Equipo de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón y fuente de alimentación de corriente continua, máquina de recubrimiento PVD

Conclusión principal:
1. El equipo de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón DC es una tecnología de pulverización catódica magnetrón impulsada por una fuente de alimentación de CC.

2. Presenta una estructura simple y un costo controlable, centrándose principalmente en la preparación eficiente de películas metálicas. Se utiliza ampliamente en escenarios de recubrimiento industrial y básico de gama media a baja.

Introducción del equipo:
Utiliza alto voltaje de corriente continua para ionizar gas inerte (comúnmente argón) para generar plasma. Al confinar los electrones a través de un campo magnético, se extiende la trayectoria de movimiento, mejorando la eficiencia de colisión entre el plasma y el material objetivo. Como resultado, los átomos del material objetivo (que debe ser un material conductor) se pulverizan y se depositan en la superficie del sustrato para formar una película.

2. El equipo tiene una estructura compacta y es fácil de operar. Se utiliza principalmente para preparar películas metálicas, películas de aleación, etc., y es adecuado para la producción en serie y los requisitos básicos de recubrimiento funcional.

Características principales:
1. Se alimenta con una fuente de alimentación de CC, con una estructura de circuito simple y costos de fabricación y operación del equipo relativamente bajos.

2. Solo es compatible con materiales objetivo conductores (como aluminio, cobre, cromo, titanio y otros objetivos metálicos), y no puede usar directamente objetivos cerámicos aislantes.

3. La velocidad de pulverización es estable y el espesor de la película es fácil de controlar, lo que lo hace adecuado para la producción continua y a gran escala.

4. El diseño del campo magnético es diverso (como magnetrón equilibrado y magnetrón desequilibrado), y la adhesión y la densidad de la capa de película se pueden ajustar según los requisitos.

Ventajas principales:
1. El umbral de operación es bajo, el ajuste de parámetros es simple, el mantenimiento es conveniente y el costo de operación y mantenimiento posterior es bajo.

2. La eficiencia de preparación de la película metálica es alta, la velocidad de pulverización es superior a la de la pulverización catódica magnetrón de radiofrecuencia y el consumo de energía es menor.

3. La capa de película tiene alta pureza, buena uniformidad y excelente suavidad superficial, cumpliendo con los requisitos funcionales y decorativos básicos.
El equipo tiene una gran estabilidad, una baja tasa de fallas, es adecuado para la operación continua a largo plazo y ofrece un alto rendimiento de costos de producción.

Aplicaciones típicas
1. En el campo de la decoración:Recubrimiento de películas decorativas metálicas (como películas de aluminio, películas de cromo) para accesorios de hardware, accesorios de muebles, joyas, etc.

2. En el campo de la electrónica:Preparación de películas conductoras metálicas para componentes electrónicos (como películas de electrodos para condensadores y películas de plomo para placas de circuito).

3. En el campo del embalaje:Recubrimiento de películas de barrera (como películas compuestas de papel de aluminio) para películas plásticas y láminas metálicas para mejorar sus propiedades de barrera contra el oxígeno y la humedad.

4. En el campo de las herramientas y la maquinaria:Recubrimiento de películas metálicas resistentes al desgaste para herramientas de corte comunes y piezas mecánicas para mejorar la dureza superficial y la resistencia al desgaste.

5. Otros escenarios:Preparación de películas funcionales básicas como películas conductoras para láminas traseras de células solares y películas reflectantes para vidrio arquitectónico.