Lion King Vacuum Technology Co., Ltd
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Equipo de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de radiofrecuencia, máquina de recubrimiento al vacío PVD para recubrir vidrios y metales
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Equipo de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de radiofrecuencia, máquina de recubrimiento al vacío PVD para recubrir vidrios y metales

Lugar de origen Guangdong
Nombre de la marca Lion King
Certificación CE
Detalles del producto
Fuente de alimentación de evaporación:
1 juego
Sistema de vacío:
Altos vacío
Aplicación:
Óptico, decorativo, funcional
Material de recubrimiento:
Metal, aleación, cerámica, etc.
Tamaño objetivo:
Personalizable
Velocidad de recubrimiento:
0,5-1,5 m/min
Sistema de monitoreo de recubrimiento:
En tiempo real
Materiales de recubrimiento:
Metal, Cerámica, Materiales Orgánicos
Tamaño de la cámara de recubrimiento:
Personalizado
Densidad de recubrimiento:
≥99.9%
Operation Way:
pantalla táctil
Dureza de recubrimiento:
≥HV800
Material de cámara:
Acero inoxidable
Modo de operación:
Automático/manual
Resaltar: 

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón RF

,

Equipo de recubrimiento al vacío PVD para vidrios

,

Máquina de pulverización catódica magnetrón para metales

Términos de pago y envío
Cantidad de orden mínima
1
Tiempo de entrega
45-60 días de trabajo
Descripción del Producto

Introducción básica
El equipo de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón RF es un dispositivo de recubrimiento basado en la tecnología de pulverización catódica con magnetrón y equipado con una fuente de alimentación de RF (comúnmente 13.56MHz).


Ioniza gases inertes (como el argón) a través de un campo eléctrico de radiofrecuencia para formar plasma. Bajo la restricción de un campo magnético, el plasma bombardea la superficie del material objetivo, haciendo que los átomos o moléculas del material objetivo escapen y se depositen en la superficie del sustrato, formando una película uniforme.


Características principales
1. Tiene una amplia gama de adaptabilidad y puede pulverizar varios materiales objetivo, como conductores, semiconductores y aislantes, sin necesidad de tratamiento conductor.


2. El proceso de recubrimiento es suave, con una baja temperatura del sustrato, lo que puede reducir el daño a sustratos sensibles al calor como plásticos y polímeros.


3. La capa de película tiene una alta precisión de control. Al ajustar parámetros como la potencia, la presión del aire y el tiempo, se puede controlar con precisión el grosor, la composición y la estructura de la película.


Ventajas principales
1. La capa de película tiene una excelente calidad, con alta densidad, baja tasa de defectos y fuerte adhesión al sustrato.


2. La velocidad de pulverización es estable, la eficiencia de producción es relativamente alta y es adecuada para la producción industrial por lotes.


3. Respetuoso con el medio ambiente y libre de contaminación, el proceso no requiere reactivos químicos y solo utiliza gases inertes, cumpliendo con los requisitos de producción ecológica.


Aplicaciones típicas
En el campo de la información electrónica:

Preparación de películas de electrodos y películas aislantes para chips semiconductores, circuitos integrados y paneles de visualización.


Campo óptico:

Producción de películas antirreflectantes, películas reflectantes, películas de filtro, etc., que se aplican en lentes, instrumentos ópticos, módulos fotovoltaicos, etc.


En los campos industrial y decorativo:

Preparación de películas resistentes al desgaste, resistentes a la corrosión y decorativas para su uso en herramientas de corte, moldes, piezas de hardware y vidrio arquitectónico.


En el campo de las nuevas energías:

Se utiliza para películas de electrodos de baterías de litio, capas catalíticas de pilas de combustible, recubrimientos de células solares, etc.

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