Lion King Vacuum Technology Co., Ltd
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Apparecchiatura per rivestimento a sputtering magnetron a radiofrequenza, macchina per rivestimento sottovuoto PVD per il rivestimento di vetri e metalli
  • Apparecchiatura per rivestimento a sputtering magnetron a radiofrequenza, macchina per rivestimento sottovuoto PVD per il rivestimento di vetri e metalli
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Apparecchiatura per rivestimento a sputtering magnetron a radiofrequenza, macchina per rivestimento sottovuoto PVD per il rivestimento di vetri e metalli

Luogo di origine Guangdong
Marca Lion King
Certificazione CE
Dettagli del prodotto
Evaporazione dell'alimentazione:
1 set
Sistema a vuoto:
Vuoto alto
Applicazione:
Ottico, decorativo, funzionale
Materiale di rivestimento:
Metallo, lega, ceramica, ecc.
Dimensione target:
Personalizzabile
Velocità di rivestimento:
0,5-1,5 metri/minuto
Sistema di monitoraggio del rivestimento:
In tempo reale
Materiali di rivestimento:
Metallo, Ceramica, Materiali Organici
Dimensione della camera di rivestimento:
Personalizzato
Densità di rivestimento:
≥99,9%
Modo operativo:
Schermo tattile
Durezza del rivestimento:
≥Hv800
Materiale da camera:
Acciaio inossidabile
Modalità operativa:
Automatico/manuale
Evidenziare: 

Macchina per rivestimento a sputtering magnetron RF

,

Apparecchiatura di rivestimento sottovuoto PVD per vetri

,

Macchina a sputtering magnetron per metalli

Termini di pagamento e di spedizione
Quantità di ordine minimo
1
Tempi di consegna
45-60 giorni di lavoro
Descrizione del prodotto

Introduzione di base
L'apparecchiatura di rivestimento a sputtering magnetron RF è un dispositivo di rivestimento basato sulla tecnologia di sputtering magnetron e dotato di alimentazione RF (comunemente 13,56 MHz).


 Ionizza gas inerti (come l'argon) attraverso un campo elettrico a radiofrequenza per formare plasma. Sotto la costrizione di un campo magnetico, il plasma bombarda la superficie del materiale bersaglio, causando la fuoriuscita degli atomi o delle molecole del materiale bersaglio e il deposito sulla superficie del substrato, formando un film uniforme.


Caratteristiche principali
1. Ha un'ampia gamma di adattabilità e può spruzzare vari materiali bersaglio come conduttori, semiconduttori e isolanti senza la necessità di un trattamento conduttivo.


2. Il processo di rivestimento è delicato, con una bassa temperatura del substrato, che può ridurre i danni ai substrati sensibili al calore come plastica e polimeri.


3. Lo strato di film ha un'elevata precisione di controllo. Regolando parametri come potenza, pressione dell'aria e tempo, lo spessore, la composizione e la struttura del film possono essere controllati con precisione.


Vantaggi principali
1. Lo strato di film ha una qualità eccellente, con alta densità, basso tasso di difetti e forte adesione al substrato.


2. La velocità di sputtering è stabile, l'efficienza di produzione è relativamente alta ed è adatta per la produzione industriale in lotti.


3. Ecologico e privo di inquinamento, il processo non richiede reagenti chimici e utilizza solo gas inerti, soddisfacendo i requisiti della produzione verde.


Applicazioni tipiche
Nel campo dell'informazione elettronica:

 Preparazione di film elettrodici e film isolanti per chip semiconduttori, circuiti integrati e pannelli di visualizzazione.


Campo ottico:

Produzione di film antiriflesso, film riflettenti, film filtranti, ecc., che vengono applicati in lenti, strumenti ottici, moduli fotovoltaici, ecc.


Nei settori industriale e decorativo:

Preparare film resistenti all'usura, alla corrosione e decorativi per l'uso in utensili da taglio, stampi, parti hardware e vetri architettonici.


Nel campo delle nuove energie:

Viene utilizzato per film elettrodici per batterie al litio, strati catalitici per celle a combustibile, rivestimenti per celle solari, ecc.

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