Vollautomatisierte AF-Material-Magnetronsputter-Beschichtungsanlage, Anti-Fingerabdruck-Sputterbeschichtungsmaschine
Vollautomatische AF-Sputterbeschichtungsmaschine
,Magnetronsputter-Beschichtungsanlage
,Anti-Fingerabdruck-Vakuum-Beschichtungsmaschine
Der AF Magnetic Sputtering Coater (Anti-Fingerprint) nutzt die fortschrittliche Beschichtungstechnologie der einzigartigen Ionenquellenunterstützung, des magnetischen Zwischenfrequenz-Reaktivsputterns und des Verdampfungsbeschichtungsverfahrens von Kerun Vacuum, was die Qualität der AF-Filmschicht erheblich verbessert. Die Produkte der AF-Magnetsputtern-Beschichtung können die europäische CE-Norm erfüllen.
Detaillierte Einführung in die AS AF Film PVD Magnetron Sputtering Beschichtungsmaschine
1. Funktionsprinzip
Die Maschine integriertPhysikalische Gasphasenabscheidung (PVD)UndMagnetron-Sputtering-Technologiezur Vorbereitung von Filmen mit den Funktionen Anti-Scratch (AS) und Anti-Fingerprint (AF). Der Kernprozess ist wie folgt:
- Vakuumumgebungseinrichtung: Die Beschichtungskammer wird auf ein Hochvakuum (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) gepumpt, um Luftmoleküle zu entfernen, die die Filmbildung stören.
- Gasionisation: In die Kammer wird Inertgas (normalerweise Argon, Ar) eingeleitet. Hochspannungsstrom ionisiert Ar in Ar⁺-Ionen und freie Elektronen.
- Einschluss magnetischer Felder: Ein Permanentmagnet im Inneren des Targets (Beschichtungsmaterialquelle) erzeugt ein starkes Magnetfeld, das freie Elektronen in der Nähe der Targetoberfläche einfängt. Die eingeschlossenen Elektronen kollidieren mit mehr Ar-Atomen und erhöhen so die Ionisierungsrate von Ar.
- Target-Sputtern: Ar⁺-Ionen werden durch das elektrische Feld beschleunigt, um die Zieloberfläche zu bombardieren. Die Zielatome (bzw. Moleküle) werden abgeschlagen und bilden einen „Partikelstrom“ (zerstäubte Partikel).
- Filmabscheidung: Zerstäubte Partikel fliegen zum Substrat (z. B. Glas, Metall, Kunststoff) und lagern sich auf dessen Oberfläche ab und bilden einen dichten, gleichmäßigen Film.
- AS- und AF-Funktionsrealisierung:
- AS-Leistung: Wählen Sie Ziele mit hoher Härte (z. B. SiO₂, diamantähnlicher DLC-Kohlenstoff, Al₂O₃), um sicherzustellen, dass die Filmhärte 6H ~ 9H erreicht (beständig gegen Kratzer durch Schlüssel oder Sand).
- AF-Leistung: Modifizieren Sie die Filmoberfläche mit fluorhaltigen Zielen (z. B. von CF₄ abgeleiteten Fluorpolymeren), um die Oberflächenenergie (≤ 20 mN/m) zu reduzieren, wodurch Wasser-/Öltröpfchen leicht abperlen und das Anhaften von Fingerabdrücken verhindert wird.
2. Kernfunktionen
2.1 Vorteile der Filmleistung
- Dual-Funktions-Integration: Erzielt gleichzeitig eine hohe Kratzfestigkeit (AS) und einen lang anhaltenden Anti-Fingerprint-Effekt (AF), sodass keine Zweitbeschichtung erforderlich ist.
- Überlegene Filmqualität: Der Magnetron-Sputterprozess erzeugt Filme mit hoher Dichte (≥ 98 % der theoretischen Dichte des Targets), starker Substrathaftung (Gitterschnitttest ≥ 4B) und gleichmäßiger Dicke (Fehler ≤ ±5 %).
- Stabile Haltbarkeit: Der AF-Effekt bleibt auch nach mehr als 500-maliger Reibung (bei einer Last von 500 g) oder mehr als 200-maligem Abwischen mit Alkohol wirksam; Die AS-Leistung nimmt nach mehr als 1000-maliger Stahlwollereibung nicht ab.
