Lion King Vacuum Technology Co., Ltd
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Badezimmerzubehör aus Edelstahl Metall/Zinngold-PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine/Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage
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Badezimmerzubehör aus Edelstahl Metall/Zinngold-PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine/Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage

Herkunftsort Guangdong
Markenname Lion King
Zertifizierung CE
Produktdetails
Beschichtungsgeschwindigkeit:
Hoch
Kontrollsystem:
SPS mit Touchscreen
Material der Vakuumkammer:
Kohlenstoffstahl oder Edelstahl
Beschichtungstransparenz:
Hoch
Streichfarbe:
Silber, Gold, Roségold, Schwarz usw.
Stromspannung:
380 V, 50 Hz oder maßgeschneidert gemacht
Beschichtung Stromversorgung:
DC/RF/AC
Maschinengröße:
Anpassbar
Zustand:
Neu
Anwendung:
Optisch, dekorativ, funktional
Beschichtungsprodukt:
Glas, Metall, Kunststoff, Keramik usw.
Gleichmäßigkeit der Beschichtung:
≤ ± 5%
Beschichtungsmethode:
Magnetronsputter
Vakuumsystem:
Hoch
Garantie:
1 Jahr
Hervorheben: 

PVD-Beschichtungsmaschine aus Edelstahl

,

Ausrüstung zum Magnetron-Sputtern von Zinngold

,

Vakuum-Beschichtungsmaschine mit Garantie

Zahlungs- und Versandbedingungen
Min Bestellmenge
1
Lieferzeit
45-60 Arbeitstage
Produktbeschreibung
Einleitung

Ein Magnetron-Sputterbeschichter ist ein Gerät, das auf der Magnetron-Sputtertechnologie basiert. Es verwendet magnetfeldgebundene Ionen, um Ziele zu bombardieren und gleichmäßige, dichte Filme auf Substraten abzuscheiden.

 

Warum es gut ist: Es ist bekannt für die Herstellung gleichmäßiger, dichter Filme mit starker Haftung.

 

Wofür es gedacht ist: Weit verbreitet für die Beschichtung von Hardwareteilen sowie für Funktionsbeschichtungen in Bereichen wie Halbleitern, optischen Linsen und Schneidwerkzeugen.


Magnetron-Sputterbeschichtung
Magnetron-Sputtern ist ein Plasma-Beschichtungsverfahren, bei dem Sputtermaterial durch die Bombardierung von Ionen auf die Zieloberfläche ausgestoßen wird. Die Vakuumkammer der PVD-Beschichtungsmaschine wird mit einem Inertgas wie Argon gefüllt. Durch Anlegen einer Hochspannung wird eine Glimmentladung erzeugt, die zur Beschleunigung von Ionen zur Zieloberfläche und zu einer Plasmabeschichtung führt. Die Argon-Ionen stoßen Sputtermaterialien von der Zieloberfläche (Sputtern) aus, was zu einer gesputterten Beschichtungsschicht auf den Produkten vor dem Ziel führt. Die Magnetron-Sputtertechnologie zeichnet sich aus durch:

* Ein wassergekühltes Ziel, so dass wenig Strahlungswärme erzeugt wird
* Fast jedes metallische Zielmaterial kann ohne Zersetzung gesputtert werden
* Nichtleitende Materialien können durch Verwendung von Hochfrequenz (HF) gesputtert werden
oder Mittelfrequenz (MF) Leistung
* Oxidbeschichtungen können gesputtert werden (reaktives Sputtern)
* Ausgezeichnete Schichtgleichmäßigkeit
* Sehr glatte gesputterte Beschichtungen (keine Tröpfchen)
* Kathoden (bis zu 2 Meter lang) können in jeder Position platziert werden, daher hohe
Flexibilität des Sputteranlagen-Designs


Die Maschine bietet Beschichtungen in verschiedenen Metallfarben wie Gold, Roségold, Silber, Stahl, Nickel, Bronze, Anthrazit und Schwarz. Die Farbe der Beschichtung wird durch ihre Zusammensetzung bestimmt, die aus Zirkonium, Titan, Stickstoff, Kohlenstoff, Sauerstoff und anderen Metallen besteht. Unser Verfahrenstechnik-Team kann die Farbe nach Ihren Anforderungen fein abstimmen, so dass Sie in Ihrem Markt einzigartig sein können.


