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Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
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Magnetron Sputtering PVD Coating Machine For Mobile Phone Front Glass Cover / Back Cover / Face ID
| Luogo di origine | Guangdong |
| Marca | Lion King |
| Certificazione | CE |
Dettagli del prodotto
Applicazione:
Ottico, decorativo, funzionale
Prodotto di rivestimento:
Vetro, metallo, plastica, ceramica, ecc
Colore di rivestimento:
Oro, argento, nero, blu, verde, ecc.
Dimensione target:
Personalizzabile
Materiale di destinazione:
Ti, Al, Cr, Au, Ag, Cu
Tecnologia di rivestimento:
Magnetron Sputtering
Rivestimenti:
Tin, Tic, Ticn, Tialn, CRN, Cu, Au, DLC
Colori di rivestimento:
Nero/Blu/Rosso/oro//oro rosa/blu/argento ecc.
Dimensioni della macchina:
Personalizza
Spessore del rivestimento:
0,01-10 micron
Sistema a vuoto:
Vuoto alto
Uniformità del rivestimento:
≤ ± 5%
Processo di rivestimento:
Magnetron Sputtering
Alimentazione elettrica:
DC/RF/AC
Materiale del substrato:
Vetro, metallo, ceramica, plastica
Dimensione del substrato:
Personalizzabile
Struttura del rivestimento:
Single strato, multistrato, gradiente, ecc.
Sistema di controllo:
PLC, touch screen, automatico
Dimensione dell'attrezzatura di rivestimento:
Personalizzabile
Materiale di rivestimento:
Materiale in metallo, lega, ceramica, composito
Metodo di rivestimento:
Magnetron Sputtering
Evidenziare:
Magnetron sputtering PVD coating machine for mobile phone glass
,PVD coating machine for phone back cover
,Magnetron sputtering vacuum coating machine for Face ID
Termini di pagamento e di spedizione
Quantità di ordine minimo
1
Tempi di consegna
45~60 giorni
Descrizione del prodotto
Magnetron Sputtering Optical Coating Equipment
It is widely used to coat high-precision optical films on 2D / 2.5D / 3D substrates such as glass, plastic, and metal. It can deposit UV / IR cut-off filters, band-pass filters, RGB filters, LiDAR, AR films, hard AR films, hard films (SiN or DLC), HR films, AS / AF films, dielectric films, transparent conductive films (ITO), metal films (tantalum, titanium, aluminum, chromium, copper), decorative films (CrN, CrON), semiconductors (amorphous silicon, polysilicon), etc.
This series of equipment adopts a combination of metal-mode sputtering technology and high-reactive plasma sources. The load-lock chamber is equipped with a manipulator for automatic substrate transfer. The uniformity in mass production is less than ±1%, ensuring high-quality production. The patented RF-ICP / CCP ion source features a wide working range, balanced energy, high ionization rate, stable operating efficiency, and low energy consumption. It can clean substrates and assist coating to improve film quality.
We offer full optical coating solution. Support you in efficiently creating various high-performance optical films like AR, hard DLC, hydrophobic, AF, AS, ITO, HR, and even multifunctional multi-layer films like DLC+AR+AF
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