Vertikale Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage PVD-Vakuum-Beschichtungsmaschine für die Beschichtung von Gläsern oder Metallen

Kern Einführung
Vertikale Magnetron-Sputterbeschichtungsanlagen sind physikalische Gasphasenabscheidungsgeräte (PVD) mit vertikaler Bauweise, bei denen das Substrat und das Targetmaterial senkrecht angeordnet sind.

 Sie nutzen ein Magnetfeld, um das Plasma einzuschließen, wodurch Ionen das vertikal installierte Targetmaterial effizient bombardieren können. Nachdem die Atome/Moleküle des Targetmaterials entweichen, werden sie vertikal auf der Oberfläche des vertikal platzierten Substrats abgeschieden und bilden einen gleichmäßigen Film. Die Anlagen sind meist mit mehreren Targetpositionen, Vakuumkammern und Transportsystemen ausgestattet, die für Chargen- oder kontinuierliche Produktionsanforderungen geeignet sind.

Hauptmerkmale
1. Die strukturelle Anordnung ist kompakt, und die vertikale Bauweise spart erheblich horizontale Stellfläche, was sie für Szenarien mit begrenztem Fabrikraum geeignet macht.

2. Das Substrat wird vertikal platziert. Während des Beschichtungsprozesses ist es weniger wahrscheinlich, dass Partikel an der Filmoberfläche haften bleiben, wodurch Filmdickenfehler reduziert werden können.

3. Unterstützt die Konfiguration mehrerer Targetpositionen, wodurch die kontinuierliche Abscheidung von Mehrschichtfilmen und Verbundfilmen ermöglicht wird und für die Anforderungen komplexer Filmsysteme geeignet ist.

4.Der Basistransfermodus ist flexibel. Er kann durch vertikale Vorrichtungen fixiert oder kontinuierlich transportiert werden und ist für Basen unterschiedlicher Größe und Form geeignet.

Kernvorteile
1. Die Gleichmäßigkeit der Filmschicht ist gut. Die vertikale Anordnung macht den Weg der gesputterten Partikel vom Targetmaterial zu jedem Bereich des Substrats gleichmäßiger, wodurch die Abweichung der Filmdicke erheblich reduziert wird.

2. Hohe Produktionseffizienz, mit einem synchronen Arbeiten mehrerer Targetpositionen oder einem kontinuierlichen Transportdesign kann eine Chargenbeschichtung erreicht und der Ausstoß pro Zeiteinheit erhöht werden.

3.Die Bedienung und Wartung sind bequem. Die vertikale Struktur erleichtert den Austausch des Targetmaterials, die Reinigung des Hohlraums und die Inspektion der Ausrüstung, wodurch die Wartungskosten gesenkt werden.

4. Sie ist stark kompatibel und kann sich nicht nur an kleine Präzisionsteile anpassen, sondern auch die Beschichtungsanforderungen von großflächigen Substraten wie Glas und Platten erfüllen.

Typische Anwendungen
Im Bereich Flachbildschirme:

Herstellung von transparenten leitfähigen Filmen und Touch-Filmen für Flüssigkristallanzeigen (LCD) und organische Leuchtdioden (OLED).

Im Bereich Architektur und Energieeinsparung:

 Herstellung von Low-Emissivity-Filmen und Sonnenlichtkontrollfilmen für Low-E-Isolierglas zur Verbesserung der Wärmeisolierung und Energieeffizienz des Glases.

Im Bereich Dekoration und Hardware:

 Beschichtung von dekorativen Metallfilmen (wie Titangold- und Chromfilmen) oder verschleißfesten Filmen für Produkte wie Tür- und Fensterbeschläge, Badezimmerarmaturen und Mobiltelefonrahmen.

In den Bereichen Optik und Elektronik:

Herstellung von Antireflex-/Reflexionsfilmen für optische Linsen, Elektrodenfilmen für Halbleiterbauelemente und Funktionsfilmen für Lithiumbatterie-Elektrodenplatten