Es wird häufig in Armbändern, Uhrengehäusen, Schmuck, Smartphones, elektronischen Produkten, Sanitärartikeln, Golf-Hardware, Geschirr, Kosmetika usw. verwendet. Es kann alle Arten von dekorativen Beschichtungen wie TiN, TiC, TiCN, TiAlN, CrN usw. und Af-Beschichtungen abscheiden.


Üblicher Filmtyp
 Typische Anwendungen
Metall- und Legierungsfilme: 
Geeignet für Halbleiterverbindungen, Elektroden für elektronische Geräte
Isolierende Filme
Isolierung, Schutz; verwendet für die Verpackung elektronischer Komponenten, Substrate für optische Geräte
Optische Filme
Für Linsen, Displays, optische Filter
Dekorative & Schutzfilme
Für die Oberflächenbehandlung von Schmuck, Hardware, Schneidwerkzeugen und Formen
Funktionelle Verbundfilme
Transparente Leitfähigkeit, antibakterielle Eigenschaften, Hydrophobie; geeignet für elektronische Displays, medizinische Geräte, neue Energieprodukte
 
Gerätemerkmale: Es macht den Film glatt und kompakt, und die Filmdicke kann linear wachsen.

Geräteanwendung: Golfschläger, Keramik, Glasprodukte, Handyhüllen, Uhrengehäuse-Armbänder, hochwertiger Schmuck, Geschirr usw.

Prozessfarbe: Titangold, japanisches Gold, Roségold, Champagnergold, Kaffeegold, Schwarzgold, Edelsteinblau, siebenfarbig usw.

Hinweis: Die Konfiguration und Größe der Beschichtungsanlage sind gemäß den Anforderungen der Kunden und den von den Kunden verarbeiteten Produkten anzupassen.

Struktur:

Es besteht aus einem Impulsstromversorgungsmodul, einer Magnetron-Sputterkammer, einer Zielmaterialbaugruppe, einem Vakuumsystem, einer Substratübertragungs- und Temperaturregeleinheit sowie einem Online-Überwachungssystem usw.

Funktionsprinzip:

Durch die Ausgabe einer Impulsspannung mit einer Frequenz von 10 bis 350 kHz wird das Ziel-Sputtern in der negativen Spannungsphase erreicht, und in der positiven Spannungsphase werden Elektronen eingeführt, um die auf der Zieloberfläche akkumulierten positiven Ladungen zu neutralisieren. Während des Betriebs wird die Kammer zuerst evakuiert und Arbeitsgase wie Argon werden eingeführt. Nachdem die Impulsstromversorgung Spannung angelegt hat, wird das Gas ionisiert, um Plasma zu bilden. Unter der Einschränkung des Magnetfelds bombardiert das Plasma das Zielmaterial, wodurch sich die Atome oder Moleküle des Zielmaterials ablösen und sich auf der Oberfläche des Substrats ablagern, um einen Film zu bilden.

Merkmale
Die Impulsparameter sind flexibel und einstellbar:

Das Gerät kann Kernparameter wie Impulsfrequenz, Tastverhältnis und Spitzenleistung präzise einstellen und sich an verschiedene Zielmaterialien und Beschichtungsanforderungen anpassen. Durch Einstellen des Tastverhältnisses kann auch die Wärmeentwicklung des Zielmaterials und die Sputterrate ausgeglichen werden. Einige High-End-Modelle können eine Impulsfrequenz von bis zu 150 kHz erreichen, was die Abscheidungsanforderungen komplexer Filmschichten erfüllen kann.

