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Vollautomatisierte AF-Material-Magnetronsputter-Beschichtungsanlage, Anti-Fingerabdruck-Sputterbeschichtungsmaschine

Vollautomatisierte AF-Material-Magnetronsputter-Beschichtungsanlage, Anti-Fingerabdruck-Sputterbeschichtungsmaschine
Herkunftsort:Guangdong
Markenname:Lion King
Zertifizierung:CE
Mindestbestellmenge:1
Standard Packaging:Holzkastenverpackung
Lieferzeit:20
Produktdetails
Hervorheben:

Vollautomatische AF-Sputterbeschichtungsmaschine

,

Magnetronsputter-Beschichtungsanlage

,

Anti-Fingerabdruck-Vakuum-Beschichtungsmaschine

Coating Method: Magnetronsputter
Target Material: AF als Legierung
Coating Material: ALS
Coating Uniformity: ±5 %
Chamber Material: Edelstahl 304 oder Kohlenstoffstahl
Substrate Size: Anpassbar
Vacuum Degree: ≤ 10-6 pa
Coating Thickness: Nicht angegeben
Power Supply: DC/RF
Control System: SPS -Touchscreen -Steuerung
Gas Supply: Mehrere Gase
Cooling System: Wasserkühlung
Coating Speed: 1-3 m/min
Model: AF als Film Magnetron Spottering Vakuumbeschichtungsmaschine
Target Power: DC/RF/AC
Coating Technology: Magnetronsputter
Coating Target: Metall, Legierung, Keramik usw.
Vacuum Pump: Diffusionspumpe, Drehschieberpumpe, Wälzkolbenpumpe usw.
Coating Substrate: Glas, Metall, Keramik usw.
Vacuum Chamber Size: Maßgeschneidert
Coating Application: Optisch, elektronisch, dekorativ usw.
Application: Film Magnetron Sputtering
Coating Temperature: Niedrig
Coating Hardness: Hoch
Vacuum Technology: Vakuumbeschichtung
Coating Transparency: Hoch
Type: Vakuumbeschichtungsmaschine für Magnetronsputter
Coating Adhesion: Stark
Substrate: Glas
Vacuum System: Sputter -Vakuumsystem
Coating Size: Anpassbar
Produktbeschreibung
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Der AF Magnetic Sputtering Coater (Anti-Fingerprint) nutzt die fortschrittliche Beschichtungstechnologie der einzigartigen Ionenquellenunterstützung, des magnetischen Zwischenfrequenz-Reaktivsputterns und des Verdampfungsbeschichtungsverfahrens von Kerun Vacuum, was die Qualität der AF-Filmschicht erheblich verbessert. Die Produkte der AF-Magnetsputtern-Beschichtung können die europäische CE-Norm erfüllen.



Detaillierte Einführung in die AS AF Film PVD Magnetron Sputtering Beschichtungsmaschine

1. Funktionsprinzip

Die Maschine integriertPhysikalische Gasphasenabscheidung (PVD)UndMagnetron-Sputtering-Technologiezur Vorbereitung von Filmen mit den Funktionen Anti-Scratch (AS) und Anti-Fingerprint (AF). Der Kernprozess ist wie folgt:

  • Vakuumumgebungseinrichtung: Die Beschichtungskammer wird auf ein Hochvakuum (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) gepumpt, um Luftmoleküle zu entfernen, die die Filmbildung stören.
  • Gasionisation: In die Kammer wird Inertgas (normalerweise Argon, Ar) eingeleitet. Hochspannungsstrom ionisiert Ar in Ar⁺-Ionen und freie Elektronen.
  • Einschluss magnetischer Felder: Ein Permanentmagnet im Inneren des Targets (Beschichtungsmaterialquelle) erzeugt ein starkes Magnetfeld, das freie Elektronen in der Nähe der Targetoberfläche einfängt. Die eingeschlossenen Elektronen kollidieren mit mehr Ar-Atomen und erhöhen so die Ionisierungsrate von Ar.
  • Target-Sputtern: Ar⁺-Ionen werden durch das elektrische Feld beschleunigt, um die Zieloberfläche zu bombardieren. Die Zielatome (bzw. Moleküle) werden abgeschlagen und bilden einen „Partikelstrom“ (zerstäubte Partikel).
  • Filmabscheidung: Zerstäubte Partikel fliegen zum Substrat (z. B. Glas, Metall, Kunststoff) und lagern sich auf dessen Oberfläche ab und bilden einen dichten, gleichmäßigen Film.
  • AS- und AF-Funktionsrealisierung:
    • AS-Leistung: Wählen Sie Ziele mit hoher Härte (z. B. SiO₂, diamantähnlicher DLC-Kohlenstoff, Al₂O₃), um sicherzustellen, dass die Filmhärte 6H ~ 9H erreicht (beständig gegen Kratzer durch Schlüssel oder Sand).
    • AF-Leistung: Modifizieren Sie die Filmoberfläche mit fluorhaltigen Zielen (z. B. von CF₄ abgeleiteten Fluorpolymeren), um die Oberflächenenergie (≤ 20 mN/m) zu reduzieren, wodurch Wasser-/Öltröpfchen leicht abperlen und das Anhaften von Fingerabdrücken verhindert wird.

