全自動AF材料磁気スパッタリング成膜装置 指紋防止スパッタコーティング機

AF磁気スパッタリングコーター（指紋防止）は、ケルン真空独自のイオン源アシスト、磁気中間周波リアクティブスパッタリング、蒸着コーティングプロセスの高度なコーティング技術を採用しており、AF膜層の品質を大幅に向上させています。AF磁気スパッタリングコーターの製品は、欧州CE規格に適合しています。

AS AFフィルムPVDマグネトロンスパッタリングコーティングマシンの詳細な紹介

1. 動作原理

このマシンは、物理蒸着（PVD）とマグネトロンスパッタリング技術を統合して、耐スクラッチ（AS）と指紋防止（AF）の両方の機能を備えたフィルムを製造します。主なプロセスは次のとおりです。

• 真空環境の確立: コーティングチャンバーを高真空（10⁻³～10⁻⁵ Pa）に排気し、膜形成を妨げる空気分子を除去します。
• ガスイオン化: 不活性ガス（通常はアルゴン、Ar）をチャンバーに導入します。高電圧の電気により、ArがAr⁺イオンと自由電子にイオン化されます。
• 磁場閉じ込め: ターゲット（コーティング材料源）内の永久磁石が強力な磁場を生成し、自由電子をターゲット表面付近に閉じ込めます。閉じ込められた電子はさらに多くのAr原子と衝突し、Arのイオン化率を増加させます。
• ターゲットスパッタリング: Ar⁺イオンが電界によって加速され、ターゲット表面に衝突します。ターゲット原子（または分子）がはじき飛ばされ、「粒子流」（スパッタ粒子）が形成されます。
• 膜の堆積: スパッタ粒子が基板（例：ガラス、金属、プラスチック）に飛散し、その表面に堆積して、緻密で均一な膜を形成します。
• AS & AF機能の実現:
  • AS性能: 高硬度ターゲット（例：SiO₂、DLCダイヤモンドライクカーボン、Al₂O₃）を選択して、膜硬度が6H～9Hに達するようにします（キーや砂による傷に強い）。
  • AF性能: フッ素含有ターゲット（例：CF₄由来のフッ素ポリマー）で膜表面を修飾して、表面エネルギー（≤20 mN/m）を低減し、水/油滴が簡単に転がり落ち、指紋の付着を防ぎます。

2. 主な特徴

2.1 フィルム性能の利点

• デュアル機能統合: 高い耐スクラッチ性（AS）と長持ちする指紋防止（AF）効果を同時に実現し、二次コーティングの必要性を回避します。
• 優れたフィルム品質: マグネトロンスパッタリングプロセスは、高密度（≥ターゲットの理論密度98％）、強力な基板密着性（クロスカット試験≥4B）、および均一な厚さ（誤差≤±5％）のフィルムを生成します。
• 安定した耐久性: AF効果は、500回以上の摩擦（500gの負荷）または200回以上のアルコール拭き取り後も有効です。AS性能は、1000回以上のスチールウール摩擦後も劣化しません。

2.2 装置の技術的利点

• 幅広い基板適応性: さまざまな材料（ガラス、アルミニウム合金、PC、PET）とサイズ（300×300mmから1800×2400mm）の平坦/3D基板に対応しています。
• 環境保護: 有機溶剤を使用せず（湿式コーティングとは異なり）、廃液/ガス排出がなく、RoHS、REACH、およびその他の国際環境基準に準拠しています。
• インテリジェント制御: PLC + タッチスクリーンシステムを搭載し、自動圧力制御、ターゲット電流調整、コーティング時間設定をサポートしています。真空度、温度、膜厚をリアルタイムで監視します。
• 高効率: マルチターゲット構成（2～6ターゲット）と連続コンベアベルト（シート基板用）またはプラネタリ回転（3D部品用）を採用し、0.5～3 m/minのコーティング速度を実現します（膜厚で調整可能）。

3. セールスポイント（市場志向の価値）

3.1 顧客の課題を解決

• ハイエンド製品（例：携帯電話の画面、自動車ガラス）の「傷つきやすさ+指紋の付着」の問題を解消し、製品のユーザーエクスペリエンスと寿命を向上させます。
• 従来の湿式コーティング（耐久性が低い、環境汚染）および蒸着コーティング（膜密度が低い）に代わり、コーティング後の修理率を≥30％削減します。

3.2 コスト効率

• 低い運用コスト: ターゲット材料の利用率は70％～85％に達し（蒸着コーティングの30％～50％よりも高い）、真空システムのエネルギー消費量は同様の装置よりも20％低くなっています。
• 大量生産互換性: 連続コーティング設計は24時間365日の運用をサポートし、1台の機械の1日の出力（5インチ携帯電話ガラスの場合）は最大10,000個です。

3.3 カスタマイズとコンプライアンス

• カスタマイズ可能なフィルムパラメータ：ターゲットの種類（例：高透明AS AF用のSiO₂ + フッ素ポリマー、メタリックAS AF用のTiN + フッ素ポリマー）と膜厚（50～500 nm）を調整して、さまざまな業界のニーズに対応します。
• 国際品質基準に適合：フィルムは、塩水噴霧試験（48時間）、高温多湿試験（85℃/85％RH、1000時間）、およびUVエージング試験（1000時間）に合格しています。

4. 適用分野

5. 主な技術パラメータ