Equipamento de revestimento por sputtering de magnetron com fonte de alimentação de corrente contínua, máquina de revestimento PVD

Conclusão principal:
1. O equipamento de revestimento por sputtering magnetrônico DC é uma tecnologia de sputtering magnetrônico impulsionada por uma fonte de alimentação DC.

2. Apresenta uma estrutura simples e custo controlável, focando principalmente na preparação eficiente de filmes metálicos. É amplamente utilizado em cenários industriais de baixa a média gama e revestimentos básicos.

Introdução do Equipamento:
Utiliza alta voltagem de corrente contínua para ionizar gás inerte (comumente argônio) para gerar plasma. Ao confinar elétrons através de um campo magnético, o caminho de movimento é estendido, aumentando a eficiência da colisão entre o plasma e o material alvo. Como resultado, os átomos do material alvo (que deve ser um material condutor) são pulverizados e depositados na superfície do substrato para formar um filme.

2. O equipamento possui uma estrutura compacta e é fácil de operar. É usado principalmente para preparar filmes metálicos, filmes de liga, etc., e é adequado para produção em lote e requisitos básicos de revestimento funcional.

Principais características:
1. É alimentado por uma fonte de alimentação DC, com uma estrutura de circuito simples e custos de fabricação e operação do equipamento relativamente baixos.

2. É compatível apenas com materiais alvo condutores (como alumínio, cobre, cromo, titânio e outros alvos metálicos) e não pode usar diretamente alvos cerâmicos isolantes.

3. A taxa de sputtering é estável e a espessura do filme é fácil de controlar, tornando-o adequado para produção contínua e em larga escala.

4. O projeto do campo magnético é diverso (como magnetron balanceado e magnetron desbalanceado), e a adesão e a densidade da camada de filme podem ser ajustadas de acordo com os requisitos.

Principais vantagens:
1. O limiar de operação é baixo, o ajuste de parâmetros é simples, a manutenção é conveniente e o custo de operação e manutenção posterior é baixo.

2. A eficiência de preparação do filme metálico é alta, a taxa de sputtering é superior à do sputtering magnetrônico de radiofrequência e o consumo de energia é menor.

3. A camada de filme tem alta pureza, boa uniformidade e excelente suavidade superficial, atendendo aos requisitos funcionais e decorativos básicos.
O equipamento possui forte estabilidade, baixa taxa de falhas, é adequado para operação contínua de longo prazo e oferece alto desempenho de custo de produção.

Aplicações típicas
1. No campo da decoração:Revestimento de filmes decorativos metálicos (como filmes de alumínio, filmes de cromo) para acessórios de hardware, acessórios de móveis, joias, etc.

2. No campo da eletrônica:Preparação de filmes condutores metálicos para componentes eletrônicos (como filmes de eletrodo para capacitores e filmes de chumbo para placas de circuito).

3. No campo da embalagem:Revestimento de filmes de barreira (como filmes compostos de folha de alumínio) para filmes plásticos e folhas metálicas para melhorar suas propriedades de barreira contra oxigênio e umidade.

4. No campo de ferramentas e máquinas:Revestimento de filmes metálicos resistentes ao desgaste para ferramentas de corte comuns e peças mecânicas para aumentar a dureza da superfície e a resistência ao desgaste.

5. Outros cenários:Preparação de filmes funcionais básicos, como filmes condutores para folhas traseiras de células solares e filmes refletivos para vidro arquitetônico.