Equipamento de revestimento por sputtering magnético de material AF totalmente automático Máquina de revestimento por sputtering anti-impressão digital

O Revestidor de Sputtering Magnético AF (anti-impressão digital) aplica a avançada tecnologia de revestimento da assistência de fonte de íons exclusiva da Kerun Vacuum, sputtering reativo de frequência intermediária magnética e processo de revestimento por evaporação, o que melhora significativamente a qualidade da camada de filme AF. Os produtos do revestidor de sputtering magnético AF podem atender ao padrão CE europeu.

Introdução Detalhada à Máquina de Revestimento por Sputtering de Magnetron PVD de Filme AS AF

1. Princípio de Funcionamento

A máquina integra Deposição Física de Vapor (PVD) e tecnologia de sputtering de magnetron para preparar filmes com funções Anti-Risco (AS) e Anti-Impressão Digital (AF). O processo principal é o seguinte:

• Estabelecimento de Ambiente de Vácuo: A câmara de revestimento é bombeada para um alto vácuo (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) para eliminar moléculas de ar que interferem na formação do filme.
• Ionização de Gás: Gás inerte (geralmente argônio, Ar) é introduzido na câmara. Eletricidade de alta voltagem ioniza o Ar em íons Ar⁺ e elétrons livres.
• Confinamento de Campo Magnético: Um ímã permanente dentro do alvo (fonte de material de revestimento) gera um forte campo magnético, que prende elétrons livres perto da superfície do alvo. Os elétrons confinados colidem com mais átomos de Ar, aumentando a taxa de ionização do Ar.
• Sputtering do Alvo: Íons Ar⁺ são acelerados pelo campo elétrico para bombardear a superfície do alvo. Os átomos (ou moléculas) do alvo são removidos e formam um "fluxo de partículas" (partículas pulverizadas).
• Deposição do Filme: As partículas pulverizadas voam para o substrato (por exemplo, vidro, metal, plástico) e se depositam em sua superfície, formando um filme denso e uniforme.
• Realização da Função AS & AF:
  • Desempenho AS: Selecione alvos de alta dureza (por exemplo, SiO₂, carbono tipo diamante DLC, Al₂O₃) para garantir que a dureza do filme atinja 6H ~ 9H (resistente a arranhões de chaves ou areia).
  • Desempenho AF: Modifique a superfície do filme com alvos contendo flúor (por exemplo, fluoropolímeros derivados de CF₄) para reduzir a energia superficial (≤ 20 mN/m), fazendo com que gotas de água/óleo rolem facilmente e evitando a adesão de impressões digitais.

2. Principais Características

2.1 Vantagens de Desempenho do Filme

• Integração de Dupla Função: Consegue simultaneamente alta resistência a arranhões (AS) e efeitos anti-impressão digital de longa duração (AF), evitando a necessidade de revestimento secundário.
• Qualidade Superior do Filme: O processo de sputtering de magnetron produz filmes com alta densidade (≥ 98% da densidade teórica do alvo), forte adesão ao substrato (teste de corte cruzado ≥ 4B) e espessura uniforme (erro ≤ ±5%).
• Durabilidade Estável: O efeito AF permanece eficaz após mais de 500 vezes de fricção (com carga de 500g) ou mais de 200 vezes de limpeza com álcool; o desempenho AS não se degrada após mais de 1000 vezes de fricção com palha de aço.

2.2 Vantagens Técnicas do Equipamento

• Ampla Adaptabilidade do Substrato: Compatível com substratos planos/3D de diferentes materiais (vidro, liga de alumínio, PC, PET) e tamanhos (de 300×300mm a 1800×2400mm).
• Proteção Ambiental: Sem solventes orgânicos (ao contrário do revestimento úmido), sem emissões de resíduos líquidos/gasosos, em conformidade com RoHS, REACH e outros padrões ambientais internacionais.
• Controle Inteligente: Equipado com sistema PLC + tela sensível ao toque, suportando controle automático de pressão, regulação da corrente do alvo e configuração do tempo de revestimento; monitoramento em tempo real do grau de vácuo, temperatura e espessura do filme.
• Alta Eficiência: Adota configuração multi-alvo (2 ~ 6 alvos) e correia transportadora contínua (para substratos em folha) ou rotação planetária (para peças 3D), atingindo uma velocidade de revestimento de 0,5 ~ 3 m/min (ajustável pela espessura do filme).

3. Pontos de Venda (Valor Orientado ao Mercado)

3.1 Soluciona as Dores do Cliente

• Elimina o problema de "arranhões fáceis + contaminação por impressões digitais" para produtos de alta qualidade (por exemplo, telas de telefones celulares, vidro automotivo), melhorando a experiência do usuário e a vida útil do produto.
• Substitui o revestimento úmido tradicional (baixa durabilidade, poluição ambiental) e o revestimento por evaporação (baixa densidade do filme), reduzindo as taxas de reparo pós-revestimento em ≥ 30%.

3.2 Custo-Benefício

• Baixo Custo Operacional: A taxa de utilização do material do alvo atinge 70% ~ 85% (superior à taxa de 30% ~ 50% do revestimento por evaporação), e o consumo de energia do sistema de vácuo é 20% menor do que o de equipamentos semelhantes.
• Compatibilidade com Produção em Massa: O design de revestimento contínuo suporta operação 24 horas por dia, 7 dias por semana, com uma produção diária de uma única máquina (para vidro de telefone celular de 5 polegadas) de até 10.000 peças.

3.3 Personalização e Conformidade

• Parâmetros de filme personalizáveis: Ajuste os tipos de alvo (por exemplo, SiO₂ + fluoropolímero para AS AF de alta transparência; TiN + fluoropolímero para AS AF metálico) e a espessura do filme (50 ~ 500 nm) para atender às diferentes necessidades da indústria.
• Atende aos padrões internacionais de qualidade: Os filmes passam no teste de névoa salina (48 horas), teste de alta temperatura e umidade (85℃/85% UR, 1000 horas) e teste de envelhecimento UV (1000 horas).

4. Campos de Aplicação

5. Principais Parâmetros Técnicos