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Équipement de revêtement de film par pulvérisation cathodique magnétron automatique complet pour AF, machine de revêtement par pulvérisation pour empreintes digitales
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Équipement de revêtement de film par pulvérisation cathodique magnétron automatique complet pour AF, machine de revêtement par pulvérisation pour empreintes digitales

Lieu d'origine Guangdong
Nom de marque Lion King
Certification CE
Détails du produit
Méthode de revêtement:
Pulvérisation de magnétron
Matériau cible:
AF comme alliage
Matériau de revêtement:
COMME
Uniformité du revêtement:
±5%
Matériau de la chambre:
Acier inoxydable 304 ou acier au carbone
Taille du substrat:
Personnalisable
Degré de vide:
≤10-6 PA
Épaisseur du revêtement:
Non spécifié
Alimentation:
DC / RF
Système de contrôle:
Contrôle de l'écran tactile PLC
Approvisionnement en gaz:
Gaz multiples
Circuit de refroidissement:
Refroidissement par eau
Vitesse de revêtement:
1-3 m/min
Modèle:
AF comme film de revêtement de pulvérisation de magnétron de film
Puissance cible:
DC / RF / AC
Technologie de revêtement:
Pulvérisation de magnétron
Cible de revêtement:
Métal, alliage, céramique, etc.
Pompe à vide:
Pompe à diffusion, pompe à palettes, pompe à racines, etc.
Substrat de revêtement:
Verre, métal, céramique, etc.
Taille de la chambre à vide:
Personnalisé
Application de revêtement:
Optique, électronique, décoratif, etc.
Application:
Film Magnétron pulvérisation
Température de revêtement:
Faible
Dureté de revêtement:
Haut
Technologie de vide:
Revêtement à vide
Enrobage de transparence:
Haut
taper:
Machine de revêtement à vide de pulvérisation de magnétron
Adhésion du revêtement:
Fort
Substrat:
Verre
Système d'aspirateur:
Système d'aspirateur de pulvérisation
Taille de revêtement:
Personnalisable
Mettre en évidence: 

Machine de revêtement par pulvérisation AF entièrement automatique

,

Équipement de revêtement de film par pulvérisation cathodique magnétron

,

Machine de revêtement sous vide anti-traces de doigts

Conditions de paiement et d'expédition
Quantité de commande min
1
Détails d'emballage
emballage en bois
Délai de livraison
20
Description du produit

Le revêtement de pulvérisation magnétique AF (anti-empreintes digitales) applique la technologie de revêtement avancée de l'assistance unique à la source d'ions de Kerun Vacuum, de la pulvérisation réactive à fréquence intermédiaire magnétique et du processus de revêtement par évaporation, ce qui améliore considérablement la qualité de la couche de film AF. Les produits de la couche de pulvérisation magnétique AF peuvent répondre à la norme européenne CE.



Introduction détaillée à la machine de revêtement par pulvérisation magnétron PVD AS AF Film

1. Principe de fonctionnement

La machine intègreDépôt physique en phase vapeur (PVD)ettechnologie de pulvérisation magnétronpour préparer des films dotés des fonctions anti-rayures (AS) et anti-empreintes digitales (AF). Le processus de base est le suivant :

  • Établissement d'environnement sous vide: La chambre de revêtement est pompée sous un vide poussé (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) pour éliminer les molécules d'air qui interfèrent avec la formation du film.
  • Ionisation du gaz: Un gaz inerte (généralement de l'argon, Ar) est introduit dans la chambre. L'électricité à haute tension ionise Ar en ions Ar⁺ et en électrons libres.
  • Confinement du champ magnétique: Un aimant permanent à l'intérieur de la cible (source de matériau de revêtement) génère un puissant champ magnétique qui piège les électrons libres près de la surface de la cible. Les électrons confinés entrent en collision avec davantage d’atomes d’Ar, augmentant ainsi le taux d’ionisation de Ar.
  • Pulvérisation ciblée: Les ions Ar⁺ sont accélérés par le champ électrique pour bombarder la surface cible. Les atomes (ou molécules) cibles sont éliminés et forment un « flux de particules » (particules pulvérisées).
  • Dépôt de film: Les particules pulvérisées volent vers le substrat (par exemple verre, métal, plastique) et se déposent sur sa surface, formant un film dense et uniforme.
  • Réalisation des fonctions AS & AF:
    • Performances AS: Sélectionnez des cibles de haute dureté (par exemple, SiO₂, carbone de type diamant DLC, Al₂O₃) pour garantir que la dureté du film atteint 6H ~ 9H (résistant aux rayures des clés ou du sable).
    • Performances de mise au point automatique: Modifiez la surface du film avec des cibles contenant du fluor (par exemple, des fluoropolymères dérivés du CF₄) pour réduire l'énergie de surface (≤ 20 mN/m), permettant aux gouttelettes d'eau/d'huile de rouler facilement et empêchant l'adhésion des empreintes digitales.

