Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
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Equipamento de revestimento por sputtering magnético de material AF totalmente automático Máquina de revestimento por sputtering anti-impressão digital
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Equipamento de revestimento por sputtering magnético de material AF totalmente automático Máquina de revestimento por sputtering anti-impressão digital

Lugar de origem Guangdong
Marca Lion King
Certificação CE
Detalhes do produto
Método de revestimento:
Magnetron Sputtering
Material Alvo:
AF como liga
Material de revestimento:
COMO
Uniformidade de revestimento:
±5%
Material da Câmara:
Aço inoxidável 304 ou aço carbono
Tamanho do substrato:
Personalizável
Grau de vácuo:
≤10-6 Pa
Espessura do revestimento:
Não especificado
Fonte de energia:
Dc/rf
Sistema de controle:
Controle da tela de toque PLC
Fornecimento de gás:
Vários gases
Sistema de resfriamento:
Resfriamento de Água
Velocidade de revestimento:
1-3 m/min
Modelo:
AF como Máquina de revestimento a vácuo de magneto de filme
Poder alvo:
CC/RF/AC
Tecnologia de revestimento:
Magnetron Sputtering
Alvo de revestimento:
Metal, liga, cerâmica, etc.
Bomba de vácuo:
Bomba de difusão, bomba de palhetas rotativas, bomba de raízes, etc.
Substrato de revestimento:
Vidro, metal, cerâmica, etc.
Tamanho da câmara de vácuo:
Personalizado
Aplicação de revestimento:
Óptico, eletrônico, decorativo, etc.
Aplicativo:
Film Magnetron Sputtering
Temperatura de revestimento:
Baixo
Dureza do revestimento:
Alto
Tecnologia a vácuo:
Revestimento de vácuo
Transparência de revestimento:
Alto
tipo:
Máquina de revestimento de a vácuo da pulverização de magnetron
Adesão de revestimento:
Forte
Substrato:
Vidro
Sistema de vácuo:
Sistema de vácuo de pulverização
Tamanho de revestimento:
Personalizável
Destacar: 

Máquina de revestimento por sputtering AF totalmente automática

,

Equipamento de revestimento por sputtering de filme magnético

,

Máquina de revestimento a vácuo anti-impressão digital

Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima
1
Detalhes da embalagem
Embalagem de caixa de madeira
Tempo de entrega
20
Descrição do produto

AF Magnetic Sputtering Coater (anti-impressão digital) aplica a avançada tecnologia de revestimento da assistência exclusiva de fonte de íons do Kerun Vacuum, pulverização catódica reativa de frequência intermediária magnética e processo de revestimento por evaporação, o que melhora significativamente a qualidade da camada de filme AF. Os produtos do revestimento de pulverização magnética AF podem atender ao padrão europeu CE.



Introdução detalhada à máquina de revestimento por pulverização catódica AS AF Film PVD Magnetron

1. Princípio de funcionamento

A máquina integraDeposição Física de Vapor (PVD)etecnologia de pulverização catódica magnetronpara preparar filmes com funções anti-riscos (AS) e anti-impressão digital (AF). O processo principal é o seguinte:

  • Estabelecimento de Ambiente de Vácuo: A câmara de revestimento é bombeada para alto vácuo (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) para eliminar moléculas de ar que interferem na formação do filme.
  • Ionização de Gás: Gás inerte (geralmente argônio, Ar) é introduzido na câmara. A eletricidade de alta tensão ioniza Ar em íons Ar⁺ e elétrons livres.
  • Confinamento de Campo Magnético: Um ímã permanente dentro do alvo (fonte de material de revestimento) gera um forte campo magnético, que retém elétrons livres perto da superfície do alvo. Os elétrons confinados colidem com mais átomos de Ar, aumentando a taxa de ionização do Ar.
  • Sputtering alvo: Os íons Ar⁺ são acelerados pelo campo elétrico para bombardear a superfície do alvo. Os átomos (ou moléculas) alvo são eliminados e formam um "fluxo de partículas" (partículas pulverizadas).
  • Deposição de Filme: Partículas pulverizadas voam para o substrato (por exemplo, vidro, metal, plástico) e se depositam em sua superfície, formando um filme denso e uniforme.
  • Realização da função AS e AF:
    • Desempenho AS: Selecione alvos de alta dureza (por exemplo, SiO₂, carbono tipo diamante DLC, Al₂O₃) para garantir que a dureza do filme atinja 6H ~ 9H (resistente a arranhões de chaves ou areia).
    • Desempenho AF: Modifique a superfície do filme com alvos contendo flúor (por exemplo, fluoropolímeros derivados de CF₄) para reduzir a energia superficial (≤ 20 mN/m), fazendo com que as gotas de água/óleo rolem facilmente e evitando a adesão de impressões digitais.

