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Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
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Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
| Lugar de origem | Guangdong |
| Marca | Lion King |
| Certificação | CE |
Detalhes do produto
Aplicação:
Óptico, decorativo, funcional
Produto de revestimento:
Vidro, metal, plástico, cerâmica, etc.
Cor de revestimento:
Ouro, prata, preto, azul, verde, etc.
Tamanho do alvo:
Personalizável
Material Alvo:
Ti, Al, Cr, Au, Ag, Cu
Tecnologia de revestimento:
Magnetron Sputtering
Revestimentos:
Estanho, tique, ticn, tialn, crn, cu, au, dlc
Cores de revestimento:
Preto/azul/vermelho/ouro/ouro rosa/azul/prata etc.
Tamanho da máquina:
Personalizar
Espessura do revestimento:
0,01-10 mícrons
Sistema de vácuo:
Alto vácuo
Uniformidade do revestimento:
≤ ± 5%
Processo de revestimento:
Magnetron Sputtering
Fonte de energia:
CC/RF/AC
Material de substrato:
Vidro, metal, cerâmica, plástico
Tamanho do substrato:
Personalizável
Estrutura de revestimento:
Camada única, multi-camada, gradiente, etc.
Sistema de controle:
PLC, tela sensível ao toque, automático
Tamanho do equipamento de revestimento:
Personalizável
Material de revestimento:
Metal, liga, cerâmica, material compósito
Método de revestimento:
Magnetron Sputtering
Destacar:
Magnetron sputtering PVD coating machine for mobile phone glass
,PVD coating machine for phone back cover
,Magnetron sputtering vacuum coating machine for Face ID
Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima
1
Tempo de entrega
45 a 60 dias
Descrição do produto
Magnetron Sputtering Optical Coating Equipment
It is widely used to coat high-precision optical films on 2D / 2.5D / 3D substrates such as glass, plastic, and metal. It can deposit UV / IR cut-off filters, band-pass filters, RGB filters, LiDAR, AR films, hard AR films, hard films (SiN or DLC), HR films, AS / AF films, dielectric films, transparent conductive films (ITO), metal films (tantalum, titanium, aluminum, chromium, copper), decorative films (CrN, CrON), semiconductors (amorphous silicon, polysilicon), etc.
This series of equipment adopts a combination of metal-mode sputtering technology and high-reactive plasma sources. The load-lock chamber is equipped with a manipulator for automatic substrate transfer. The uniformity in mass production is less than ±1%, ensuring high-quality production. The patented RF-ICP / CCP ion source features a wide working range, balanced energy, high ionization rate, stable operating efficiency, and low energy consumption. It can clean substrates and assist coating to improve film quality.
We offer full optical coating solution. Support you in efficiently creating various high-performance optical films like AR, hard DLC, hydrophobic, AF, AS, ITO, HR, and even multifunctional multi-layer films like DLC+AR+AF
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