Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
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Macchina di rivestimento a vuoto a sistema ad alto vuoto con controllo PLC per rivestimento a più strati

Macchina di rivestimento a vuoto a sistema ad alto vuoto con controllo PLC per rivestimento a più strati
Luogo d'origine:Zhaoqing, Guangdong
Marchio:Zhongda
Model Number:CE
Quantità minima di ordine:1
Tempi di consegna:45-60 giorni di lavoro
Dettagli del prodotto
Evidenziare:

Macchina per rivestimento a vuoto con evaporazione a sistema ad alto vuoto

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Macchina di rivestimento a vuoto per evaporazione a controllo PLC

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Macchina per rivestimento a vapore termico a più strati

Coating: TiO2, Ti3O5, H4, ZrO2, ZnS, Al2O3, MgF2, SiO2, Au, Ag, Cu, Al, Ti, In, Sn
Chamber Materia: Acciaio inossidabile 304
Coating Structure: Single strato, multistrato, gradiente, ecc.
Machine Size: Personalizzabile
Vacuum System: Alto
Control System: Plc
Coating Thickness: Regolabile
Structure: Struttura verticale della porta d'ingresso
Rotational Speed: Da 10 a 30 giri/min (variabile)
Coating Environment: Niente polvere
Coating Source: Evaporazione dell'arco
Condition: Nuovo
Working Theory: Evaporazione termica
Vacuumdegree: Da 1x10^-5 a 5x10^-6 Torr
Application: Rivestimenti ottici, rivestimenti decorativi, componenti elettronici
Rotation Stand: 2 set
Coating Temperature: ≤200 ℃
Rotation System: 2 set
Productname: Macchina di rivestimento a vuoto per evaporazione
Coating Transparency: Alto
Coating Application: Decorativo, funzionale, protettivo
Weight: Circa 500 kg
Powersupply: CA 220 V/380 V, 50/60 Hz
Substratesize: Fino a 600 mm di diametro o personalizzati
Descrizione del prodotto
Specifiche e Caratteristiche Dettagliate
Macchina per rivestimento sottovuoto a evaporazione
Un sistema di rivestimento sottovuoto di precisione progettato per produrre film ottici multistrato di alta qualità su substrati di vetro, PC e PMMA attraverso una tecnologia di evaporazione avanzata.
Caratteristiche principali
  • Il telaio a ombrello rotante centrale del substrato minimizza le vibrazioni e la generazione di particelle per un funzionamento stabile
  • Il metodo di riscaldamento a fascio di elettroni senza piastre elettrodiche consente la formazione stabile di film multistrato
  • Metodo di controllo del rapporto proprietario con monitoraggio online multipunto per film ottici di alta precisione
  • Telaio a ombrello del substrato rimovibile con facile operazione di sollevamento
  • Sorgente ionica con densità di corrente ionica elevata e uniforme e doppie pistole elettroniche per capacità di placcatura a oltre 100 strati
  • Processo di evaporazione completamente automatizzato con opzioni di campana di vetro o rastrelliera per pezzi planetari
  • Configurazione dei componenti personalizzabile per soddisfare le specifiche esigenze del cliente
Configurazione del sistema
Sistema di fissaggio Telai a ombrello rotanti con configurazione singola o divisa
Sistema di riscaldamento Lampada alogena/riscaldatore corazzato con temperatura fino a 350℃
Sistema di scarico Set di pompe a basso vuoto + set di pompe ad alto vuoto + pompa criogenica/Polycold
Controllo del vuoto Controller del vuoto con manometri Panning e Pirani
Sistema di rivestimento Cannone elettronico, crogiolo in rame privo di ossigeno, sorgente di evaporazione a impedenza, sorgente ionica di tipo RF/Kaufman/Hall
Sistema di gonfiaggio Controller automatico della pressione MFC o APC
Controllo dello spessore del film Monitoraggio controllato da cristallo o controllato dalla luce
Sistema di controllo Automazione integrata PC + PLC
Prestazioni dell'applicazione
Rivestimento antiriflesso (AR):
  • Trasmittanza del substrato di vetro > 91,5%
  • Banda 420-680nm: trasmittanza media su un lato > 95%, riflettanza < 0,5%
  • Trasmittanza media su entrambi i lati > 98%, riflettanza < 0,5%
Vantaggi operativi
  • Aumentate velocità di deposizione per una maggiore produzione
  • Capacità di lavorazione di alta precisione per applicazioni di semiconduttori, optoelettronica e fotonica
  • Costruzione durevole con requisiti di manutenzione facili
Questa macchina per rivestimento sottovuoto a evaporazione combina più componenti avanzati per offrire una qualità superiore del film multistrato, soddisfacendo al contempo le specifiche esigenze di produzione del cliente.
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