Hubei Lion King Vacuum Technology Co., Ltd.
メール: sales@lionpvd.com テレ: 86--18207198662
家へ > 製品 > マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシン >
Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
  • Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
  • Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
  • Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
  • Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
  • Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
  • Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID

Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID

起源の場所 広東
ブランド名 Lion King
証明 CE
製品の詳細
アプリケーション:
光学的、装飾的、機能的
コーティング製品:
ガラス、金属、プラスチック、セラミックなど
コーティングの色:
金、銀、黒、青、緑など。
ターゲットサイズ:
カスタマイズ可能
対象物質:
Ti、Al、Cr、Au、Ag、Cu
コーティング技術:
マグネトロンスパッタリング
コーティング:
Tin、Tic、Ticn、Tialn、Crn、Cu、Au、DLC
色のコーティング:
ブラック/ブルー/レッド/ゴールド//ローズゴールド/ブルー/シルバーなど。
機械のサイズ:
カスタマイズ
コーティングの厚さ:
0.01~10ミクロン
真空システム:
高い真空
コーティングの均一性:
≤±5%
コーティングプロセス:
マグネトロンスパッタリング
電源:
DC/RF/AC
基板材料:
ガラス、金属、セラミック、プラスチック
基板サイズ:
カスタマイズ可能
コーティング構造:
単層、多層、勾配など。
制御システム:
PLC、タッチスクリーン、自動
コーティング機器のサイズ:
カスタマイズ可能
コーティング材料:
金属、合金、セラミック、複合材料
コーティング方法:
マグネトロンスパッタリング
ハイライト: 

Magnetron sputtering PVD coating machine for mobile phone glass

,

PVD coating machine for phone back cover

,

Magnetron sputtering vacuum coating machine for Face ID

支払いと配送条件
最小注文数量
1
受渡し時間
45~60 日
製品説明
Magnetron Sputtering Optical Coating Equipment
It is widely used to coat high-precision optical films on 2D / 2.5D / 3D substrates such as glass, plastic, and metal. It can deposit UV / IR cut-off filters, band-pass filters, RGB filters, LiDAR, AR films, hard AR films, hard films (SiN or DLC), HR films, AS / AF films, dielectric films, transparent conductive films (ITO), metal films (tantalum, titanium, aluminum, chromium, copper), decorative films (CrN, CrON), semiconductors (amorphous silicon, polysilicon), etc.
This series of equipment adopts a combination of metal-mode sputtering technology and high-reactive plasma sources. The load-lock chamber is equipped with a manipulator for automatic substrate transfer. The uniformity in mass production is less than ±1%, ensuring high-quality production. The patented RF-ICP / CCP ion source features a wide working range, balanced energy, high ionization rate, stable operating efficiency, and low energy consumption. It can clean substrates and assist coating to improve film quality.
We offer full optical coating solution. Support you in efficiently creating various high-performance optical films like AR, hard DLC, hydrophobic, AF, AS, ITO, HR, and even multifunctional multi-layer films like DLC+AR+AF
 
Effective Area(mm)
1650x750
2550x1200~1800
2000x1600
2500x1550
Rotational speed
10~100RPM
10~50RPM
Plasma Source
ICP/CCP
DC/ICP/CCP
Evaporation
In-line AF/AS Evaporation Source
Thermal Inline AS/AF
Wavelength
300~1560
300~780
380~780

いつでもお問い合わせください

18207198662
3号,17階,ユニット1,ビル03,第2期,ジンマオマンション,ショウカイOCT,ヘキシーロード,ホンシャン地区,武漢市,湖北省,中国
お問い合わせを直接お問い合わせください