Lion King Vacuum Technology Co., Ltd
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Equipamento de revestimento por pulverização catódica magnetrônica de radiofrequência, máquina de revestimento a vácuo PVD para revestimento de vidros e metais
  • Equipamento de revestimento por pulverização catódica magnetrônica de radiofrequência, máquina de revestimento a vácuo PVD para revestimento de vidros e metais
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Equipamento de revestimento por pulverização catódica magnetrônica de radiofrequência, máquina de revestimento a vácuo PVD para revestimento de vidros e metais

Lugar de origem Guangdong
Marca Lion King
Certificação CE
Detalhes do produto
Fonte de alimentação de evaporação:
1 conjunto
Sistema de vácuo:
Alto vácuo
Aplicação:
Óptico, decorativo, funcional
Material de revestimento:
Metal, liga, cerâmica, etc.
Tamanho do alvo:
Personalizável
Velocidade de revestimento:
0,5-1,5m/min
Sistema de monitoramento de revestimento:
Em tempo real
Materiais de revestimento:
Metal, Cerâmica, Materiais Orgânicos
Tamanho da câmara de revestimento:
Personalizado
Densidade de revestimento:
≥99,9%
Operação Way:
Tela sensível ao toque
Dureza do revestimento:
≥HV800
Material da câmara:
Aço inoxidável
Modo de operação:
Automático/manual
Destacar: 

Máquina de revestimento por pulverização catódica magnetrônica RF

,

Equipamento de revestimento a vácuo PVD para vidros

,

Máquina de sputtering magnetron para metais

Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima
1
Tempo de entrega
45-60 dias de trabalho
Descrição do produto

Introdução Básica
O equipamento de revestimento por sputtering de magnetron RF é um dispositivo de revestimento baseado na tecnologia de sputtering por magnetron e equipado com fonte de alimentação RF (comumente 13,56 MHz).


 Ele ioniza gases inertes (como argônio) através de um campo elétrico de radiofrequência para formar plasma. Sob a restrição de um campo magnético, o plasma bombardea a superfície do material alvo, fazendo com que os átomos ou moléculas do material alvo escapem e se depositem na superfície do substrato, formando um filme uniforme.


Principais características
1. Possui ampla adaptabilidade e pode sputterizar vários materiais alvo, como condutores, semicondutores e isolantes, sem a necessidade de tratamento condutivo.


2. O processo de revestimento é suave, com baixa temperatura do substrato, o que pode reduzir os danos a substratos sensíveis ao calor, como plásticos e polímeros.


3. A camada de filme possui alta precisão de controle. Ao ajustar parâmetros como potência, pressão do ar e tempo, a espessura, composição e estrutura do filme podem ser precisamente controladas.


Vantagens principais
1. A camada de filme possui excelente qualidade, apresentando alta densidade, baixa taxa de defeitos e forte adesão ao substrato.


2. A taxa de sputtering é estável, a eficiência de produção é relativamente alta e é adequada para produção industrial em lote.


3. Ecologicamente correto e livre de poluição, o processo não requer reagentes químicos e usa apenas gases inertes, atendendo aos requisitos de produção verde.


Aplicações típicas
No campo da informação eletrônica:

 Preparação de filmes de eletrodos e filmes isolantes para chips semicondutores, circuitos integrados e painéis de exibição.


Campo óptico:

Produção de filmes antirreflexo, filmes reflexivos, filmes de filtro, etc., que são aplicados em lentes, instrumentos ópticos, módulos fotovoltaicos, etc.


Nos campos industrial e decorativo:

Prepare filmes resistentes ao desgaste, resistentes à corrosão e decorativos para uso em ferramentas de corte, moldes, peças de hardware e vidro arquitetônico.


No campo da nova energia:

É usado para filmes de eletrodos de bateria de lítio, camadas de catalisador de célula de combustível, revestimentos de células solares, etc.

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