Εξοπλισμός επίστρωσης φιλμ με μαγνητικό sputtering AF Full Auto, μηχανή επίστρωσης με ψεκασμό κατά των δακτυλικών αποτυπωμάτων

AF Magnetic Sputtering Coater (αντι-δακτυλικό αποτύπωμα) εφαρμόζει την προηγμένη τεχνολογία επίστρωσης της μοναδικής βοήθειας πηγής ιόντων της Kerun Vacuum, μαγνητικό ενδιάμεσο ρεύμα συχνότητας αντιδραστικής εκτόξευσης και διαδικασία επίστρωσης εξάτμισης, η οποία βελτιώνει σημαντικά την ποιότητα του στρώματος φιλμ AF. Τα προϊόντα από το AF magnetic sputtering coater μπορούν να πληρούν το ευρωπαϊκό πρότυπο CE.

Λεπτομερής Εισαγωγή στο AS AF Film PVD Magnetron Sputtering Coating Machine

1. Αρχή Λειτουργίας

Το μηχάνημα ενσωματώνει Physical Vapor Deposition (PVD) και τεχνολογία εκτόξευσης μαγνητρονίου για την προετοιμασία φιλμ με λειτουργίες Anti-Scratch (AS) και Anti-Fingerprint (AF). Η βασική διαδικασία έχει ως εξής:

• Δημιουργία Περιβάλλοντος κενού: Ο θάλαμος επίστρωσης αντλείται σε υψηλό κενό (10⁻³ ~ 10⁻⁵ Pa) για την εξάλειψη των μορίων αέρα που παρεμβαίνουν στον σχηματισμό φιλμ.
• Ιονισμός αερίου: Αδρανές αέριο (συνήθως αργό, Ar) εισάγεται στον θάλαμο. Η υψηλής τάσης ηλεκτρική ενέργεια ιονίζει το Ar σε ιόντα Ar⁺ και ελεύθερα ηλεκτρόνια.
• Περιορισμός μαγνητικού πεδίου: Ένας μόνιμος μαγνήτης μέσα στον στόχο (πηγή υλικού επίστρωσης) δημιουργεί ένα ισχυρό μαγνητικό πεδίο, το οποίο παγιδεύει ελεύθερα ηλεκτρόνια κοντά στην επιφάνεια του στόχου. Τα περιορισμένα ηλεκτρόνια συγκρούονται με περισσότερα άτομα Ar, αυξάνοντας τον ρυθμό ιονισμού του Ar.
• Εκτόξευση στόχου: Τα ιόντα Ar⁺ επιταχύνονται από το ηλεκτρικό πεδίο για να βομβαρδίσουν την επιφάνεια του στόχου. Τα άτομα (ή μόρια) του στόχου απομακρύνονται και σχηματίζουν μια «ροή σωματιδίων» (εκτοξευμένα σωματίδια).
• Εναπόθεση φιλμ: Τα εκτοξευμένα σωματίδια πετούν στο υπόστρωμα (π.χ., γυαλί, μέταλλο, πλαστικό) και εναποτίθενται στην επιφάνειά του, σχηματίζοντας ένα πυκνό, ομοιόμορφο φιλμ.
• Υλοποίηση λειτουργίας AS & AF:
  • Απόδοση AS: Επιλέξτε στόχους υψηλής σκληρότητας (π.χ., SiO₂, DLC diamond-like carbon, Al₂O₃) για να διασφαλίσετε ότι η σκληρότητα του φιλμ φτάνει 6H ~ 9H (ανθεκτικό στις γρατσουνιές από κλειδιά ή άμμο).
  • Απόδοση AF: Τροποποιήστε την επιφάνεια του φιλμ με στόχους που περιέχουν φθόριο (π.χ., φθοροπολυμερή που προέρχονται από CF₄) για να μειώσετε την επιφανειακή ενέργεια (≤ 20 mN/m), κάνοντας τις σταγόνες νερού/λαδιού να κυλούν εύκολα και αποτρέποντας την προσκόλληση δακτυλικών αποτυπωμάτων.

2. Βασικά Χαρακτηριστικά

2.1 Πλεονεκτήματα απόδοσης φιλμ

• Ενσωμάτωση διπλής λειτουργίας: Επιτυγχάνει ταυτόχρονα υψηλή αντοχή στις γρατσουνιές (AS) και μακροχρόνια αποτελέσματα κατά των δακτυλικών αποτυπωμάτων (AF), αποφεύγοντας την ανάγκη για δευτερεύουσα επίστρωση.
• Ανώτερη ποιότητα φιλμ: Η διαδικασία εκτόξευσης μαγνητρονίου παράγει φιλμ με υψηλή πυκνότητα (≥ 98% της θεωρητικής πυκνότητας του στόχου), ισχυρή πρόσφυση υποστρώματος (δοκιμή cross-cut ≥ 4B) και ομοιόμορφο πάχος (σφάλμα ≤ ±5%).
• Σταθερή ανθεκτικότητα: Το αποτέλεσμα AF παραμένει αποτελεσματικό μετά από 500+ φορές τριβής (με φορτίο 500g) ή 200+ φορές σκουπίσματος με αλκοόλ. Η απόδοση AS δεν υποβαθμίζεται μετά από 1000+ φορές τριβής με ατσάλινο μαλλί.

