Volautomatische AF-materiaal magnetische sputterfilmcoatingapparatuur Anti-vingerafdruk sputtercoatingmachine
volautomatische AF-sputtercoatingmachine
,magnetische sputterfilmcoatingapparatuur
,anti-vingerafdruk vacuümcoatingmachine
AF Magnetic Sputtering Coater (anti-vingerafdruk) past de geavanceerde coatingtechnologie toe van Kerun Vacuum's unieke ionenbronondersteuning, magnetisch reactief sputter- en verdampingscoatingproces met middenfrequentie, wat de kwaliteit van de AF-filmlaag aanzienlijk verbetert. De producten uit de AF magnetische sputtercoate kunnen voldoen aan de Europese CE-norm.
Gedetailleerde introductie van AS AF Film PVD Magnetron Sputtering Coating Machine
1. Werkingsprincipe
De machine integreertFysische dampafzetting (PVD)Enmagnetronsputtertechnologieom films voor te bereiden met zowel Anti-Scratch (AS) als Anti-Fingerprint (AF) functies. Het kernproces is als volgt:
- Oprichting van een vacuümomgeving: De coatingkamer wordt naar een hoog vacuüm (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) gepompt om luchtmoleculen te verwijderen die de filmvorming verstoren.
- Gasionisatie: Inert gas (meestal argon, Ar) wordt in de kamer gebracht. Hoogspanningselektriciteit ioniseert Ar in Ar⁺-ionen en vrije elektronen.
- Magnetische veldbeperking: Een permanente magneet in het doel (bron van coatingmateriaal) genereert een sterk magnetisch veld, dat vrije elektronen in de buurt van het doeloppervlak opvangt. De opgesloten elektronen botsen met meer Ar-atomen, waardoor de ionisatiesnelheid van Ar toeneemt.
- Doel sputteren: Ar⁺-ionen worden versneld door het elektrische veld om het doeloppervlak te bombarderen. De doelatomen (of moleculen) worden afgestoten en vormen een ‘deeltjesstroom’ (sputterdeeltjes).
- Filmafzetting: Gesputterde deeltjes vliegen naar het substraat (bijv. glas, metaal, plastic) en zetten zich af op het oppervlak, waardoor een dichte, uniforme film ontstaat.
- AS & AF-functierealisatie:
- AS-prestaties: Selecteer doelen met een hoge hardheid (bijv. SiO₂, DLC diamantachtige koolstof, Al₂O₃) om ervoor te zorgen dat de filmhardheid 6H ~ 9H bereikt (bestand tegen krassen door sleutels of zand).
- AF-prestaties: Pas het filmoppervlak aan met fluorhoudende doelen (bijv. CF₄-afgeleide fluorpolymeren) om de oppervlakte-energie te verminderen (≤ 20 mN/m), waardoor water-/oliedruppels gemakkelijk afrollen en hechting van vingerafdrukken wordt voorkomen.
2. Kernfuncties
2.1 Voordelen van filmprestaties
- Dubbele functie-integratie: Bereikt tegelijkertijd een hoge krasbestendigheid (AS) en langdurige anti-vingerafdrukeffecten (AF), waardoor de noodzaak van een secundaire coating wordt vermeden.
- Superieure filmkwaliteit: Het magnetronsputterproces produceert films met een hoge dichtheid (≥ 98% van de theoretische dichtheid van het doel), sterke substraathechting (cross-cut test ≥ 4B) en uniforme dikte (fout ≤ ± 5%).
- Stabiele duurzaamheid: het AF-effect blijft effectief na meer dan 500 keer wrijven (met een belasting van 500 g) of meer dan 200 keer afvegen met alcohol; De AS-prestaties gaan niet achteruit na meer dan 1000 keer staalwolwrijving.
2.2 Technische voordelen van apparatuur
- Brede aanpassingsmogelijkheden voor substraten: Compatibel met platte/3D-substraten van verschillende materialen (glas, aluminiumlegering, PC, PET) en afmetingen (van 300×300 mm tot 1800×2400 mm).
