Apparecchiatura di rivestimento a film per sputtering magnetico AF Full Auto, macchina per rivestimento a sputtering anti-impronta

AF Magnetic Sputtering Coater (anti-impronta digitale) applica la tecnologia di rivestimento avanzata dell'esclusiva assistenza della sorgente ionica di Kerun Vacuum, lo sputtering reattivo magnetico a frequenza intermedia e il processo di rivestimento ad evaporazione, che migliora significativamente la qualità dello strato di pellicola AF. I prodotti del rivestimento di sputtering magnetico AF possono soddisfare lo standard europeo CE.

Introduzione dettagliata alla macchina per rivestimento sputtering magnetron AS AF Film PVD

1. Principio di funzionamento

La macchina si integraDeposizione fisica da vapore (PVD)Etecnologia di sputtering del magnetronper preparare pellicole con funzione sia Anti-Scratch (AS) che Anti-Fingerprint (AF). Il processo principale è il seguente:

• Creazione dell'ambiente sottovuoto: La camera di rivestimento viene pompata ad alto vuoto (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) per eliminare le molecole d'aria che interferiscono con la formazione del film.
• Ionizzazione del gas: Nella camera viene introdotto gas inerte (solitamente argon, Ar). L’elettricità ad alta tensione ionizza l’Ar in ioni Ar⁺ ed elettroni liberi.
• Confinamento del campo magnetico: Un magnete permanente all'interno del bersaglio (fonte del materiale di rivestimento) genera un forte campo magnetico che intrappola gli elettroni liberi vicino alla superficie del bersaglio. Gli elettroni confinati entrano in collisione con più atomi di Ar, aumentando la velocità di ionizzazione dell'Ar.
• Sputtering del bersaglio: Gli ioni Ar⁺ vengono accelerati dal campo elettrico per bombardare la superficie bersaglio. Gli atomi (o molecole) bersaglio vengono staccati e formano un "flusso di particelle" (particelle polverizzate).
• Deposizione cinematografica: Le particelle polverizzate volano sul substrato (ad esempio vetro, metallo, plastica) e si depositano sulla sua superficie, formando una pellicola densa e uniforme.
• Realizzazione delle funzioni AS e AF:
  • AS Prestazioni: Selezionare target ad elevata durezza (ad es. SiO₂, carbonio DLC simile al diamante, Al₂O₃) per garantire che la durezza della pellicola raggiunga 6H ~ 9H (resistente ai graffi di chiavi o sabbia).
  • Prestazioni AF: Modificare la superficie della pellicola con target contenenti fluoro (ad esempio, fluoropolimeri derivati ​​da CF₄) per ridurre l'energia superficiale (≤ 20 mN/m), facendo sì che le goccioline di acqua/olio rotolino via facilmente e prevengano l'adesione delle impronte digitali.

2. Funzionalità principali

2.1 Vantaggi prestazionali della pellicola

• Integrazione a doppia funzione: Raggiunge contemporaneamente un'elevata resistenza ai graffi (AS) e effetti anti-impronte (AF) di lunga durata, evitando la necessità di un rivestimento secondario.
• Qualità della pellicola superiore: Il processo di sputtering del magnetron produce film con alta densità (≥ 98% della densità teorica del target), forte adesione al substrato (test trasversale ≥ 4B) e spessore uniforme (errore ≤ ±5%).
• Durata stabile: L'effetto AF rimane efficace dopo oltre 500 frizioni (con un carico di 500 g) o oltre 200 volte di pulizia con alcol; Le prestazioni di AS non si degradano dopo oltre 1000 volte di attrito con la lana d'acciaio.

2.2 Vantaggi tecnici dell'attrezzatura

• Ampia adattabilità al substrato: Compatibile con substrati piani/3D di diversi materiali (vetro, lega di alluminio, PC, PET) e dimensioni (da 300×300 mm a 1800×2400 mm).
• Protezione ambientale: Nessun solvente organico (a differenza del rivestimento umido), nessuna emissione di liquidi/gas di scarto, conformità a RoHS, REACH e altri standard ambientali internazionali.
• Controllo intelligente: Dotato di sistema PLC + touchscreen, che supporta il controllo automatico della pressione, la regolazione della corrente target e l'impostazione del tempo di rivestimento; monitoraggio in tempo reale del grado di vuoto, della temperatura e dello spessore del film.
• Alta efficienza: Adotta la configurazione multi-target (2 ~ 6 target) e un nastro trasportatore continuo (per substrati in fogli) o rotazione planetaria (per parti 3D), raggiungendo una velocità di rivestimento di 0,5 ~ 3 m/min (regolabile in base allo spessore del film).

3. Punti di vendita (valore orientato al mercato)

3.1 Risolvere i problemi dei clienti

• Elimina il problema dei "graffi facili + contaminazione delle impronte digitali" per i prodotti di fascia alta (ad esempio, schermi di telefoni cellulari, vetri di automobili), migliorando l'esperienza dell'utente e la durata della vita del prodotto.
• Sostituisce il tradizionale rivestimento a umido (bassa durabilità, inquinamento ambientale) e il rivestimento ad evaporazione (bassa densità del film), riducendo i tassi di riparazione post-rivestimento ≥ 30%.

3.2 Rapporto costo-efficacia

• Basso costo operativo: Il tasso di utilizzo del materiale target raggiunge il 70% ~ 85% (superiore al 30% ~ 50% del rivestimento per evaporazione) e il consumo energetico del sistema di vuoto è inferiore del 20% rispetto ad apparecchiature simili.
• Compatibilità con la produzione di massa: Il design del rivestimento continuo supporta il funzionamento 24 ore su 24, 7 giorni su 7, con la produzione giornaliera di una singola macchina (per vetro di telefoni cellulari da 5 pollici) fino a 10.000 pezzi.

3.3 Personalizzazione e conformità

• Parametri della pellicola personalizzabili: regola i tipi di target (ad esempio, SiO₂ + fluoropolimero per AS AF ad alta trasparenza; TiN + fluoropolimero per AS AF metallico) e lo spessore della pellicola (50 ~ 500 nm) per soddisfare le diverse esigenze del settore.
• Soddisfa gli standard di qualità internazionali: le pellicole superano il test in nebbia salina (48 ore), il test ad alta temperatura e umidità (85 ℃/85% RH, 1000 ore) e il test di invecchiamento UV (1000 ore).

4. Campi di applicazione

5. Parametri tecnici chiave