고 진공 시스템 증발 진공 코팅 기계 다층 코팅을 위한 PLC 제어
고 진공 시스템 증발 진공 코팅 기계
,PLC 제어 증발 진공 코팅 기계
,다층 코팅 열 증발 코팅 기계
- 중앙 회전 기판 우산 프레임은 안정적인 작동을 위해 진동 및 파티클 발생을 최소화합니다.
- 전극판이 없는 전자빔 가열 방식으로 안정적인 다층막 형성이 가능합니다.
- 고정밀 광학 필름에 대한 다지점 온라인 모니터링을 통한 독자적인 비율 제어 방법
- 쉽게 들어 올릴 수 있는 탈착식 기판 우산 프레임
- 균일하고 높은 이온 전류 밀도를 갖춘 이온 소스와 100개 이상의 레이어 도금 기능을 위한 이중 전자총
- 벨자 또는 유성 공작물 랙 옵션을 갖춘 완전 자동화된 증발 공정
- 특정 고객 요구 사항을 충족하는 맞춤형 구성 요소 구성
| 고정 시스템 | 단일 또는 분할 구성의 회전 우산 프레임 |
| 난방 시스템 | 최대 350℃ 온도의 할로겐 램프/장갑 히터 |
| 배기 시스템 | 저진공 펌프 세트 + 고진공 펌프 세트 + 극저온 펌프/폴리콜드 |
| 진공 제어 | 패닝 및 피라니 진공 게이지가 포함된 진공 컨트롤러 |
| 코팅 시스템 | 전자총, 무산소 구리 도가니, 임피던스 증발원, RF/Kaufman/Hall 유형 이온 소스 |
| 인플레이션 시스템 | MFC 또는 APC 자동 압력 컨트롤러 |
| 필름 두께 제어 | 크리스탈 제어 또는 조명 제어 모니터링 |
| 제어 시스템 | PC + PLC 통합 자동화 |
- 유리 기판 투과율 > 91.5%
- 420-680nm 대역: 단면 평균 투과율 > 95%, 반사율 < 0.5%
- 양면 평균 투과율 > 98%, 반사율 < 0.5%
- 더 높은 생산량을 위해 증가된 증착 속도
- 반도체, 광전자공학, 포토닉스 응용 분야를 위한 고정밀 처리 기능
- 유지보수가 용이한 내구성 있는 구조
≥95% 코팅 균일도 및 맞춤형 챔버 크기를 갖춘 이중 도어 열 증착 진공 코팅기
Thermal Evaporation PVD Vacuum Coating Machine Double doors plastic metallized thermal evaporation PVD vacuum plating coating machine for coating aluminum film, compatible with UV spray lines. Thermal Evaporation Technology Thermal evaporation is a physical vapor deposition (PVD) technique for ...
물리적 증기 퇴적 증발 진공 코팅 기계 380V 큰 용량
warranty 1 Year type Coating Production Line voltage 380Vb or customizable coating Vacuum Coating core components PLC, motor, Gear, Pump, vacuum machine chamber video outgoing-inspection Provided machinery test report Provided key selling points Free training/easy to operate substrate stainless ...
1. Core Definition and Function Through the "vacuum evaporation" technology in Physical Vapor Deposition (PVD), this equipment heats aluminum material to evaporate it into an atomic/molecular state. In a vacuum environment, these aluminum particles are uniformly deposited on the surface of plastic ...
PLC 시스템 pvd 코팅 장비와 함께 직접 총 전자 빔 코팅 기계
I. Core Structure Vacuum system Core components: Vacuum chamber, molecular pump, mechanical pump, vacuum gauge (ionization type/resistance type). Function: It provides a high vacuum environment of 10⁻³ to 10⁻⁶ Pa, reducing electron beam scattering, target material oxidation and film contamination, ...
