تجهیزات پوشش دهی پاشش مگنترون فرکانس رادیویی، دستگاه پوشش خلاء PVD برای پوشش دادن شیشه ها و فلزات

معرفی هسته
تجهیزات پوشش‌دهی اسپاترینگ مگنترون RF یک دستگاه پوشش‌دهی است که بر اساس فناوری اسپاترینگ مگنترون و مجهز به منبع تغذیه RF (معمولاً 13.56 مگاهرتز) است.

 این دستگاه گازهای بی‌اثر (مانند آرگون) را از طریق یک میدان الکتریکی فرکانس رادیویی یونیزه می‌کند تا پلاسما تشکیل شود. تحت محدودیت یک میدان مغناطیسی، پلاسما سطح ماده هدف را بمباران می‌کند و باعث می‌شود اتم‌ها یا مولکول‌های ماده هدف فرار کرده و روی سطح زیرلایه رسوب کنند و یک لایه فیلم یکنواخت تشکیل دهند.

ویژگی های اصلی
1. دارای طیف وسیعی از سازگاری است و می‌تواند مواد هدف مختلفی مانند رساناها، نیمه‌رساناها و عایق‌ها را بدون نیاز به عملیات رسانایی اسپاتر کند.

2. فرآیند پوشش‌دهی ملایم است و دمای زیرلایه کم است که می‌تواند آسیب به زیرلایه‌های حساس به حرارت مانند پلاستیک‌ها و پلیمرها را کاهش دهد.

3. لایه فیلم دارای دقت کنترل بالایی است. با تنظیم پارامترهایی مانند توان، فشار هوا و زمان، ضخامت، ترکیب و ساختار فیلم را می‌توان دقیقاً کنترل کرد.

مزایای اصلی
1. لایه فیلم دارای کیفیت عالی است و دارای چگالی بالا، نرخ نقص کم و چسبندگی قوی به زیرلایه است.

2. سرعت اسپاترینگ پایدار است، راندمان تولید نسبتاً بالا است و برای تولید صنعتی انبوه مناسب است.

3. سازگار با محیط زیست و بدون آلودگی است، این فرآیند به مواد شیمیایی نیاز ندارد و فقط از گازهای بی‌اثر استفاده می‌کند که الزامات تولید سبز را برآورده می‌کند.

کاربردهای معمول
در زمینه اطلاعات الکترونیکی:

 تهیه فیلم‌های الکترودی و فیلم‌های عایق برای تراشه‌های نیمه‌رسانا، مدارهای مجتمع و پنل‌های نمایشگر.

زمینه نوری:

تولید فیلم‌های ضد انعکاس، فیلم‌های بازتابنده، فیلم‌های فیلتر و غیره که در لنزها، ابزارهای نوری، ماژول‌های فتوولتائیک و غیره استفاده می‌شوند.

در زمینه‌های صنعتی و تزئینی:

تهیه فیلم‌های مقاوم در برابر سایش، مقاوم در برابر خوردگی و تزئینی برای استفاده در ابزارهای برش، قالب‌ها، قطعات سخت‌افزاری و شیشه معماری.

در زمینه انرژی نو:

برای فیلم‌های الکترود باتری لیتیومی، لایه‌های کاتالیزور پیل سوختی، پوشش‌های سلول خورشیدی و غیره استفاده می‌شود.