Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
+8613751829733

دستگاه پوشش PVD اسپتر کردن مغناطیس برای تلفن همراه پوشش شیشه ای جلو / پوشش پشت / شناسه چهره

دستگاه پوشش PVD اسپتر کردن مغناطیس برای تلفن همراه پوشش شیشه ای جلو / پوشش پشت / شناسه چهره
محل مبدا:ژائوکینگ، گوانگدونگ
نام تجاری:Zhongda
گواهینامه:CE
حداقل مقدار سفارش:1
زمان تحویل:45 تا 60 روز
جزئیات محصول
برجسته کردن:

دستگاه پوشش PVD برای شیشه تلفن همراه با اسپتر کردن مغناطیس

,

دستگاه پوشش PVD برای پوشش پشت تلفن

,

دستگاه پوشش خلاء با اسپتر کردن مغناطیس برای Face ID

Application: نوری ، تزئینی ، کاربردی
Coating Product: شیشه ، فلز ، پلاستیک ، سرامیک و غیره
Coating Color: طلا ، نقره ، سیاه ، آبی ، سبز و غیره
Target Size: قابل تنظیم
Target Material: Ti، Al، Cr، Au، Ag، Cu
Coating Technology: مگنترون پاشیدن
Coatings: قلع ، tic ، ticn ، tialn ، crn ، cu ، au ، dlc
Coating Colors: سیاه/آبی/قرمز/طلایی//رزگلد/آبی/نقره ای و غیره
Machine Size: سفارشی کنید
Coating Thickness: 0.01-10 میکرون
Vacuum System: خلاء زیاد
Coating Uniformity: 5 ≤ 5 ٪
Coating Process: مگنترون پاشیدن
Power Supply: DC/RF/AC
Substrate Material: شیشه ، فلز ، سرامیک ، پلاستیک
Substrate Size: قابل تنظیم
Coating Structure: یک لایه ، چند لایه ، شیب و غیره
Control System: PLC، صفحه لمسی، خودکار
Coating Equipment Size: قابل تنظیم
Coating Material: فلز ، آلیاژ ، سرامیک ، مواد کامپوزیت
Coating Method: مگنترون پاشیدن
توضیح محصول
مشخصات و ویژگی‌های دقیق
تجهیزات پوشش نوری اسپتر کردن مغناطیس
آن را به طور گسترده ای برای پوشش فیلم های نوری با دقت بالا بر روی زیربناهای 2D / 2.5D / 3D مانند شیشه ، پلاستیک و فلز استفاده می شود.فیلم های AR، فیلم های سخت AR، فیلم های سخت (SiN یا DLC) ، فیلم های HR، فیلم های AS / AF، فیلم های دی الکتریک، فیلم های رسانای شفاف (ITO) ، فیلم های فلزی (تانتالوم، تیتانیوم، آلومینیوم، کروم، مس) ،فیلم های تزئینی (CrN)، CrON) ، نیمه هادی (سیلیکون بی شکل، پلی سیلیکون) ، و غیره
این سری از تجهیزات ترکیبی از تکنولوژی اسپتر کردن حالت فلزی و منابع پلاسمای بسیار واکنش پذیر را اتخاذ می کند.اتاق بار قفل مجهز به یک دستکاری برای انتقال خودکار بستر است. یکنواخت در تولید انبوه کمتر از ± 1٪ است، تضمین تولید با کیفیت بالا. منبع یون RF-ICP / CCP ثبت شده دارای طیف گسترده ای از کار، انرژی متعادل، نرخ یونیزاسیون بالا،بهره وری عملیاتی پایدار، و مصرف انرژی کم. می تواند زیربناها را تمیز کند و به پوشش کمک کند تا کیفیت فیلم را بهبود بخشد.
ما راه حل پوشش نوری کامل را ارائه می دهیم. شما را در ایجاد به طور موثر فیلم های نوری با عملکرد بالا مانند AR، DLC سخت، هیدروفوبک، AF، AS، ITO، HR،و حتی فیلم های چند لایه ای چند منظوره مانند DLC + AR + AF
 
مساحت موثر ((ملی متر)
1650x750
2550x1200~1800
2000x1600
2500x1550
سرعت چرخش
10 ~ 100RPM
10 ~ 50RPM
منبع پلاسما
ICP/CCP
DC/ICP/CCP
تبخیر
منبع تبخیر AF/AS در خط
AS/AF گرمایی در خط داخلی
طول موج
300 تا 1560
300 تا 780
۳۸۰ تا ۷۸۰
پیام برای پاسخ سریع
محصولات مرتبط