Kompatibel mit verschiedenen Zielmaterialien und Substraten:

Es kann nicht nur Metallziele wie Ti und Al verarbeiten, sondern auch ein stabiles Sputtern von isolierenden Zielen wie Al₂O₃ und TiO₂ durch bidirektionale Impuls- oder Mittelfrequenz-Wechselstrommodi erreichen. Darüber hinaus kann das Niedertemperatur-Prozessdesign an verschiedene Materialsubstrate wie Glas, Kunststoff und PET angepasst werden und eignet sich besonders für die Beschichtung wärmeempfindlicher Substrate wie flexibler OLEDs.

Hoher Grad an Integration und Intelligenz:

Mainstream-Modelle sind mit mehreren integrierten Vakuummanipulatoren, Online-Filmdickenüberwachung und automatischen Ausrichtungssystemen ausgestattet, die die kontinuierliche Produktion in mehreren Kammern unterstützen.

Vorteile
Reduzieren Sie Filmfehlstellen erheblich:

Der periodische Arbeitsmodus der Impulsstromversorgung kann die Lichtbogenentladung auf der Zieloberfläche effektiv unterdrücken und Filmfehler reduzieren. Gleichzeitig können Hochleistungsimpulse hochdichtes Plasma erzeugen, wodurch die Filmschicht dichter wird.

Verbessern Sie die Ressourcenauslastung und die wirtschaftliche Effizienz:

Die Zielmaterialausnutzungsrate des Geräts kann von 20 % auf 45 % erhöht werden, der Zielmaterialverbrauch kann um 40 % reduziert werden und die Kosten für die Verwendung seltener Metalle wie ITO können um 30 % gesenkt werden. Darüber hinaus kann die Abscheidungsrate 10 nm/s erreichen, was die Produktionseffizienz erheblich steigert.

Vermeidung des Problems der Zielvergiftung:

Während der Abscheidung von Oxid-, Nitrid- und anderen Verbundfilmen kann das auf der Zieloberfläche adsorbierte Reaktionsgas während des Impulsintervalls desorbiert werden, wodurch die Bildung einer Isolierschicht auf der Zieloberfläche verhindert und das Problem der Zielvergiftung beim herkömmlichen DC-Magnetron-Sputtern gelöst wird, das das Sputtern unhaltbar macht.

Modell
IF-12515
MAIF-1820
MAIF-2323
MAT-2345
MAT1-2368
Kammergröße (mm)
D1250×H1500
D1800×H2000
D2300×H2300
D2300-2500*H4500
D2300-2500*H6800
Pumpensystem
Mechanische Pumpe + Roots-Pumpe + Diffusionspumpe + Wartungspumpe
Bogen
10
18
22
40-42
58-62
Bogenleistung
200A
Vorspannungsleistung
30KW--120KW
Gas
Ar,N₂,C₂H₂,O₂
Kühlung
Wasserkühlungskreislauf, ausgestattet mit Industriekühlturm oder industriellem Wasserkühler (Kältemaschine) oder kryogenem System. (Kunden stellen bereit)
Vakuumindex
Extraktionszeit (unbelasteter Kaltzustand): von Atmosphäre bis 9,9×10⁻³Pa ≤ 10min
Ultimatives Vakuum
Über 5,0×10⁻⁴Pa
Druckanstieg
Neumaschinen-Kaltzustand-Luftleckrate ≤ 0,5Pa/h
Betriebsleistung
Je nach spezifischer Konfiguration
Ausgabefrequenz
Kundenspezifisch
Besetzung
10
15
18
50
75
Zubehör
Ofen, Wasserturm, Wasserpumpe, Luftkompressor, Vorrichtungsgestell, Wassertank oder -becken
Bemerkung
Alle Konfigurationen können kundenspezifisch angefertigt werden

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