Máquina de recubrimiento de vacío de evaporación de sistema de alto vacío con control PLC para recubrimiento de múltiples capas
Máquina de recubrimiento de vacío de evaporación de sistema de alto vacío
,Máquina de recubrimiento de vacío de evaporación por control PLC
,Máquina de recubrimiento por evaporación térmica de recubrimiento multicapa
- El marco de sombrilla de sustrato de rotación central minimiza la vibración y la generación de partículas para una operación estable
- El método de calentamiento por haz de electrones sin placas de electrodos permite la formación estable de películas multicapa
- Método de control de proporción patentado con monitoreo en línea multipunto para películas ópticas de alta precisión
- Marco de sombrilla de sustrato extraíble con fácil operación de elevación
- Fuente de iones con densidad de corriente de iones alta y uniforme y dos cañones de electrones para una capacidad de revestimiento de más de 100 capas
- Proceso de evaporación totalmente automatizado con opciones de campana de vidrio o bastidor de pieza de trabajo planetario
- Configuración de componentes personalizable para satisfacer los requisitos específicos del cliente
| Sistema de Fijación | Marcos de sombrilla giratorios con configuración simple o dividida |
| Sistema de Calentamiento | Lámpara halógena/calentador blindado con temperatura de hasta 350℃ |
| Sistema de Escape | Juego de bomba de bajo vacío + juego de bomba de alto vacío + bomba criogénica/Polycold |
| Control de Vacío | Controlador de vacío con medidores de vacío Panning y Pirani |
| Sistema de Recubrimiento | Cañón de electrones, crisol de cobre sin oxígeno, fuente de evaporación de impedancia, fuente de iones tipo RF/Kaufman/Hall |
| Sistema de Inflado | Controlador automático de presión MFC o APC |
| Control del Grosor de la Película | Monitoreo controlado por cristal o controlado por luz |
| Sistema de Control | Automatización integrada PC + PLC |
- Transmitancia del sustrato de vidrio > 91.5%
- Banda de 420-680 nm: Transmitancia promedio de una sola cara > 95%, reflectancia < 0.5%
- Transmitancia promedio de ambas caras > 98%, reflectancia < 0.5%
- Mayores tasas de deposición para una mayor producción
- Capacidades de procesamiento de alta precisión para aplicaciones de semiconductores, optoelectrónica y fotónica
- Construcción duradera con requisitos de mantenimiento sencillos
Máquina de recubrimiento de vacío por evaporación térmica de doble puerta con uniformidad de recubrimiento ≥ 95% y tamaño de cámara personalizable
Thermal Evaporation PVD Vacuum Coating Machine Double doors plastic metallized thermal evaporation PVD vacuum plating coating machine for coating aluminum film, compatible with UV spray lines. Thermal Evaporation Technology Thermal evaporation is a physical vapor deposition (PVD) technique for ...
Máquina de recubrimiento al vacío por evaporación por deposición física de vapor 380V de gran capacidad
warranty 1 Year type Coating Production Line voltage 380Vb or customizable coating Vacuum Coating core components PLC, motor, Gear, Pump, vacuum machine chamber video outgoing-inspection Provided machinery test report Provided key selling points Free training/easy to operate substrate stainless ...
1. Core Definition and Function Through the "vacuum evaporation" technology in Physical Vapor Deposition (PVD), this equipment heats aluminum material to evaporate it into an atomic/molecular state. In a vacuum environment, these aluminum particles are uniformly deposited on the surface of plastic ...
Máquina de recubrimiento de haz de electrones con sistema PLC
I. Core Structure Vacuum system Core components: Vacuum chamber, molecular pump, mechanical pump, vacuum gauge (ionization type/resistance type). Function: It provides a high vacuum environment of 10⁻³ to 10⁻⁶ Pa, reducing electron beam scattering, target material oxidation and film contamination, ...
