Introdução Básica
O equipamento de revestimento por sputtering de magnetron RF é um dispositivo de revestimento baseado na tecnologia de sputtering por magnetron e equipado com fonte de alimentação RF (comumente 13,56 MHz).
Ele ioniza gases inertes (como argônio) através de um campo elétrico de radiofrequência para formar plasma. Sob a restrição de um campo magnético, o plasma bombardea a superfície do material alvo, fazendo com que os átomos ou moléculas do material alvo escapem e se depositem na superfície do substrato, formando um filme uniforme.
Principais características
1. Possui ampla adaptabilidade e pode sputterizar vários materiais alvo, como condutores, semicondutores e isolantes, sem a necessidade de tratamento condutivo.
2. O processo de revestimento é suave, com baixa temperatura do substrato, o que pode reduzir os danos a substratos sensíveis ao calor, como plásticos e polímeros.
3. A camada de filme possui alta precisão de controle. Ao ajustar parâmetros como potência, pressão do ar e tempo, a espessura, composição e estrutura do filme podem ser precisamente controladas.
Vantagens principais
1. A camada de filme possui excelente qualidade, apresentando alta densidade, baixa taxa de defeitos e forte adesão ao substrato.
2. A taxa de sputtering é estável, a eficiência de produção é relativamente alta e é adequada para produção industrial em lote.
3. Ecologicamente correto e livre de poluição, o processo não requer reagentes químicos e usa apenas gases inertes, atendendo aos requisitos de produção verde.
Aplicações típicas
No campo da informação eletrônica:
Preparação de filmes de eletrodos e filmes isolantes para chips semicondutores, circuitos integrados e painéis de exibição.
Campo óptico:
Produção de filmes antirreflexo, filmes reflexivos, filmes de filtro, etc., que são aplicados em lentes, instrumentos ópticos, módulos fotovoltaicos, etc.
Nos campos industrial e decorativo:
Prepare filmes resistentes ao desgaste, resistentes à corrosão e decorativos para uso em ferramentas de corte, moldes, peças de hardware e vidro arquitetônico.
No campo da nova energia:
É usado para filmes de eletrodos de bateria de lítio, camadas de catalisador de célula de combustível, revestimentos de células solares, etc.
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