Peralatan pelapisan sputtering magnetron frekuensi radio mesin pelapisan vakum pvd untuk melapisi kaca、logam

Pengantar Inti
Peralatan pelapisan sputtering magnetron RF adalah perangkat pelapisan berdasarkan teknologi sputtering magnetron dan dilengkapi dengan catu daya RF (umumnya 13.56MHz).

 Ia mengionisasi gas inert (seperti argon) melalui medan listrik frekuensi radio untuk membentuk plasma. Di bawah batasan medan magnet, plasma membombardir permukaan bahan target, menyebabkan atom atau molekul bahan target keluar dan mengendap di permukaan substrat, membentuk film yang seragam.

Fitur utama
1. Memiliki jangkauan adaptasi yang luas dan dapat melakukan sputtering berbagai bahan target seperti konduktor, semikonduktor, dan isolator tanpa perlu perlakuan konduktif.

2. Proses pelapisan lembut, dengan suhu substrat rendah, yang dapat mengurangi kerusakan pada substrat yang peka terhadap panas seperti plastik dan polimer.

3. Lapisan film memiliki akurasi kontrol yang tinggi. Dengan menyesuaikan parameter seperti daya, tekanan udara, dan waktu, ketebalan, komposisi, dan struktur film dapat dikontrol secara presisi.

Keunggulan Inti
1. Lapisan film memiliki kualitas yang sangat baik, menampilkan kepadatan tinggi, tingkat cacat rendah, dan daya rekat yang kuat ke substrat.

2. Laju sputtering stabil, efisiensi produksi relatif tinggi, dan cocok untuk produksi industri massal.

3. Ramah lingkungan dan bebas polusi, prosesnya tidak memerlukan reagen kimia dan hanya menggunakan gas inert, memenuhi persyaratan produksi hijau.

Aplikasi Khas
Di bidang informasi elektronik:

 Persiapan film elektroda dan film isolasi untuk chip semikonduktor, sirkuit terpadu, dan panel tampilan.

Bidang optik:

Menghasilkan film anti-refleksi, film reflektif, film filter, dll., yang diterapkan pada lensa, instrumen optik, modul fotovoltaik, dll.

Di bidang industri dan dekoratif:

Siapkan film tahan aus, tahan korosi, dan dekoratif untuk digunakan pada alat potong, cetakan, bagian perangkat keras, dan kaca arsitektur.

Di bidang energi baru:

Digunakan untuk film elektroda baterai lithium, lapisan katalis sel bahan bakar, pelapis sel surya, dll.