2.2 Technische Vorteile der Ausrüstung
- Breite Substratanpassungsfähigkeit: Kompatibel mit flachen/3D-Substraten aus verschiedenen Materialien (Glas, Aluminiumlegierung, PC, PET) und Größen (von 300 x 300 mm bis 1800 x 2400 mm).
- Umweltschutz: Keine organischen Lösungsmittel (im Gegensatz zur Nassbeschichtung), keine Emissionen von Abfallflüssigkeiten/-gasen, Einhaltung von RoHS, REACH und anderen internationalen Umweltstandards.
- Intelligente Steuerung: Ausgestattet mit einem SPS- und Touchscreen-System, das die automatische Druckregelung, die Zielstromregelung und die Einstellung der Beschichtungszeit unterstützt; Echtzeitüberwachung von Vakuumgrad, Temperatur und Filmdicke.
- Hohe Effizienz: Nimmt eine Multi-Target-Konfiguration (2 ~ 6 Targets) und ein kontinuierliches Förderband (für Blattsubstrate) oder Planetenrotation (für 3D-Teile) an und erreicht eine Beschichtungsgeschwindigkeit von 0,5 ~ 3 m/min (anpassbar an die Filmdicke).
3. Verkaufsargumente (marktorientierter Wert)
3.1 Kundenprobleme lösen
- Beseitigt das Problem „leichter Kratzer und Fingerabdrücke“ bei High-End-Produkten (z. B. Mobiltelefonbildschirme, Autoglas) und verbessert so das Benutzererlebnis und die Lebensdauer des Produkts.
- Ersetzt herkömmliche Nassbeschichtungen (geringe Haltbarkeit, Umweltverschmutzung) und Verdampfungsbeschichtungen (geringe Filmdichte) und reduziert die Reparaturraten nach der Beschichtung um ≥ 30 %.
3.2 Kosteneffizienz
- Niedrige Betriebskosten: Die angestrebte Materialausnutzungsrate erreicht 70 % bis 85 % (höher als 30 % bis 50 % bei der Verdampfungsbeschichtung), und der Energieverbrauch des Vakuumsystems ist 20 % niedriger als bei vergleichbaren Geräten.
- Massenproduktionskompatibilität: Das kontinuierliche Beschichtungsdesign unterstützt den 24/7-Betrieb mit einer Tagesleistung einer einzelnen Maschine (für 5-Zoll-Handyglas) von bis zu 10.000 Stück.
3.3 Anpassung und Compliance
- Anpassbare Filmparameter: Passen Sie die Zieltypen (z. B. SiO₂ + Fluorpolymer für hochtransparentes AS AF; TiN + Fluorpolymer für metallisches AS AF) und die Filmdicke (50–500 nm) an, um den unterschiedlichen Branchenanforderungen gerecht zu werden.
- Erfüllt internationale Qualitätsstandards: Folien bestehen den Salzsprühtest (48 Stunden), den Hochtemperatur- und Feuchtigkeitstest (85 °C/85 % relative Luftfeuchtigkeit, 1000 Stunden) und den UV-Alterungstest (1000 Stunden).
4. Anwendungsgebiete
| Industrie | Typische Produkte |
| 3C Elektronik | Handy-Bildschirme/-Hüllen, Laptop-Hüllen, Tablet-Backplanes |
| Automobil | Windschutzscheiben, Mittelkonsolenverkleidungen, Türgriffe |
| Haushaltsgeräte | Kühlschranktürverkleidungen, Induktionskochfeldoberflächen, Mikrowellentürglas |
| Optische Komponenten | Kameraobjektive, Displays (OLED/LCD), Smartwatch-Glas |
| Hardware | Badezimmerzubehör (Wasserhähne, Duschköpfe), Küchenmesserklingen |
5. Wichtige technische Parameter
| Parameter | Spezifikation |
| Vakuumgrad (Kammer) | ≤ 5×10⁻⁵ Pa |
| Zieltypen | SiO₂, DLC, Al₂O₃, TiN, Fluorpolymere |
| Beschichtungsgeschwindigkeit | 0,5 ~ 3 m/min (einstellbar) |
| Filmdickenbereich | 50 ~ 500 nm |
| Substratgröße (max.) | 1800×2400 mm (flach); φ300 mm (3D-Teile) |
| Stromversorgung | 380V/50Hz (dreiphasig) |
| Maschinendimension | 4500×1800×2200 mm (L×B×H) |