torna o pulverizador insustentável.
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Modelo
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IF-12515
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MAIF-1820
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MAIF-2323
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MAT-2345
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MAT1-2368
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Tamanho da câmara ((mm)
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D1250 × H1500
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D1800 × H2000
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D2300 × H2300
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D2300-2500*H4500
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D2300-2500*H6800
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Sistema de bombeamento
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Bomba mecânica + Bomba de raízes + Bomba de difusão + Bomba de manutenção
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Arco
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10
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18
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22
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40-42
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58-62
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Potência de arco
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200A
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Potência de Bias
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30 kW-120 kW
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Gás
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Ar,N2,C2H2,O2
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Refrigeração
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Circulação de refrigeração de água, equipado com torre de refrigeração industrial ou refrigerador de água industrial (máquina de refrigeração) ou sistema criogénico (providenciado pelos clientes)
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Índice de vácuo
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Tempo de extracção (estado frio sem carga):da atmosfera a 9,9 × 10―3Pa≤10min
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Vaccum Último
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Superiores a 5,0×10―4Pa
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A pressão aumenta
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Taxa de fuga de ar no estado a frio da máquina nova ≤ 0,5 Pa/h
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Potência de circulação
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De acordo com a configuração específica
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Frequência de saída
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Fabricados sob medida
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Ocupação
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10
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15
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18
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50
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75
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Acessórios
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Forno, torre de água, bomba de água, compressor de ar, estacionamento, tanque de água ou piscina
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Observação
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Todas as configurações podem ser personalizadas
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