2. Recursos principais

2.1 Vantagens do desempenho do filme

  • Integração de dupla função: Alcança simultaneamente alta resistência a arranhões (AS) e efeitos anti-impressão digital (AF) de longa duração, evitando a necessidade de revestimento secundário.
  • Qualidade de filme superior: O processo de pulverização catódica magnetron produz filmes com alta densidade (≥ 98% da densidade teórica do alvo), forte adesão ao substrato (teste de corte transversal ≥ 4B) e espessura uniforme (erro ≤ ±5%).
  • Durabilidade estável: O efeito AF permanece eficaz após mais de 500 vezes de fricção (com carga de 500g) ou mais de 200 vezes de limpeza com álcool; O desempenho do AS não se degrada após mais de 1000 vezes de fricção com lã de aço.

2.2 Vantagens Técnicas do Equipamento

  • Ampla adaptabilidade do substrato: Compatível com substratos planos/3D de diferentes materiais (vidro, liga de alumínio, PC, PET) e tamanhos (de 300×300mm a 1800×2400mm).
  • Proteção Ambiental: Sem solventes orgânicos (ao contrário do revestimento úmido), sem emissões de resíduos líquidos/gases, em conformidade com RoHS, REACH e outras normas ambientais internacionais.
  • Controle Inteligente: Equipado com sistema PLC + touchscreen, suportando controle automático de pressão, regulação de corrente alvo e configuração de tempo de revestimento; monitoramento em tempo real do grau de vácuo, temperatura e espessura do filme.
  • Alta eficiência: Adota configuração multi-alvo (2 ~ 6 alvos) e correia transportadora contínua (para substratos de chapa) ou rotação planetária (para peças 3D), atingindo uma velocidade de revestimento de 0,5 ~ 3 m/min (ajustável pela espessura do filme).

3. Argumentos de venda (valor orientado para o mercado)

3.1 Resolver problemas do cliente

  • Elimina o problema de “arranhões fáceis + contaminação de impressões digitais” para produtos de alta qualidade (por exemplo, telas de telefones celulares, vidros automotivos), melhorando a experiência do usuário e a vida útil do produto.
  • Substitui o revestimento úmido tradicional (baixa durabilidade, poluição ambiental) e o revestimento por evaporação (baixa densidade do filme), reduzindo as taxas de reparo pós-revestimento em ≥ 30%.

3.2 Custo-Efetividade

  • Baixo custo operacional: A taxa de utilização do material alvo atinge 70% ~ 85% (maior do que 30% ~ 50% do revestimento de evaporação), e o consumo de energia do sistema de vácuo é 20% menor do que equipamentos similares.
  • Compatibilidade de produção em massa: O design de revestimento contínuo suporta operação 24 horas por dia, 7 dias por semana, com produção diária de uma única máquina (para vidro de celular de 5 polegadas) de até 10.000 peças.

3.3 Personalização e Conformidade

  • Parâmetros de filme personalizáveis: Ajuste os tipos de alvo (por exemplo, SiO₂ + fluoropolímero para AS AF de alta transparência; TiN + fluoropolímero para AS AF metálico) e espessura do filme (50 ~ 500 nm) para atender às diferentes necessidades da indústria.
  • Atende aos padrões internacionais de qualidade: os filmes passam no teste de névoa salina (48 horas), no teste de alta temperatura e umidade (85 ℃/85% UR, 1.000 horas) e no teste de envelhecimento UV (1.000 horas).

4. Campos de Aplicação


Indústria Produtos Típicos
Eletrônica 3C Telas/invólucros de telefones celulares, capas de laptop, backplanes de tablets
Automotivo Pára-brisas, painéis do console central, maçanetas das portas
Eletrodomésticos Painéis das portas do refrigerador, superfícies do cooktop de indução, vidro da porta do micro-ondas
Componentes Ópticos Lentes de câmera, telas (OLED/LCD), vidro de relógio inteligente
Hardware Ferragens de banheiro (torneiras, chuveiros), lâminas de faca de cozinha

5. Principais parâmetros técnicos


Parâmetro Especificação
Grau de Vácuo (Câmara) ≤ 5×10⁻⁵Pa
Tipos de destino SiO₂, DLC, Al₂O₃, TiN, Fluoropolímeros
Velocidade de revestimento 0,5 ~ 3 m/min (ajustável)
Faixa de espessura do filme 50 ~ 500nm
Tamanho do substrato (máx.) 1800×2400 mm (plano); φ300 mm (peças 3D)
Fonte de energia 380V/50Hz (trifásico)
Dimensão da Máquina 4500×1800×2200 mm (C×L×A)

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