Hochvakuumsystem-Ausdampfungs-Vakuumbeschichtungsmaschine mit PLC-Steuerung für mehrschichtige Beschichtung
Hochvakuumsystem-Ausdampfungs-Vakuumbeschichtungsmaschine mit PLC-Steuerung für mehrschichtige Beschichtung
Herkunftsort:Zhaoqing, Guangdong
Markenname:Zhongda
Model Number:CE
Mindestbestellmenge:1
Lieferzeit:45-60 Arbeitstage
Produktdetails
Hervorheben:
Hochvakuumsystem-Ausdampfungs-Vakuumbeschichtungsmaschine
,PLC-Steuerung Verdunstungsvakuumbeschichtungsmaschine
,Mehrschichtbeschichtungsmaschine mit thermischer Verdampfung
Coating:
TiO2, Ti3O5, H4, ZrO2, ZnS, Al2O3, MgF2, SiO2, Au, Ag, Cu, Al, Ti, In, Sn
Chamber Materia:
Edelstahl 304
Coating Structure:
Einzelschicht, Mehrschicht, Gradient usw.
Machine Size:
Anpassbar
Vacuum System:
Hoch
Control System:
Plc
Coating Thickness:
Einstellbar
Structure:
Vertikale Vordertürstruktur
Rotational Speed:
10 bis 30 U/min (variabel)
Coating Environment:
Kein Staub
Coating Source:
Bogenverdunstung
Condition:
Neu
Working Theory:
Wärmedampfung
Vacuumdegree:
1x10^-5 bis 5x10^-6 Torr
Application:
Optische Beschichtungen, dekorative Beschichtungen, elektronische Komponenten
Rotation Stand:
2 Sätze
Coating Temperature:
≤200 ℃
Rotation System:
2 Sätze
Productname:
Verdunstungsvakuumbeschichtungsmaschine
Coating Transparency:
Hoch
Coating Application:
Dekorativ, funktional, schützend
Weight:
Rund 500 kg
Powersupply:
Wechselstrom 220 V/380 V, 50/60 Hz
Substratesize:
Bis zu 600 mm Durchmesser oder kundenspezifisch
Produktbeschreibung
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen
Vakuum-Beschichtungsanlage für Verdampfung
Ein Präzisions-Vakuum-Beschichtungssystem zur Herstellung hochwertiger Mehrschicht-Optikfilme auf Glas-, PC- und PMMA-Substraten durch fortschrittliche Verdampfungstechnologie.
Hauptmerkmale
- Zentrale Rotations-Substrat-Schirmrahmen minimiert Vibrationen und Partikelbildung für einen stabilen Betrieb
- Elektronenstrahl-Heizmethode ohne Elektrodenplatten ermöglicht eine stabile Mehrschichtfilmbildung
- Eigene Verhältnissteuerungsmethode mit Mehrpunkt-Online-Überwachung für hochpräzise Optikfilme
- Entfernbarer Substrat-Schirmrahmen mit einfacher Hebebedienung
- Ionenquelle mit gleichmäßiger hoher Ionenstromdichte und doppelten Elektronenkanonen für eine Beschichtung mit über 100 Schichten
- Vollautomatischer Verdampfungsprozess mit Glockenbehälter- oder Planetenwerkstückträger-Optionen
- Anpassbare Komponentenkonfiguration zur Erfüllung spezifischer Kundenanforderungen
Systemkonfiguration
| Vorrichtungssystem | Rotierende Schirmrahmen mit Einzel- oder Split-Konfiguration |
| Heizsystem | Halogenlampe/gepanzerter Heizkörper mit einer Temperatur von bis zu 350 °C |
| Abluftsystem | Niedrigvakuumpumpensatz + Hochvakuumpumpensatz + Kryopumpe/Polycold |
| Vakuumkontrolle | Vakuumregler mit Panning- und Pirani-Vakuummessgeräten |
| Beschichtungssystem | Elektronenkanone, sauerstofffreier Kupfertiegel, Impedanzverdampfungsquelle, RF/Kaufman/Hall-Ionenquelle |
| Inflationssystem | MFC- oder APC-Automatikdruckregler |
| Film-Dickenkontrolle | Kristallgesteuerte oder lichtgesteuerte Überwachung |
| Steuerungssystem | PC + SPS-integrierte Automatisierung |
Anwendungsleistung
Antireflexions-(AR)-Filmbeschichtung:
- Glas-Substrat-Transmission > 91,5%
- 420-680 nm Band: Einzelseitige durchschnittliche Transmission > 95 %, Reflexionsgrad < 0,5%
- Beidseitige durchschnittliche Transmission > 98 %, Reflexionsgrad < 0,5%
Betriebsvorteile
- Erhöhte Abscheidungsraten für höhere Produktionsleistung
- Hochpräzise Verarbeitungsmöglichkeiten für Anwendungen in der Halbleiter-, Optoelektronik- und Photonikindustrie
- Langlebige Konstruktion mit einfachen Wartungsanforderungen
Diese Vakuum-Beschichtungsanlage für Verdampfung kombiniert mehrere fortschrittliche Komponenten, um eine überlegene Mehrschichtfilmqualität zu liefern und gleichzeitig die spezifischen Produktionsanforderungen der Kunden zu erfüllen.
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