Introducción
PRESENTACIÓN DEL PRODUCTO
Un revestidor por pulverización catódica con magnetrón es un dispositivo basado en la tecnología de pulverización catódica con magnetrón. Utiliza iones confinados por un campo magnético para bombardear objetivos, depositando películas uniformes y densas sobre sustratos.
Por qué es bueno: Es conocido por producir películas uniformes y densas con fuerte adhesión.
Para qué sirve: Ampliamente utilizado para recubrir piezas de hardware, así como recubrimientos funcionales en campos como semiconductores, lentes ópticas y herramientas de corte.
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Tipo de película común
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Aplicaciones típicas
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Películas de metal y aleación:
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Adecuado para interconexiones de semiconductores, electrodos de dispositivos electrónicos
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Películas aislantes
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Aislamiento, protección; utilizado para el embalaje de componentes electrónicos, sustratos de dispositivos ópticos
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Películas ópticas
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Para lentes, pantallas, filtros ópticos
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Películas decorativas y protectoras
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Para el tratamiento de superficies de joyas, hardware, herramientas de corte y moldes
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Películas compuestas funcionales
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Conductividad transparente, propiedad antibacteriana, hidrofobicidad; adecuado para pantallas electrónicas, dispositivos médicos, productos de nueva energía
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Características del equipo: Hace que la película sea suave y compacta, y el grosor de la película puede crecer linealmente.
Aplicación del equipo: Palos de golf, cerámica, productos de vidrio, carcasas de teléfonos móviles, pulseras de relojes, joyas de alta gama, vajillas, etc.
Color del proceso: Oro titanio, oro japonés, oro rosa, oro champán, oro café, oro negro, azul gema, siete colores, etc.
Nota: La configuración y el tamaño del equipo de recubrimiento se personalizarán de acuerdo con los requisitos de los clientes y los productos procesados por los clientes.
Estructura:
Se compone de un módulo de fuente de alimentación de pulsos, una cámara de pulverización catódica con magnetrón, un conjunto de material objetivo, un sistema de vacío, una unidad de transmisión y control de temperatura del sustrato, así como un sistema de monitoreo en línea, etc.
Principio de funcionamiento:
Al emitir un voltaje de pulso con una frecuencia que oscila entre 10 y 350 kHz, se logra la pulverización del objetivo en la etapa de voltaje negativo, y se introducen electrones en la etapa de voltaje positivo para neutralizar las cargas positivas acumuladas en la superficie del objetivo. Durante el funcionamiento, la cámara se evacua primero al vacío y se introducen gases de trabajo como el argón. Después de que la fuente de alimentación de pulsos aplica voltaje, el gas se ioniza para formar plasma. Bajo la restricción del campo magnético, el plasma bombardea el material objetivo, lo que hace que los átomos o moléculas del material objetivo se desprendan y se depositen en la superficie del sustrato para formar una película.
Características
Los parámetros de pulso son flexibles y ajustables:
El equipo puede ajustar con precisión parámetros clave como la frecuencia de pulso, el ciclo de trabajo y la potencia máxima, adaptándose a diferentes materiales objetivo y requisitos de recubrimiento. Al ajustar el ciclo de trabajo, también se puede equilibrar la generación de calor del material objetivo y la velocidad de pulverización. Algunos modelos de alta gama pueden alcanzar una frecuencia de pulso de hasta 150 kHz, lo que puede satisfacer los requisitos de deposición de capas de película complejas.
Compatible con diversos materiales objetivo y sustratos:
No solo puede manejar objetivos metálicos como Ti y Al, sino que también logra la pulverización estable de objetivos aislantes como Al₂O₃ y TiO₂ a través de modos de pulso bidireccional o CA de frecuencia media. Además, el diseño del proceso a baja temperatura se puede adaptar a diferentes sustratos de materiales como vidrio, plástico y PET, y es particularmente adecuado para recubrir sustratos sensibles al calor como OLED flexibles.
Alto grado de integración e inteligencia:
Los modelos principales están equipados con múltiples manipuladores de vacío integrados, monitoreo en línea del grosor de la película y sistemas de alineación automática, lo que permite la producción continua en múltiples cámaras.
Ventajas
Reducir significativamente los defectos de la capa de película:
El modo de trabajo periódico de la fuente de alimentación de pulsos puede suprimir eficazmente la descarga de arco en la superficie del objetivo y reducir los defectos de la película. Al mismo tiempo, los pulsos de alta potencia pueden generar plasma de alta densidad, lo que hace que la capa de película sea más densa.
Mejorar la utilización de recursos y la eficiencia económica:
La tasa de utilización del material objetivo del equipo se puede aumentar del 20% al 45%, el consumo de material objetivo se puede reducir en un 40% y el costo de uso de metales raros como ITO se puede reducir en un 30%. Además, la velocidad de deposición puede alcanzar los 10 nm/s, lo que mejora significativamente la eficiencia de producción.
Evitar el problema del envenenamiento del objetivo:
Durante la deposición de óxidos, nitruros y otras películas compuestas, el gas de reacción adsorbido en la superficie del objetivo se puede desorber durante el intervalo de pulso, evitando la formación de una capa aislante en la superficie del objetivo y resolviendo el problema del envenenamiento del objetivo en la pulverización catódica con magnetrón de CC tradicional que hace que la pulverización sea insostenible.
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Modelo
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IF-12515
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MAIF-1820
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MAIF-2323
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MAT-2345
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MAT1-2368
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Tamaño de la cámara (mm)
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D1250×H1500
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D1800×H2000
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D2300×H2300
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D2300-2500*H4500
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D2300-2500*H6800
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Sistema de bombeo
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Bomba mecánica + Bomba Roots + Bomba de difusión + Bomba de mantenimiento
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Arco
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10
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18
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22
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40-42
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58-62
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Potencia del arco
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200A
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Potencia de polarización
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30KW--120KW
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Gas
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Ar,N₂,C₂H₂,O₂
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Enfriamiento
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Circulación de enfriamiento por agua, equipado con torre de enfriamiento industrial o enfriador de agua industrial (máquina frigorífica) o sistema criogénico. (los clientes proporcionan)
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Índice de vacío
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Tiempo de extracción (estado frío sin carga): de la atmósfera a 9.9×10―³Pa≤10min
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Vacío final
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Superior a 5.0×10―⁴Pa
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Aumento de presión
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Tasa de fuga de aire en estado frío de la máquina nueva≤0.5Pa/h
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Potencia de funcionamiento
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Según la configuración específica
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Frecuencia de salida
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Hecho a medida
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Ocupación
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10
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15
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18
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50
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75
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Accesorio
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Horno, Torre de agua, Bomba de agua, Compresor de aire, Bastidor de plantilla, Tanque de agua o piscina
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Observación
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Toda la configuración se puede hacer a medida
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