2. Fonctionnalités principales

2.1 Avantages des performances du film

  • Intégration à double fonction: Permet d'obtenir simultanément une résistance élevée aux rayures (AS) et des effets anti-empreintes digitales (AF) durables, évitant ainsi le besoin d'un revêtement secondaire.
  • Qualité de film supérieure: Le processus de pulvérisation magnétron produit des films à haute densité (≥ 98 % de la densité théorique de la cible), une forte adhérence au substrat (test de coupe transversale ≥ 4B) et une épaisseur uniforme (erreur ≤ ± 5 %).
  • Durabilité stable: L'effet AF reste efficace après plus de 500 fois de friction (avec une charge de 500 g) ou plus de 200 fois d'essuyage à l'alcool ; Les performances AS ne se dégradent pas après plus de 1 000 fois de friction avec de la laine d'acier.

2.2 Avantages techniques de l'équipement

  • Large adaptabilité du substrat: Compatible avec des substrats plats/3D de différents matériaux (verre, alliage d'aluminium, PC, PET) et tailles (de 300×300mm à 1800×2400mm).
  • Protection de l'environnement: Pas de solvants organiques (contrairement au revêtement humide), pas d'émissions de déchets liquides/gazeux, conforme aux normes RoHS, REACH et autres normes environnementales internationales.
  • Contrôle intelligent: Équipé d'un système PLC + écran tactile, prenant en charge le contrôle automatique de la pression, la régulation du courant cible et le réglage du temps de revêtement ; surveillance en temps réel du degré de vide, de la température et de l'épaisseur du film.
  • Haute efficacité: Adopte une configuration multi-cibles (2 ~ 6 cibles) et une bande transporteuse continue (pour les substrats en feuille) ou une rotation planétaire (pour les pièces 3D), atteignant une vitesse de revêtement de 0,5 ~ 3 m/min (réglable en fonction de l'épaisseur du film).

3. Points de vente (valeur orientée marché)

3.1 Résoudre les problèmes des clients

  • Élimine le problème des « rayures faciles + contamination par les empreintes digitales » pour les produits haut de gamme (par exemple, écrans de téléphones portables, verre automobile), améliorant ainsi l'expérience utilisateur et la durée de vie du produit.
  • Remplace le revêtement humide traditionnel (faible durabilité, pollution de l'environnement) et le revêtement par évaporation (faible densité de film), réduisant ainsi les taux de réparation après revêtement de ≥ 30 %.

3.2 Rentabilité

  • Faible coût d'exploitation: Le taux d'utilisation du matériau cible atteint 70 % ~ 85 % (supérieur aux 30 % ~ 50 % du revêtement par évaporation) et la consommation d'énergie du système sous vide est 20 % inférieure à celle d'un équipement similaire.
  • Compatibilité avec la production de masse: La conception de revêtement continu prend en charge un fonctionnement 24h/24 et 7j/7, avec une production quotidienne d'une seule machine (pour le verre de téléphone portable de 5 pouces) jusqu'à 10 000 pièces.

3.3 Personnalisation et conformité

  • Paramètres de film personnalisables : ajustez les types de cibles (par exemple, SiO₂ + fluoropolymère pour un AS AF à haute transparence ; TiN + fluoropolymère pour un AS AF métallique) et l'épaisseur du film (50 ~ 500 nm) pour répondre aux différents besoins de l'industrie.
  • Répond aux normes de qualité internationales : les films passent le test de brouillard salin (48 heures), le test de température et d'humidité élevées (85 ℃/85 % RH, 1 000 heures) et le test de vieillissement UV (1 000 heures).

4. Champs de candidature


Industrie Produits typiques
Électronique 3C Écrans/boîtiers de téléphones portables, housses d'ordinateurs portables, fonds de panier de tablettes
Automobile Pare-brise, panneaux de console centrale, poignées de porte
Appareils électroménagers Panneaux de porte de réfrigérateur, surfaces de cuisson à induction, vitre de porte de micro-ondes
Composants optiques Objectifs d'appareil photo, écrans d'affichage (OLED/LCD), verre de montre intelligente
Matériel Quincaillerie de salle de bain (robinets, pommes de douche), lames de couteaux de cuisine

5. Paramètres techniques clés


Paramètre Spécification
Degré de vide (chambre) ≤ 5×10⁻⁵Pa
Types de cibles SiO₂, DLC, Al₂O₃, TiN, Fluoropolymères
Vitesse de revêtement 0,5 ~ 3 m/min (réglable)
Plage d'épaisseur de film 50 ~ 500 nm
Taille du substrat (max) 1800×2400 mm (plat) ; φ300 mm (pièces 3D)
Alimentation 380 V/50 Hz (triphasé)
Dimensions de la machine 4500×1800×2200 mm (L×L×H)

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