Componentes principais:
Sistema de alimentação de energia RF, conjunto alvo de arco, sistema de vácuo, fonte de alimentação de polarização da peça e sistema de controle. A complexidade técnica é maior do que a do tipo DC.
Princípio de funcionamento:
Em uma câmara de vácuo, o campo elétrico de alta frequência excitado pela fonte de alimentação de radiofrequência ioniza o gás de trabalho (como nitrogênio ou argônio) para formar plasma de alta densidade. Ao mesmo tempo, o arco elétrico atua sobre o material alvo, fazendo com que ele evapore. Os átomos do material alvo são ainda mais ionizados e ativados no ambiente de plasma e, eventualmente, depositados na superfície da peça sob a ação da tensão de polarização negativa para formar um filme de alto desempenho.
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