Apparecchiatura per rivestimento sputtering magnetron con alimentazione a corrente continua, macchina per rivestimento PVD

Conclusione principale:
1. L'apparecchiatura di rivestimento a sputtering magnetron DC è una tecnologia di sputtering magnetron alimentata da alimentazione DC.

2. Presenta una struttura semplice e un costo controllabile, concentrandosi principalmente sulla preparazione efficiente di film metallici. È ampiamente utilizzata in scenari di rivestimento industriali e di base di fascia medio-bassa.

Introduzione all'apparecchiatura:
Utilizza alta tensione a corrente continua per ionizzare gas inerti (comunemente argon) per generare plasma. Confinando gli elettroni attraverso un campo magnetico, il percorso di movimento viene esteso, migliorando l'efficienza di collisione tra il plasma e il materiale bersaglio. Di conseguenza, gli atomi del materiale bersaglio (che deve essere un materiale conduttivo) vengono spruzzati e depositati sulla superficie del substrato per formare un film.

2. L'apparecchiatura ha una struttura compatta ed è facile da usare. Viene utilizzata principalmente per la preparazione di film metallici, film in lega, ecc., ed è adatta per la produzione in serie e per i requisiti di rivestimento funzionale di base.

Caratteristiche principali:
1. È alimentata da un alimentatore DC, con una struttura del circuito semplice e costi di produzione e funzionamento dell'apparecchiatura relativamente bassi.

2. È compatibile solo con materiali bersaglio conduttivi (come alluminio, rame, cromo, titanio e altri bersagli metallici) e non può utilizzare direttamente bersagli ceramici isolanti.

3. La velocità di sputtering è stabile e lo spessore del film è facile da controllare, rendendola adatta per la produzione continua e su larga scala.

4. Il design del campo magnetico è diverso (come magnetron bilanciato e magnetron sbilanciato) e l'adesione e la densità dello strato di film possono essere regolate in base alle esigenze.

Vantaggi principali:
1. La soglia operativa è bassa, la regolazione dei parametri è semplice, la manutenzione è conveniente e il costo di funzionamento e manutenzione successivo è basso.

2. L'efficienza di preparazione del film metallico è elevata, la velocità di sputtering è superiore a quella dello sputtering magnetron a radiofrequenza e il consumo energetico è inferiore.

3. Lo strato di film ha un'elevata purezza, una buona uniformità e un'eccellente levigatezza superficiale, soddisfacendo i requisiti funzionali e decorativi di base.
L'apparecchiatura ha una forte stabilità, un basso tasso di guasto, è adatta per un funzionamento continuo a lungo termine e offre elevate prestazioni in termini di costi di produzione.

Applicazioni tipiche
1. Nel campo della decorazione:Rivestimento di film decorativi metallici (come film di alluminio, film di cromo) per accessori hardware, accessori per mobili, gioielli, ecc.

2. Nel campo dell'elettronica:Preparazione di film conduttivi metallici per componenti elettronici (come film elettrodici per condensatori e film di piombo per circuiti stampati).

3. Nel campo dell'imballaggio:Rivestimento di film barriera (come film compositi di fogli di alluminio) per film plastici e fogli metallici per migliorarne le proprietà di barriera contro ossigeno e umidità.

4. Nel campo degli utensili e dei macchinari:Rivestimento di film metallici resistenti all'usura per utensili da taglio comuni e parti meccaniche per migliorare la durezza superficiale e la resistenza all'usura.

5. Altri scenari:Preparazione di film funzionali di base come film conduttivi per fogli posteriori di celle solari e film riflettenti per vetri architettonici.