Lion King Vacuum Technology Co., Ltd
Email: sales@lionpvd.com TELEFOON: 86--18207198662
Thuis > producten > Magnetron sputterende vacuümcoatingmachine >
Radiofrequentie magnetron sputter coating apparatuur pvd vacuüm coating machine voor het coaten van glas, metalen
  • Radiofrequentie magnetron sputter coating apparatuur pvd vacuüm coating machine voor het coaten van glas, metalen
  • Radiofrequentie magnetron sputter coating apparatuur pvd vacuüm coating machine voor het coaten van glas, metalen
  • Radiofrequentie magnetron sputter coating apparatuur pvd vacuüm coating machine voor het coaten van glas, metalen
  • Radiofrequentie magnetron sputter coating apparatuur pvd vacuüm coating machine voor het coaten van glas, metalen

Radiofrequentie magnetron sputter coating apparatuur pvd vacuüm coating machine voor het coaten van glas, metalen

Plaats van herkomst Guangdong
Merknaam Lion King
Certificering CE
Productdetails
Verdampingsstroomvoorziening:
1 set
Vacuümsysteem:
Vacuüm
Applicatie:
Optisch, decoratief, functioneel
Coatingmateriaal:
Metaal, legering, keramiek, enz.
Doelgrootte:
Aanpasbaar
Coatingsnelheid:
0,5-1,5 m/min
Coating Monitoring System:
Realtime
Coatingmaterialen:
Metaal, keramiek, organische materialen
Coating Chamber Grootte:
Aangepast
Coatingdichtheid:
≥99,9%
Operatie Way:
Aanraakscherm
Coating Hardheid:
≥HV800
Kamermateriaal:
Roestvrij staal
Bedrijfsmodus:
Automatisch/handmatig
Markeren: 

RF magnetron sputter coating machine

,

PVD vacuümbekledingsapparatuur voor glas

,

magnetronsputtermachine voor metalen

Betaling en verzendvoorwaarden
Min. bestelaantal
1
Levertijd
45-60 Werkdagen
Productbeschrijving

Kernintroductie
Rf-magnetronsputtercoatingapparatuur is een coatingapparaat gebaseerd op magnetronsputtertechnologie en uitgerust met een RF-voeding (meestal 13,56 MHz).


 Het ioniseert inerte gassen (zoals argon) door middel van een radiofrequent elektrisch veld om plasma te vormen. Onder de beperking van een magnetisch veld bombardeert het plasma het oppervlak van het targetmateriaal, waardoor de atomen of moleculen van het targetmateriaal ontsnappen en zich afzetten op het substraatoppervlak, waardoor een uniforme film ontstaat.


Belangrijkste kenmerken
1. Het heeft een breed scala aan toepassingsmogelijkheden en kan verschillende targetmaterialen sputteren, zoals geleiders, halfgeleiders en isolatoren, zonder dat geleidende behandeling nodig is.


2. Het coatingproces is zacht, met een lage substraattemperatuur, wat schade aan warmtegevoelige substraten zoals kunststoffen en polymeren kan verminderen.


3. De filmlaag heeft een hoge controleprecisie. Door parameters zoals vermogen, luchtdruk en tijd aan te passen, kunnen de filmdikte, samenstelling en structuur nauwkeurig worden geregeld.


Kernvoordelen
1. De filmlaag heeft een uitstekende kwaliteit, met een hoge dichtheid, een laag defectpercentage en een sterke hechting aan het substraat.


2. De sputteringssnelheid is stabiel, de productie-efficiëntie is relatief hoog en het is geschikt voor industriële batchproductie.


3. Milieuvriendelijk en vrij van vervuiling, het proces vereist geen chemische reagentia en gebruikt alleen inerte gassen, wat voldoet aan de eisen van groene productie.


Typische toepassingen
Op het gebied van elektronische informatie:

 Bereiding van elektrodefilms en isolerende films voor halfgeleiderchips, geïntegreerde circuits en beeldschermen.


Optisch gebied:

Productie van antireflectiefilms, reflecterende films, filterfilms, enz., die worden toegepast in lenzen, optische instrumenten, fotovoltaïsche modules, enz.


Op industriële en decoratieve gebieden:

Bereiding van slijtvaste, corrosiebestendige en decoratieve films voor gebruik in snijgereedschappen, mallen, hardwareonderdelen en architecturaal glas.


Op het gebied van nieuwe energie:

Het wordt gebruikt voor lithiumbatterij-elektrodefilms, brandstofcelkatalysatorlagen, zonnecelcoatings, enz.

Neem op elk moment contact met ons op.

18207198662
Antang Zuidweg, Duanzhou District, Zhaoqing, Guangdong 526060 China.
Stuur uw aanvraag rechtstreeks naar ons