Peralatan Pelapisan Film Sputtering Magnetik Material AF Otomatis Penuh Mesin Pelapisan Sputter Anti Sidik Jari

AF Magnetic Sputtering Coater (anti-sidik jari) menerapkan teknologi pelapisan canggih dari bantuan sumber ion unik Kerun Vacuum, sputtering reaktif frekuensi menengah magnetik, dan proses pelapisan penguapan, yang secara signifikan meningkatkan kualitas lapisan film AF. Produk dari AF magnetic sputtering coater dapat memenuhi standar CE Eropa.

Pengantar Rinci Mesin Pelapisan Sputtering Magnetron PVD Film AS AF

1. Prinsip Kerja

Mesin mengintegrasikan Physical Vapor Deposition (PVD) dan teknologi sputtering magnetron untuk menyiapkan film dengan fungsi Anti-Gores (AS) dan Anti-Sidik Jari (AF). Proses intinya adalah sebagai berikut:

• Pembentukan Lingkungan Vakum: Ruang pelapisan dipompa ke vakum tinggi (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) untuk menghilangkan molekul udara yang mengganggu pembentukan film.
• Ionization Gas: Gas inert (biasanya argon, Ar) dimasukkan ke dalam ruang. Listrik tegangan tinggi mengionisasi Ar menjadi ion Ar⁺ dan elektron bebas.
• Konfinemen Medan Magnet: Magnet permanen di dalam target (sumber bahan pelapis) menghasilkan medan magnet yang kuat, yang menjebak elektron bebas di dekat permukaan target. Elektron yang terbatas bertabrakan dengan lebih banyak atom Ar, meningkatkan laju ionisasi Ar.
• Sputtering Target: Ion Ar⁺ dipercepat oleh medan listrik untuk membombardir permukaan target. Atom (atau molekul) target terlepas dan membentuk "aliran partikel" (partikel yang disputter).
• Deposisi Film: Partikel yang disputter terbang ke substrat (misalnya, kaca, logam, plastik) dan mengendap di permukaannya, membentuk film yang padat dan seragam.
• Realisasi Fungsi AS & AF:
  • Kinerja AS: Pilih target kekerasan tinggi (misalnya, SiO₂, karbon seperti berlian DLC, Al₂O₃) untuk memastikan kekerasan film mencapai 6H ~ 9H (tahan terhadap goresan dari kunci atau pasir).
  • Kinerja AF: Modifikasi permukaan film dengan target yang mengandung fluor (misalnya, fluoropolimer turunan CF₄) untuk mengurangi energi permukaan (≤ 20 mN/m), membuat tetesan air/minyak mudah menggelinding dan mencegah pelekatan sidik jari.

2. Fitur Inti

2.1 Keunggulan Kinerja Film

• Integrasi Fungsi Ganda: Secara bersamaan mencapai ketahanan goresan tinggi (AS) dan efek anti-sidik jari yang tahan lama (AF), menghindari kebutuhan pelapisan sekunder.
• Kualitas Film Unggul: Proses sputtering magnetron menghasilkan film dengan kepadatan tinggi (≥ 98% dari kepadatan teoretis target), adhesi substrat yang kuat (uji potong silang ≥ 4B), dan ketebalan seragam (kesalahan ≤ ±5%).
• Daya Tahan Stabil: Efek AF tetap efektif setelah gesekan 500+ kali (dengan beban 500g) atau 200+ kali pengelapan alkohol; Kinerja AS tidak menurun setelah gesekan wol baja 1000+ kali.

2.2 Keunggulan Teknis Peralatan

• Adaptasi Substrat yang Luas: Kompatibel dengan substrat datar/3D dari bahan yang berbeda (kaca, paduan aluminium, PC, PET) dan ukuran (dari 300×300mm hingga 1800×2400mm).
• Perlindungan Lingkungan: Tidak ada pelarut organik (tidak seperti pelapisan basah), tidak ada emisi limbah cair/gas, sesuai dengan RoHS, REACH, dan standar lingkungan internasional lainnya.
• Kontrol Cerdas: Dilengkapi dengan sistem PLC + layar sentuh, mendukung kontrol tekanan otomatis, pengaturan arus target, dan pengaturan waktu pelapisan; pemantauan real-time derajat vakum, suhu, dan ketebalan film.
• Efisiensi Tinggi: Mengadopsi konfigurasi multi-target (2 ~ 6 target) dan ban berjalan terus menerus (untuk substrat lembaran) atau rotasi planet (untuk bagian 3D), mencapai kecepatan pelapisan 0,5 ~ 3 m/menit (dapat disesuaikan dengan ketebalan film).

3. Poin Penjualan (Nilai Berorientasi Pasar)

3.1 Memecahkan Masalah Pelanggan

• Menghilangkan masalah "goresan mudah + kontaminasi sidik jari" untuk produk kelas atas (misalnya, layar ponsel, kaca otomotif), meningkatkan pengalaman pengguna dan masa pakai produk.
• Menggantikan pelapisan basah tradisional (daya tahan rendah, pencemaran lingkungan) dan pelapisan penguapan (kepadatan film rendah), mengurangi tingkat perbaikan pasca-pelapisan sebesar ≥ 30%.

3.2 Efektivitas Biaya

• Biaya Operasi Rendah: Tingkat pemanfaatan bahan target mencapai 70% ~ 85% (lebih tinggi dari pelapisan penguapan 30% ~ 50%), dan konsumsi energi sistem vakum 20% lebih rendah dari peralatan serupa.
• Kompatibilitas Produksi Massal: Desain pelapisan berkelanjutan mendukung operasi 24/7, dengan output harian satu mesin (untuk kaca ponsel 5 inci) hingga 10.000 buah.

3.3 Kustomisasi & Kepatuhan

• Parameter film yang dapat disesuaikan: Sesuaikan jenis target (misalnya, SiO₂ + fluoropolimer untuk AS AF transparansi tinggi; TiN + fluoropolimer untuk AS AF logam) dan ketebalan film (50 ~ 500 nm) untuk memenuhi kebutuhan industri yang berbeda.
• Memenuhi standar kualitas internasional: Film lulus uji semprotan garam (48 jam), uji suhu tinggi dan kelembaban (85℃/85% RH, 1000 jam), dan uji penuaan UV (1000 jam).

4. Bidang Aplikasi

5. Parameter Teknis Utama