หน้าแรก
>
ผลิตภัณฑ์
>
เครื่องเคลือบสูญญากาศ Magnetron
>
Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
|
Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
| สถานที่กำเนิด | กวางตุ้ง |
| ชื่อแบรนด์ | Lion King |
| ได้รับการรับรอง | CE |
รายละเอียดผลิตภัณฑ์
ใบสมัคร:
ออปติคัลตกแต่งใช้งานได้ดี
ผลิตภัณฑ์เคลือบผิว:
แก้ว, โลหะ, พลาสติก, เซรามิก, ฯลฯ
สีเคลือบ:
ทองเงินสีดำสีน้ำเงินสีเขียว ฯลฯ
ขนาดเป้าหมาย:
ปรับแต่งได้
วัสดุเป้าหมาย:
Ti，Al, Cr, Au，Ag，Cu
เทคโนโลยีการเคลือบ:
แมกนีตรอนสปัตเตอร์
การเคลือบ:
TIN, TIC, TICN, TIALN, CRN, CU, AU, DLC
สีเคลือบ:
ดำ / น้ำเงิน / แดง / ทอง // กุหลาบทอง / น้ำเงิน / เงิน ฯลฯ
ขนาดเครื่อง:
ปรับแต่ง
ความหนาของการเคลือบ:
0.01-10 ไมครอน
ระบบสูญญากาศ:
สุญญากาศสูง
ความสม่ำเสมอของการเคลือบ:
≤± 5%
กระบวนการเคลือบ:
แมกนีตรอนสปัตเตอร์
พาวเวอร์ซัพพลาย:
dc/rf/ac
วัสดุพื้นผิว:
แก้ว, โลหะ, เซรามิก, พลาสติก
ขนาดพื้นผิว:
ปรับแต่งได้
โครงสร้างการเคลือบ:
เลเยอร์เดี่ยวหลายชั้นการไล่ระดับสี ฯลฯ
ระบบควบคุม:
PLC, หน้าจอสัมผัส, อัตโนมัติ
ขนาดอุปกรณ์เคลือบ:
ปรับแต่งได้
วัสดุเคลือบ:
โลหะ, โลหะผสม, เซรามิก, วัสดุคอมโพสิต
วิธีการเคลือบ:
แมกนีตรอนสปัตเตอร์
เน้น:
Magnetron sputtering PVD coating machine for mobile phone glass
,PVD coating machine for phone back cover
,Magnetron sputtering vacuum coating machine for Face ID
เงื่อนไขการชำระเงินและการจัดส่ง
จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ
1
เวลาการส่งมอบ
45~60 วัน
คำอธิบายผลิตภัณฑ์
Magnetron Sputtering Optical Coating Equipment
It is widely used to coat high-precision optical films on 2D / 2.5D / 3D substrates such as glass, plastic, and metal. It can deposit UV / IR cut-off filters, band-pass filters, RGB filters, LiDAR, AR films, hard AR films, hard films (SiN or DLC), HR films, AS / AF films, dielectric films, transparent conductive films (ITO), metal films (tantalum, titanium, aluminum, chromium, copper), decorative films (CrN, CrON), semiconductors (amorphous silicon, polysilicon), etc.
This series of equipment adopts a combination of metal-mode sputtering technology and high-reactive plasma sources. The load-lock chamber is equipped with a manipulator for automatic substrate transfer. The uniformity in mass production is less than ±1%, ensuring high-quality production. The patented RF-ICP / CCP ion source features a wide working range, balanced energy, high ionization rate, stable operating efficiency, and low energy consumption. It can clean substrates and assist coating to improve film quality.
We offer full optical coating solution. Support you in efficiently creating various high-performance optical films like AR, hard DLC, hydrophobic, AF, AS, ITO, HR, and even multifunctional multi-layer films like DLC+AR+AF
สินค้าแนะนำ
-
วิดีโอ
ติดต่อเราตลอดเวลา
18207198662
เลขที่ 3 ชั้น 17 ยูนิต 1 อาคาร 03 ระยะที่ 2 อาคารจินมาโอะ โชคาย OCT ถนนเฮกซี เขตฮองชาน เมืองวูฮาน จังหวัดฮูเบ่ย ประเทศจีน
