Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
+8613751829733

تجهیزات پوشش دهی پاشش مغناطیسی منبع تغذیه جریان مستقیم، دستگاه پوشش دهی PVD

تجهیزات پوشش دهی پاشش مغناطیسی منبع تغذیه جریان مستقیم، دستگاه پوشش دهی PVD
محل مبدا:ژائوکینگ، گوانگدونگ
نام تجاری:Zhongda
گواهینامه:CE
حداقل مقدار سفارش:1
زمان تحویل:45-60 روز کاری
جزئیات محصول
برجسته کردن:

دستگاه پاشش مغناطیسی با منبع تغذیه DC

,

تجهیزات پوشش دهی PVD برای رسوب در خلاء

,

دستگاه پوشش دهی پاشش مغناطیسی با گارانتی

Coating Process: تبخیر خلاء
Substrate Size: تا 300 میلی متر
Coating Uniformity: 5 ٪
Application: روکش سطحی
Coating Control System: PLC/صفحه لمسی
Coating Density: 99.9 ٪
Coating Adhesion: قوی
Rotational Speed: 10 تا 30 دور در دقیقه (متغیر)
Operation Mode: اتوماتیک/دستی
Coating Film Material: طلا، نقره، Al، مس، SiO2 و غیره
Substrate Material: شیشه، پلاستیک، فلز، سرامیک
Coating Material: فلز یا سرامیک
Coating Environment: بدون گرد و غبار
توضیح محصول
مشخصات و ویژگی‌های دقیق

نتیجه‌گیری اصلی:
1. تجهیزات پوشش‌دهی اسپاترینگ مگنترون DC، یک فناوری اسپاترینگ مگنترون است که توسط منبع تغذیه DC هدایت می‌شود.


2. این دستگاه دارای ساختار ساده و هزینه قابل کنترل است و عمدتاً بر تهیه کارآمد فیلم‌های فلزی متمرکز است. به طور گسترده در سناریوهای پوشش‌دهی صنعتی و پایه متوسط ​​تا پایین استفاده می‌شود.


معرفی تجهیزات:
این دستگاه از ولتاژ بالای جریان مستقیم برای یونیزه کردن گاز بی‌اثر (معمولاً آرگون) برای تولید پلاسما استفاده می‌کند. با محدود کردن الکترون‌ها از طریق یک میدان مغناطیسی، مسیر حرکت افزایش می‌یابد و راندمان برخورد بین پلاسما و مواد هدف افزایش می‌یابد. در نتیجه، اتم‌های مواد هدف (که باید یک ماده رسانا باشد) اسپاتر می‌شوند و روی سطح زیرلایه رسوب می‌کنند تا یک فیلم تشکیل دهند.


2. این تجهیزات دارای ساختار فشرده و کارکرد آسانی هستند. این دستگاه عمدتاً برای تهیه فیلم‌های فلزی، فیلم‌های آلیاژی و غیره استفاده می‌شود و برای تولید انبوه و الزامات پوشش‌دهی عملکردی اساسی مناسب است.


ویژگی‌های اصلی:
1. این دستگاه توسط منبع تغذیه DC تغذیه می‌شود که دارای ساختار مدار ساده و هزینه‌های تولید و عملیات نسبتاً کم تجهیزات است.


2. این دستگاه فقط با مواد هدف رسانا (مانند آلومینیوم، مس، کروم، تیتانیوم و سایر اهداف فلزی) سازگار است و نمی‌تواند مستقیماً از اهداف سرامیکی عایق استفاده کند.


3. سرعت اسپاترینگ پایدار است و کنترل ضخامت فیلم آسان است و برای تولید مداوم و در مقیاس بزرگ مناسب است.


4. طراحی میدان مغناطیسی متنوع است (مانند مگنترون متعادل و مگنترون نامتعادل) و چسبندگی و چگالی لایه فیلم را می‌توان با توجه به الزامات تنظیم کرد.


مزایای اصلی:
1. آستانه عملیات کم است، تنظیم پارامترها ساده است، نگهداری آسان است و هزینه عملیات و نگهداری بعدی کم است.


2. راندمان تهیه فیلم فلزی بالا است، سرعت اسپاترینگ نسبت به اسپاترینگ مگنترون فرکانس رادیویی برتر است و مصرف انرژی کمتر است.


3. لایه فیلم دارای خلوص بالا، یکنواختی خوب و صافی سطح عالی است که الزامات عملکردی و تزئینی اساسی را برآورده می‌کند.
این تجهیزات دارای پایداری قوی، نرخ خرابی کم، مناسب برای عملیات مداوم طولانی مدت و ارائه عملکرد هزینه تولید بالا هستند.


کاربردهای معمولی
1. در زمینه دکوراسیون:پوشش فیلم‌های تزئینی فلزی (مانند فیلم‌های آلومینیومی، فیلم‌های کرومی) برای لوازم جانبی سخت‌افزاری، لوازم جانبی مبلمان، جواهرات و غیره.


2. در زمینه الکترونیک:تهیه فیلم‌های رسانای فلزی برای قطعات الکترونیکی (مانند فیلم‌های الکترودی برای خازن‌ها و فیلم‌های سربی برای بردهای مدار).


3. در زمینه بسته‌بندی:پوشش فیلم‌های مانع (مانند فیلم‌های کامپوزیت فویل آلومینیومی) برای فیلم‌های پلاستیکی و فویل‌های فلزی برای افزایش خواص مانع آن‌ها در برابر اکسیژن و رطوبت.


4. در زمینه ابزار و ماشین‌آلات:پوشش فیلم‌های فلزی مقاوم در برابر سایش برای ابزارهای برش معمولی و قطعات مکانیکی برای افزایش سختی سطح و مقاومت در برابر سایش.


5. سایر سناریوها:تهیه فیلم‌های عملکردی اساسی مانند فیلم‌های رسانا برای صفحات پشتی سلول‌های خورشیدی و فیلم‌های بازتابنده برای شیشه معماری.

پیام برای پاسخ سریع
محصولات مرتبط