الصفحة الرئيسية
>
المنتجات
>
آلة طلاء الفراغ المغناطيسية المغنطيسية
>
Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
|
Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
| مكان المنشأ | قوانغدونغ |
| اسم العلامة التجارية | Lion King |
| إصدار الشهادات | CE |
تفاصيل المنتج
تطبيق:
البصرية ، الزخرفية ، وظيفية
منتج الطلاء:
الزجاج ، المعادن ، البلاستيك ، السيراميك ، إلخ
لون الطلاء:
الذهب ، الفضة ، أسود ، أزرق ، أخضر ، إلخ.
حجم الهدف:
قابلة للتخصيص
المواد المستهدفة:
تي، آل، الكروم، الاتحاد الأفريقي، حج، النحاس
تكنولوجيا الطلاء:
المغنيترون الدماغ
الطلاء:
القصدير ، TIC ، TICN ، Tialn ، CRN ، CU ، AU ، DLC
ألوان الطلاء:
أسود / أزرق / أحمر / ذهبي // ذهبي وردي / أزرق / فضي إلخ.
حجم الآلة:
تخصيص
سمك الطلاء:
0.01-10 ميكرون
نظام فراغ:
فراغ مرتفع
توحيد الطلاء:
≤ ± 5 ٪
عملية الطلاء:
المغنيترون الدماغ
مزود الطاقة:
DC/RF/AC
مادة الركيزة:
الزجاج والمعادن والسيراميك والبلاستيك
حجم الركيزة:
قابلة للتخصيص
هيكل الطلاء:
طبقة واحدة ، طبقات متعددة ، تدرج ، إلخ.
نظام التحكم:
PLC، شاشة تعمل باللمس، أوتوماتيكية
حجم معدات الطلاء:
قابلة للتخصيص
مادة الطلاء:
المعادن والسبائك والسيراميك والمواد المركبة
طريقة الطلاء:
المغنيترون الدماغ
إبراز:
Magnetron sputtering PVD coating machine for mobile phone glass,PVD coating machine for phone back cover,Magnetron sputtering vacuum coating machine for Face ID
,PVD coating machine for phone back cover
,Magnetron sputtering vacuum coating machine for Face ID
شروط الدفع والشحن
الحد الأدنى لكمية
1
وقت التسليم
45 ~ 60 يومًا
وصف المنتج
Magnetron Sputtering Optical Coating Equipment
It is widely used to coat high-precision optical films on 2D / 2.5D / 3D substrates such as glass, plastic, and metal. It can deposit UV / IR cut-off filters, band-pass filters, RGB filters, LiDAR, AR films, hard AR films, hard films (SiN or DLC), HR films, AS / AF films, dielectric films, transparent conductive films (ITO), metal films (tantalum, titanium, aluminum, chromium, copper), decorative films (CrN, CrON), semiconductors (amorphous silicon, polysilicon), etc.
This series of equipment adopts a combination of metal-mode sputtering technology and high-reactive plasma sources. The load-lock chamber is equipped with a manipulator for automatic substrate transfer. The uniformity in mass production is less than ±1%, ensuring high-quality production. The patented RF-ICP / CCP ion source features a wide working range, balanced energy, high ionization rate, stable operating efficiency, and low energy consumption. It can clean substrates and assist coating to improve film quality.
We offer full optical coating solution. Support you in efficiently creating various high-performance optical films like AR, hard DLC, hydrophobic, AF, AS, ITO, HR, and even multifunctional multi-layer films like DLC+AR+AF
المنتجات الموصى بها
-
فيديو
اتصل بنا في أي وقت
18207198662
رقم 3، الطابق 17، الوحدة 1، المبنى 03، المرحلة الثانية، قصر جينماو، شوكاي OCT، طريق هيكسي، منطقة هونغشان، مدينة ووهان، مقاطعة هوبي، الصين