- Milieubescherming: Geen organische oplosmiddelen (in tegenstelling tot natte coating), geen uitstoot van afvalvloeistoffen/-gassen, in overeenstemming met RoHS, REACH en andere internationale milieunormen.
- Intelligente controle: Uitgerust met PLC + touchscreen-systeem, ter ondersteuning van automatische drukregeling, doelstroomregeling en instelling van de coatingtijd; real-time monitoring van de vacuümgraad, temperatuur en filmdikte.
- Hoge efficiëntie: Maakt gebruik van een configuratie met meerdere doelen (2 ~ 6 doelen) en een continue transportband (voor plaatsubstraten) of planetaire rotatie (voor 3D-onderdelen), waardoor een coatingsnelheid van 0,5 ~ 3 m/min wordt bereikt (instelbaar door filmdikte).
3. Verkoopargumenten (marktgerichte waarde)
3.1 Problemen van klanten oplossen
- Elimineert het probleem van "gemakkelijke krassen + vingerafdrukvervuiling" voor hoogwaardige producten (bijvoorbeeld schermen voor mobiele telefoons, autoglas), waardoor de gebruikerservaring en levensduur van het product worden verbeterd.
- Vervangt traditionele natte coating (lage duurzaamheid, milieuvervuiling) en verdampingscoating (lage filmdichtheid), waardoor de reparatiepercentages na het coaten met ≥ 30% worden verminderd.
3.2 Kosteneffectiviteit
- Lage bedrijfskosten: De beoogde materiaalbenuttingsgraad bereikt 70% ~ 85% (hoger dan de 30% ~ 50%) van de verdampingscoating, en het energieverbruik van het vacuümsysteem is 20% lager dan bij vergelijkbare apparatuur.
- Compatibiliteit met massaproductie: Het ontwerp met continue coating ondersteunt 24/7 werking, met een dagelijkse productie van een enkele machine (voor 5-inch glas voor mobiele telefoons) tot 10.000 stuks.
3.3 Maatwerk en compliance
- Aanpasbare filmparameters: Pas doeltypen (bijv. SiO₂ + fluorpolymeer voor AS AF met hoge transparantie; TiN + fluorpolymeer voor metallische AS AF) en filmdikte (50 ~ 500 nm) aan om aan verschillende industriële behoeften te voldoen.
- Voldoet aan internationale kwaliteitsnormen: films voldoen aan de zoutsproeitest (48 uur), hoge temperatuur- en vochtigheidstest (85℃/85% RH, 1000 uur) en UV-verouderingstest (1000 uur).
4. Toepassingsgebieden
| Industrie | Typische producten |
| 3C Elektronica | Schermen/behuizingen voor mobiele telefoons, laptophoezen, tablet-backplanes |
| Automobiel | Voorruiten, middenconsolepanelen, deurgrepen |
| Huishoudelijke apparaten | Deurpanelen koelkast, inductiekookplaten, glas magnetrondeur |
| Optische componenten | Cameralenzen, beeldschermen (OLED/LCD), smartwatch-glas |
| Hardware | Badkamerbenodigdheden (kranen, douchekoppen), keukenmessen |
5. Belangrijkste technische parameters
| Parameter | Specificatie |
| Vacuümgraad (kamer) | ≤ 5×10⁻⁵ Pa |
| Doeltypen | SiO₂, DLC, Al₂O₃, TiN, fluorpolymeren |
| Coatingsnelheid | 0,5 ~ 3 m/min (instelbaar) |
| Filmdiktebereik | 50 ~ 500 nm |
| Substraatgrootte (max.) | 1800×2400 mm (plat); φ300 mm (3D-onderdelen) |
| Voeding | 380V/50Hz (driefasig) |
| Machineafmeting | 4500×1800×2200 mm (L×B×H) |