2.2 Τεχνικά πλεονεκτήματα εξοπλισμού

• Ευρεία προσαρμοστικότητα υποστρώματος: Συμβατό με επίπεδα/3D υποστρώματα διαφορετικών υλικών (γυαλί, κράμα αλουμινίου, PC, PET) και μεγεθών (από 300×300mm έως 1800×2400mm).
• Προστασία του περιβάλλοντος: Χωρίς οργανικούς διαλύτες (σε αντίθεση με την υγρή επίστρωση), χωρίς εκπομπές υγρών/αερίων αποβλήτων, σύμφωνα με τα πρότυπα RoHS, REACH και άλλα διεθνή περιβαλλοντικά πρότυπα.
• Έξυπνος έλεγχος: Εξοπλισμένο με σύστημα PLC + οθόνη αφής, υποστηρίζοντας αυτόματο έλεγχο πίεσης, ρύθμιση ρεύματος στόχου και ρύθμιση χρόνου επίστρωσης. παρακολούθηση σε πραγματικό χρόνο του βαθμού κενού, της θερμοκρασίας και του πάχους του φιλμ.
• Υψηλή απόδοση: Υιοθετεί διαμόρφωση πολλαπλών στόχων (2 ~ 6 στόχοι) και συνεχόμενη ταινία μεταφοράς (για υποστρώματα φύλλων) ή πλανητική περιστροφή (για 3D μέρη), επιτυγχάνοντας ταχύτητα επίστρωσης 0,5 ~ 3 m/min (ρυθμιζόμενη από το πάχος του φιλμ).

3. Σημεία πώλησης (Αξία προσανατολισμένη στην αγορά)

3.1 Επίλυση των προβλημάτων των πελατών

• Εξαλείφει το πρόβλημα των «εύκολων γρατσουνιών + μόλυνσης από δακτυλικά αποτυπώματα» για προϊόντα υψηλής ποιότητας (π.χ., οθόνες κινητών τηλεφώνων, γυαλί αυτοκινήτων), βελτιώνοντας την εμπειρία χρήστη και τη διάρκεια ζωής του προϊόντος.
• Αντικαθιστά την παραδοσιακή υγρή επίστρωση (χαμηλή ανθεκτικότητα, περιβαλλοντική ρύπανση) και την επίστρωση εξάτμισης (χαμηλή πυκνότητα φιλμ), μειώνοντας τα ποσοστά επισκευής μετά την επίστρωση κατά ≥ 30%.

3.2 Αποτελεσματικότητα κόστους

• Χαμηλό λειτουργικό κόστος: Ο ρυθμός χρήσης υλικού στόχου φτάνει το 70% ~ 85% (υψηλότερο από το 30% ~ 50% της επίστρωσης εξάτμισης) και η κατανάλωση ενέργειας του συστήματος κενού είναι 20% χαμηλότερη από τον παρόμοιο εξοπλισμό.
• Συμβατότητα μαζικής παραγωγής: Ο συνεχής σχεδιασμός επίστρωσης υποστηρίζει 24/7 λειτουργία, με ημερήσια παραγωγή ενός μηχανήματος (για γυαλί κινητού τηλεφώνου 5 ιντσών) έως και 10.000 τεμάχια.

3.3 Προσαρμογή & Συμμόρφωση

• Προσαρμόσιμες παράμετροι φιλμ: Προσαρμόστε τους τύπους στόχων (π.χ., SiO₂ + φθοροπολυμερές για AS AF υψηλής διαφάνειας, TiN + φθοροπολυμερές για μεταλλικό AS AF) και το πάχος του φιλμ (50 ~ 500 nm) για να καλύψετε διαφορετικές ανάγκες της βιομηχανίας.
• Πληροί τα διεθνή πρότυπα ποιότητας: Τα φιλμ περνούν τη δοκιμή ψεκασμού αλατιού (48 ώρες), τη δοκιμή υψηλής θερμοκρασίας και υγρασίας (85℃/85% RH, 1000 ώρες) και τη δοκιμή γήρανσης UV (1000 ώρες).

4. Πεδία εφαρμογής

5. Βασικές τεχνικές παράμετροι