2. Kernfunktionen

2.1 Vorteile der Filmleistung

  • Dual-Funktions-Integration: Erzielt gleichzeitig eine hohe Kratzfestigkeit (AS) und einen lang anhaltenden Anti-Fingerprint-Effekt (AF), sodass keine Zweitbeschichtung erforderlich ist.
  • Überlegene Filmqualität: Der Magnetron-Sputterprozess erzeugt Filme mit hoher Dichte (≥ 98 % der theoretischen Dichte des Targets), starker Substrathaftung (Gitterschnitttest ≥ 4B) und gleichmäßiger Dicke (Fehler ≤ ±5 %).
  • Stabile Haltbarkeit: Der AF-Effekt bleibt auch nach mehr als 500-maliger Reibung (bei einer Last von 500 g) oder mehr als 200-maligem Abwischen mit Alkohol wirksam; Die AS-Leistung nimmt nach mehr als 1000-maliger Stahlwollereibung nicht ab.

2.2 Technische Vorteile der Ausrüstung

  • Breite Substratanpassungsfähigkeit: Kompatibel mit flachen/3D-Substraten aus verschiedenen Materialien (Glas, Aluminiumlegierung, PC, PET) und Größen (von 300 x 300 mm bis 1800 x 2400 mm).
  • Umweltschutz: Keine organischen Lösungsmittel (im Gegensatz zur Nassbeschichtung), keine Emissionen von Abfallflüssigkeiten/-gasen, Einhaltung von RoHS, REACH und anderen internationalen Umweltstandards.
  • Intelligente Steuerung: Ausgestattet mit einem SPS- und Touchscreen-System, das die automatische Druckregelung, die Zielstromregelung und die Einstellung der Beschichtungszeit unterstützt; Echtzeitüberwachung von Vakuumgrad, Temperatur und Filmdicke.
  • Hohe Effizienz: Nimmt eine Multi-Target-Konfiguration (2 ~ 6 Targets) und ein kontinuierliches Förderband (für Blattsubstrate) oder Planetenrotation (für 3D-Teile) an und erreicht eine Beschichtungsgeschwindigkeit von 0,5 ~ 3 m/min (anpassbar an die Filmdicke).

3. Verkaufsargumente (marktorientierter Wert)

3.1 Kundenprobleme lösen

  • Beseitigt das Problem „leichter Kratzer und Fingerabdrücke“ bei High-End-Produkten (z. B. Mobiltelefonbildschirme, Autoglas) und verbessert so das Benutzererlebnis und die Lebensdauer des Produkts.
  • Ersetzt herkömmliche Nassbeschichtungen (geringe Haltbarkeit, Umweltverschmutzung) und Verdampfungsbeschichtungen (geringe Filmdichte) und reduziert die Reparaturraten nach der Beschichtung um ≥ 30 %.

3.2 Kosteneffizienz

  • Niedrige Betriebskosten: Die angestrebte Materialausnutzungsrate erreicht 70 % bis 85 % (höher als 30 % bis 50 % bei der Verdampfungsbeschichtung), und der Energieverbrauch des Vakuumsystems ist 20 % niedriger als bei vergleichbaren Geräten.
  • Massenproduktionskompatibilität: Das kontinuierliche Beschichtungsdesign unterstützt den 24/7-Betrieb mit einer Tagesleistung einer einzelnen Maschine (für 5-Zoll-Handyglas) von bis zu 10.000 Stück.

3.3 Anpassung und Compliance

  • Anpassbare Filmparameter: Passen Sie die Zieltypen (z. B. SiO₂ + Fluorpolymer für hochtransparentes AS AF; TiN + Fluorpolymer für metallisches AS AF) und die Filmdicke (50–500 nm) an, um den unterschiedlichen Branchenanforderungen gerecht zu werden.
  • Erfüllt internationale Qualitätsstandards: Folien bestehen den Salzsprühtest (48 Stunden), den Hochtemperatur- und Feuchtigkeitstest (85 °C/85 % relative Luftfeuchtigkeit, 1000 Stunden) und den UV-Alterungstest (1000 Stunden).

4. Anwendungsgebiete


Industrie Typische Produkte
3C Elektronik Handy-Bildschirme/-Hüllen, Laptop-Hüllen, Tablet-Backplanes
Automobil Windschutzscheiben, Mittelkonsolenverkleidungen, Türgriffe
Haushaltsgeräte Kühlschranktürverkleidungen, Induktionskochfeldoberflächen, Mikrowellentürglas
Optische Komponenten Kameraobjektive, Displays (OLED/LCD), Smartwatch-Glas
Hardware Badezimmerzubehör (Wasserhähne, Duschköpfe), Küchenmesserklingen

5. Wichtige technische Parameter


Parameter Spezifikation
Vakuumgrad (Kammer) ≤ 5×10⁻⁵ Pa
Zieltypen SiO₂, DLC, Al₂O₃, TiN, Fluorpolymere
Beschichtungsgeschwindigkeit 0,5 ~ 3 m/min (einstellbar)
Filmdickenbereich 50 ~ 500 nm
Substratgröße (max.) 1800×2400 mm (flach); φ300 mm (3D-Teile)
Stromversorgung 380V/50Hz (dreiphasig)
Maschinendimension 4500×1800×2200 mm (L×B×H)
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