Εξοπλισμός κάθετης επίστρωσης με μαγνητρονική διασπορά, μηχανή επίστρωσης κενού PVD για επίστρωση γυαλιών ή μετάλλων

Βασική Εισαγωγή
Ο εξοπλισμός κάθετης επίστρωσης με μαγνητρονική διάχυση είναι μια συσκευή φυσικής εναπόθεσης ατμών (PVD) με κάθετη δομή, όπου το υπόστρωμα και το υλικό στόχου είναι διατεταγμένα κάθετα.

 Χρησιμοποιεί ένα μαγνητικό πεδίο για να περιορίσει το πλάσμα, επιτρέποντας στα ιόντα να βομβαρδίσουν αποτελεσματικά το κάθετα εγκατεστημένο υλικό στόχου. Αφού τα άτομα/μόρια του υλικού στόχου διαφύγουν, εναποτίθενται κάθετα στην επιφάνεια του κάθετα τοποθετημένου υποστρώματος, σχηματίζοντας μια ομοιόμορφη μεμβράνη. Ο εξοπλισμός είναι ως επί το πλείστον εξοπλισμένος με πολλαπλές θέσεις στόχου, θαλάμους κενού και συστήματα μετάδοσης, τα οποία είναι κατάλληλα για απαιτήσεις παραγωγής κατά παρτίδες ή συνεχούς παραγωγής.

Κύρια χαρακτηριστικά
1. Η δομική διάταξη είναι συμπαγής και η κάθετη σχεδίαση εξοικονομεί σημαντικά οριζόντιο χώρο δαπέδου, καθιστώντας την κατάλληλη για σενάρια με περιορισμένο χώρο εργοστασίου.

2. Tο υπόστρωμα τοποθετείται κάθετα. Κατά τη διάρκεια της διαδικασίας επίστρωσης, τα σωματίδια είναι λιγότερο πιθανό να προσκολληθούν στην επιφάνεια της μεμβράνης, γεγονός που μπορεί να μειώσει τα ελαττώματα του στρώματος της μεμβράνης.

3. Υποστηρίζει διαμόρφωση πολλαπλών θέσεων στόχου, επιτρέποντας τη συνεχή εναπόθεση μεμβρανών πολλαπλών στρώσεων και σύνθετων μεμβρανών και είναι κατάλληλη για τις απαιτήσεις σύνθετων συστημάτων μεμβρανών.

4.Η λειτουργία μεταφοράς βάσης είναι ευέλικτη. Μπορεί να στερεωθεί με κάθετα εξαρτήματα ή να μεταφερθεί συνεχώς και είναι κατάλληλη για βάσεις διαφορετικών μεγεθών και σχημάτων.

Βασικά πλεονεκτήματα
1.Η ομοιομορφία του στρώματος της μεμβράνης είναι καλή. Η κάθετη διάταξη καθιστά την πορεία των διασκορπισμένων σωματιδίων από το υλικό στόχου σε κάθε περιοχή του υποστρώματος πιο ομοιόμορφη, μειώνοντας σημαντικά την απόκλιση του πάχους της μεμβράνης.

2. Υψηλή απόδοση παραγωγής, με μια σχεδίαση συγχρονισμένης λειτουργίας πολλαπλών θέσεων στόχου ή συνεχούς μετάδοσης, μπορεί να επιτύχει επίστρωση κατά παρτίδες και να αυξήσει την απόδοση ανά μονάδα χρόνου.

3.Η λειτουργία και η συντήρηση είναι βολικές. Η κάθετη δομή διευκολύνει την αντικατάσταση του υλικού στόχου, τον καθαρισμό της κοιλότητας και την επιθεώρηση του εξοπλισμού, μειώνοντας το κόστος συντήρησης.

4. Έχει ισχυρή συμβατότητα και μπορεί όχι μόνο να προσαρμοστεί σε μικρά εξαρτήματα ακριβείας, αλλά και να καλύψει τις απαιτήσεις επίστρωσης υποστρωμάτων μεγάλης επιφάνειας, όπως γυαλί και πλάκες.

Τυπικές εφαρμογές
Στον τομέα των οθονών επίπεδης επιφάνειας:

Παρασκευή διαφανών αγώγιμων μεμβρανών και μεμβρανών αφής για οθόνες υγρών κρυστάλλων (LCD) και πάνελ οργανικών διόδων εκπομπής φωτός (OLED).

Στον τομέα της αρχιτεκτονικής και της εξοικονόμησης ενέργειας:

 Παραγωγή μεμβρανών χαμηλής εκπομπής και μεμβρανών ελέγχου ηλιακού φωτός για μονωτικό γυαλί Low-E για την ενίσχυση της θερμομόνωσης και της απόδοσης εξοικονόμησης ενέργειας του γυαλιού.

Στον τομέα της διακόσμησης και του υλικού:

 Επίστρωση διακοσμητικών μεταλλικών μεμβρανών (όπως τιτάνιο χρυσού και χρωμίου) ή ανθεκτικών στη φθορά μεμβρανών για προϊόντα όπως υλικό θυρών και παραθύρων, εξαρτήματα μπάνιου και πλαίσια κινητών τηλεφώνων.

Στους τομείς της οπτικής και των ηλεκτρονικών:

παρασκευή αντι-ανακλαστικών/ανακλαστικών μεμβρανών για οπτικούς φακούς, μεμβρανών ηλεκτροδίων για ημιαγωγικές συσκευές και λειτουργικών μεμβρανών για φύλλα ηλεκτροδίων μπαταριών λιθίου