PVD 스퍼터링 이온 코팅기 자성 스퍼터링 코터 금속 필름 전자 분야 준비에 사용

펄스 전원 공급 모듈, 마그네트론 스프터링 챔버, 표적 재료 집합체, 진공 시스템, 기판 전송 및 온도 제어 장치로 구성됩니다.온라인 모니터링 시스템, 등등

10~350kHz의 주파수의 펄스 전압을 출력함으로써, 표적 스프터링은 음전압 단계에서 달성된다.그리고 전자들은 목표 표면에 축적된 양전하를 중화하기 위해 양전압 단계에 도입됩니다.작동 중, 방은 먼저 진공으로 비공되고 아르곤과 같은 작업 가스가 도입됩니다. 펄스 전원 공급 장치에 전압이 적용되면 가스는 이온화되어 플라스마를 형성합니다.자기장의 제약 아래에서, 플라즈마는 표적 물질을 폭격하여 표적 물질의 원자 또는 분자가 분리되어 기판 표면에 퇴적하여 필름을 형성합니다.

이 장비는 펄스 주파수, 작업 주기 및 최고 전력과 같은 핵심 매개 변수를 정확하게 조정하여 다른 목표 재료와 코팅 요구 사항에 적응할 수 있습니다. 작업 주기를 조정함으로써또한 목표 재료의 열 생성과 분사율을 균형 잡을 수 있습니다.일부 고급 모델은 150kHz까지의 펄스 주파수를 달성 할 수 있으며 복잡한 필름 층의 퇴적 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다.

그것은 Ti와 Al와 같은 금속 타겟을 처리 할뿐만 아니라 양방향 펄스 또는 중기 AC 모드를 통해 Al2O3 및 TiO2와 같은 단열 타겟의 안정적인 스프터링을 달성 할 수 있습니다.또한, 낮은 온도 공정 디자인은 유리, 플라스틱 및 PET와 같은 다른 재료 기판에 적응 할 수 있습니다.특히 유연한 OLED와 같은 열에 민감한 기판을 코팅하는 데 적합합니다..

메인스트림 모델은 여러 통합 진공 조작기, 온라인 필름 두께 모니터링 및 자동 정렬 시스템을 갖추고 있으며 여러 방에서 연속 생산을 지원합니다.

펄스 전원 공급의 주기적인 작동 모드는 목표 표면에 활 방출을 효과적으로 억제하고 필름 결함을 줄일 수 있습니다. 동시에,고전력 펄스는 고밀도의 플라스마를 생성할 수 있습니다., 필름 층을 더 밀게 만듭니다.

장비의 목표 재료 활용률은 20%에서 45%로 증가 할 수 있으며 목표 재료 소비는 40% 감소 할 수 있습니다.그리고 ITO와 같은 희귀 금속을 사용하는 비용은 30% 감소 할 수 있습니다.또한 퇴적 속도는 10nm/s까지 도달하여 생산 효율성을 크게 향상시킬 수 있습니다.

산화물, 질소 및 다른 화합물 필름의 퇴적 과정에서 표면 표면에 흡수된 반응 가스는 펄스 간격에서 흡수 할 수 있습니다.대상 표면에 단열층이 형성되는 것을 방지하고 전통적인 DC 마그네트론 스프터링에서 스프터링을 지속 불가능하게 만드는 목표물 중독 문제를 해결합니다..