Αρχική σελίδα
>
προϊόντα
>
Μηχανή επικάλυψης κενού μεγέθους ψεκασμού
>
Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
|
Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
| Τόπος καταγωγής | Γκουανγκντόνγκ |
| Μάρκα | Lion King |
| Πιστοποίηση | CE |
Λεπτομέρειες προϊόντος
Εφαρμογή:
Οπτικό, διακοσμητικό, λειτουργικό
Προϊόν επικάλυψης:
Γυαλί, μέταλλο, πλαστικό, κεραμικό κ.λπ.
Χρώμα επικάλυψης:
Χρυσό, ασήμι, μαύρο, μπλε, πράσινο κ.λπ.
Μέγεθος στόχου:
Προσαρμόσιμο
Υλικό Στόχου:
Ti, Al, Cr, Au, Ag, Cu
Τεχνολογία επικάλυψης:
Μαγνητρόνιο
Επικαλύψεις:
Κασσίτερος, tic, ticn, tialn, crn, cu, au, dlc
Χρώματα επικάλυψης:
Μαύρο/Μπλε/Κόκκινο/χρυσό//ροζ χρυσό/μπλε/ασημί κ.λπ.
Μέγεθος Μηχανής:
Προσαρμογή
Πάχος επίστρωσης:
0,01-10 micron
Σύστημα κενού:
Υψηλό κενό
Ομοιομορφία επικάλυψης:
≤ ± 5%
Διαδικασία επικάλυψης:
Μαγνητρόνιο
Τροφοδοτικό:
DC/RF/AC
Υλικό Υποστρώματος:
Γυαλί, μέταλλο, κεραμικό, πλαστικό
Μέγεθος υποστρώματος:
Προσαρμόσιμο
Δομή επικάλυψης:
Μεμονωμένο στρώμα, πολλαπλά στρώμα, κλίση κ.λπ.
Σύστημα Ελέγχου:
PLC, Οθόνη αφής, Αυτόματο
Μέγεθος εξοπλισμού επικάλυψης:
Προσαρμόσιμο
Υλικό επικάλυψης:
Μέταλλο, κράμα, κεραμικό, σύνθετο υλικό
Μέθοδος επικάλυψης:
Μαγνητρόνιο
Επισημαίνω:
Magnetron sputtering PVD coating machine for mobile phone glass
,PVD coating machine for phone back cover
,Magnetron sputtering vacuum coating machine for Face ID
Όροι πληρωμής και αποστολής
Ποσότητα παραγγελίας min
1
Χρόνος παράδοσης
45 έως 60 ημέρες
Περιγραφή προϊόντος
Magnetron Sputtering Optical Coating Equipment
It is widely used to coat high-precision optical films on 2D / 2.5D / 3D substrates such as glass, plastic, and metal. It can deposit UV / IR cut-off filters, band-pass filters, RGB filters, LiDAR, AR films, hard AR films, hard films (SiN or DLC), HR films, AS / AF films, dielectric films, transparent conductive films (ITO), metal films (tantalum, titanium, aluminum, chromium, copper), decorative films (CrN, CrON), semiconductors (amorphous silicon, polysilicon), etc.
This series of equipment adopts a combination of metal-mode sputtering technology and high-reactive plasma sources. The load-lock chamber is equipped with a manipulator for automatic substrate transfer. The uniformity in mass production is less than ±1%, ensuring high-quality production. The patented RF-ICP / CCP ion source features a wide working range, balanced energy, high ionization rate, stable operating efficiency, and low energy consumption. It can clean substrates and assist coating to improve film quality.
We offer full optical coating solution. Support you in efficiently creating various high-performance optical films like AR, hard DLC, hydrophobic, AF, AS, ITO, HR, and even multifunctional multi-layer films like DLC+AR+AF
Προτεινόμενα Προϊόντα
-
βίντεο
ΕΠΙΚΟΙΝΩΝΗΣΤΕ ΜΑΖΙ ΜΑΣ ΟΠΟΙΑΔΗΠΟΤΕ ΣΤΙΓΜΗ
18207198662
Αριθ. 3, 17ος όροφος, μονάδα 1, κτίριο 03, φάση II, Jinmao Mansion, Shoukai OCT, Hexie Road, Hongshan District, Wuhan City, επαρχία Hubei, Κίνα
