পিভিডি স্পটারিং আইওন লেপ মেশিন মেটাল ফিল্ম ইলেকট্রনিক ক্ষেত্র প্রস্তুতের জন্য ব্যবহৃত ম্যাগনেট্রন স্পটারিং লেপ

এটি একটি পালস পাওয়ার সাপ্লাই মডিউল, একটি ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং চেম্বার, একটি টার্গেট উপাদান সমাবেশ, একটি ভ্যাকুয়াম সিস্টেম, একটি সাবস্ট্রেট ট্রান্সমিশন এবং তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ ইউনিট, সেইসাথে একটি অনলাইন মনিটরিং সিস্টেম ইত্যাদি নিয়ে গঠিত।

10 থেকে 350kHz পর্যন্ত একটি ফ্রিকোয়েন্সি সহ একটি পালস ভোল্টেজ আউটপুট করে, নেগেটিভ ভোল্টেজ পর্যায়ে টার্গেট স্পুটারিং সম্পন্ন হয় এবং টার্গেট পৃষ্ঠের উপর জমা হওয়া ধনাত্মক চার্জকে নিরপেক্ষ করতে পজিটিভ ভোল্টেজ পর্যায়ে ইলেকট্রন প্রবেশ করানো হয়। অপারেশনের সময়, চেম্বারটি প্রথমে ভ্যাকুয়ামে খালি করা হয় এবং আর্গনের মতো কার্যকরী গ্যাস প্রবেশ করানো হয়। পালস পাওয়ার সাপ্লাই ভোল্টেজ প্রয়োগ করার পরে, গ্যাসটি প্লাজমা তৈরি করতে আয়নিত হয়। চৌম্বক ক্ষেত্রের সীমাবদ্ধতার অধীনে, প্লাজমা টার্গেট উপাদানকে আঘাত করে, যার ফলে টার্গেট উপাদানের পরমাণু বা অণুগুলি বিচ্ছিন্ন হয়ে যায় এবং ফিল্ম তৈরি করতে সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠের উপর জমা হয়।

সরঞ্জামগুলি পালস ফ্রিকোয়েন্সি, ডিউটি ​​সাইকেল এবং পিক পাওয়ারের মতো মূল পরামিতিগুলিকে সুনির্দিষ্টভাবে সামঞ্জস্য করতে পারে, যা বিভিন্ন টার্গেট উপাদান এবং আবরণ প্রয়োজনীয়তার সাথে মানানসই। ডিউটি ​​সাইকেল সামঞ্জস্য করে, টার্গেট উপাদানের তাপ উৎপাদন এবং স্পুটারিং হারকেও ভারসাম্যপূর্ণ করা যেতে পারে। কিছু উচ্চ-শ্রেণীর মডেল 150kHz পর্যন্ত পালস ফ্রিকোয়েন্সি অর্জন করতে পারে, যা জটিল ফিল্ম স্তরের জমা করার প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে পারে।

এটি শুধুমাত্র Ti এবং Al-এর মতো ধাতব টার্গেটগুলি পরিচালনা করতে পারে না, তবে দ্বি-দিকনির্দেশক পালস বা মাঝারি-ফ্রিকোয়েন্সি এসি মোডের মাধ্যমে Al₂O₃ এবং TiO₂-এর মতো ইনসুলেটিং টার্গেটগুলির স্থিতিশীল স্পুটারিংও অর্জন করতে পারে। তদুপরি, নিম্ন-তাপমাত্রার প্রক্রিয়া ডিজাইন কাঁচ, প্লাস্টিক এবং পিইটি-এর মতো বিভিন্ন উপাদান সাবস্ট্রেটের সাথে মানানসই হতে পারে এবং নমনীয় ওলেডগুলির মতো তাপ-সংবেদনশীল সাবস্ট্রেটগুলির আবরণ করার জন্য বিশেষভাবে উপযুক্ত।

মূলধারার মডেলগুলি একাধিক সমন্বিত ভ্যাকুয়াম ম্যানিপুলেটর, অনলাইন ফিল্ম পুরুত্ব পর্যবেক্ষণ এবং স্বয়ংক্রিয় সারিবদ্ধকরণ সিস্টেমের সাথে সজ্জিত, যা একাধিক চেম্বারে অবিচ্ছিন্ন উত্পাদন সমর্থন করে।

পালস পাওয়ার সাপ্লাইয়ের পর্যায়ক্রমিক কাজের মোড টার্গেট পৃষ্ঠের আর্ক স্রাবকে কার্যকরভাবে দমন করতে পারে এবং ফিল্মের ত্রুটি কমাতে পারে। একই সময়ে, উচ্চ-শক্তির পালসগুলি উচ্চ-ঘনত্বের প্লাজমা তৈরি করতে পারে, যা ফিল্ম স্তরকে আরও ঘন করে তোলে।

সরঞ্জামের টার্গেট উপাদান ব্যবহারের হার 20% থেকে 45% পর্যন্ত বাড়ানো যেতে পারে, টার্গেট উপাদানের ব্যবহার 40% কমানো যেতে পারে এবং ITO-এর মতো বিরল ধাতু ব্যবহারের খরচ 30% কমানো যেতে পারে। তদুপরি, জমার হার 10nm/s পর্যন্ত পৌঁছতে পারে, যা উত্পাদন দক্ষতা উল্লেখযোগ্যভাবে বৃদ্ধি করে।

অক্সাইড, নাইট্রেট এবং অন্যান্য যৌগিক ফিল্ম জমা করার সময়, পালস ব্যবধানে টার্গেট পৃষ্ঠে শোষিত প্রতিক্রিয়া গ্যাসকে ডেসর্ব করা যেতে পারে, যা টার্গেট পৃষ্ঠে একটি ইনসুলেটিং স্তর তৈরি হতে বাধা দেয় এবং ঐতিহ্যবাহী ডিসি ম্যাগনেট্রন স্পুটারিংয়ে টার্গেট বিষাক্ততার সমস্যা সমাধান করে যা স্পুটারিং-কে টেকসই করে তোলে।