Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
+8613751829733

Εξοπλισμός επίστρωσης φιλμ με μαγνητικό sputtering AF Full Auto, μηχανή επίστρωσης με ψεκασμό κατά των δακτυλικών αποτυπωμάτων

Εξοπλισμός επίστρωσης φιλμ με μαγνητικό sputtering AF Full Auto, μηχανή επίστρωσης με ψεκασμό κατά των δακτυλικών αποτυπωμάτων
Τόπος καταγωγής:Γκουανγκντόνγκ
Επωνυμία:Lion King
Πιστοποίηση:CE
Ελάχιστη ποσότητα παραγγελίας:1
Standard Packaging:ξύλινη συσκευασία κουτιού
Χρόνος Παράδοσης:20
Λεπτομέρειες προϊόντος
Επισημαίνω:

μηχανή επίστρωσης με ψεκασμό AF full auto

,

εξοπλισμός επίστρωσης φιλμ με μαγνητικό ψεκασμό

,

μηχανή επίστρωσης κενού κατά των δακτυλικών αποτυπωμάτων

Coating Method: Μαγνητρόνιο
Target Material: AF ως κράμα
Coating Material: ΩΣ
Coating Uniformity: ±5%
Chamber Material: Ανοξείδωτος χάλυβα 304 ή ανθρακούχος χάλυβα
Substrate Size: Προσαρμόσιμο
Vacuum Degree: ≤10-6 PA
Coating Thickness: Δεν διευκρινίζεται
Power Supply: DC/RF
Control System: Έλεγχος οθόνης αφής PLC
Gas Supply: Πολλαπλά αέρια
Cooling System: Υδροψύξη
Coating Speed: 1-3 m/min
Model: AF ως φιλμ μαγνητόνων ψεκασμού με κενό
Target Power: DC/RF/AC
Coating Technology: Μαγνητρόνιο
Coating Target: Μέταλλο, κράμα, κεραμικά κ.λπ.
Vacuum Pump: Αντλία διάχυσης, Περιστροφική αντλία πτερυγίων, αντλία ρίζας κ.λπ.
Coating Substrate: Γυαλί, μέταλλο, κεραμικό κ.λπ.
Vacuum Chamber Size: Προσαρμοσμένο
Coating Application: Οπτικό, ηλεκτρονικό, διακοσμητικό κ.λπ.
Application: Ταινία μαγνητρόνων
Coating Temperature: Χαμηλός
Coating Hardness: Ψηλά
Vacuum Technology: Επικάλυψη κενού
Coating Transparency: Ψηλά
Type: Μηχανή επικάλυψης κενού μεγέθους ψεκασμού
Coating Adhesion: Ισχυρός
Substrate: Ποτήρι
Vacuum System: Σύστημα κενού ψεκασμού
Coating Size: Προσαρμόσιμο
Περιγραφή προϊόντος
Λεπτομερείς προδιαγραφές και χαρακτηριστικά

Το AF Magnetic Sputtering Coater (αντι-δαχτυλικά αποτυπώματα) εφαρμόζει την προηγμένη τεχνολογία επίστρωσης της μοναδικής υποβοήθησης πηγής ιόντων, μαγνητικής ενδιάμεσης συχνότητας αντιδραστικής διασκορπισμού και διαδικασίας επίστρωσης εξάτμισης, η οποία βελτιώνει σημαντικά την ποιότητα του στρώματος φιλμ AF. Τα προϊόντα από τη μαγνητική επίστρωση AF μπορούν να πληρούν το ευρωπαϊκό πρότυπο CE.



Λεπτομερής εισαγωγή στη μηχανή επίστρωσης με διασκορπισμό φιλμ AS AF PVD Magnetron

1. Αρχή εργασίας

Το μηχάνημα ενσωματώνεταιΦυσική εναπόθεση ατμών (PVD)καιτεχνολογία sputtering magnetronγια την προετοιμασία φιλμ με λειτουργίες Anti-Scratch (AS) και Anti-Fingerprint (AF). Η βασική διαδικασία είναι η εξής:

  • Ίδρυση Περιβάλλοντος Κενού: Ο θάλαμος επικάλυψης αντλείται σε υψηλό κενό (10-3 ~ 10-5 Pa) για να εξαλειφθούν τα μόρια του αέρα που παρεμβαίνουν στο σχηματισμό φιλμ.
  • Ιονισμός αερίου: Εισάγεται αδρανές αέριο (συνήθως αργό, Ar) στον θάλαμο. Ο ηλεκτρισμός υψηλής τάσης ιονίζει το Ar σε ιόντα Ar+ και ελεύθερα ηλεκτρόνια.
  • Περιορισμός Μαγνητικού Πεδίου: Ένας μόνιμος μαγνήτης μέσα στο στόχο (πηγή υλικού επικάλυψης) δημιουργεί ένα ισχυρό μαγνητικό πεδίο, το οποίο παγιδεύει ελεύθερα ηλεκτρόνια κοντά στην επιφάνεια στόχο. Τα περιορισμένα ηλεκτρόνια συγκρούονται με περισσότερα άτομα Ar, αυξάνοντας τον ρυθμό ιοντισμού του Ar.
  • Στόχο Sputtering: Τα ιόντα ar+ επιταχύνονται από το ηλεκτρικό πεδίο για να βομβαρδίσουν την επιφάνεια στόχο. Τα άτομα (ή τα μόρια) στόχοι απορρίπτονται και σχηματίζουν μια «ροή σωματιδίων» (ssputtered σωματίδια).
  • Κατάθεση Ταινιών: Τα διασκορπισμένα σωματίδια πετούν προς το υπόστρωμα (π.χ. γυαλί, μέταλλο, πλαστικό) και εναποτίθενται στην επιφάνειά του, σχηματίζοντας ένα πυκνό, ομοιόμορφο φιλμ.
  • Πραγματοποίηση Λειτουργίας AS & AF:
    • AS Performance: Επιλέξτε στόχους υψηλής σκληρότητας (π.χ. SiO2, άνθρακας τύπου διαμαντιού DLC, Al2O3) για να διασφαλίσετε ότι η σκληρότητα του φιλμ φτάνει τα 6H ~ 9H (ανθεκτικό σε γρατσουνιές από κλειδιά ή άμμο).
    • Απόδοση AF: Τροποποιήστε την επιφάνεια του φιλμ με στόχους που περιέχουν φθόριο (π.χ. φθοροπολυμερή που προέρχονται από CF4) για να μειώσετε την επιφανειακή ενέργεια (≤ 20 mN/m), κάνοντας τα σταγονίδια νερού/ελαίου να ξεκολλάνε εύκολα και αποτρέποντας την προσκόλληση των δακτυλικών αποτυπωμάτων.

2. Βασικά χαρακτηριστικά

2.1 Πλεονεκτήματα απόδοσης ταινίας

  • Ενσωμάτωση διπλής λειτουργίας: Επιτυγχάνει ταυτόχρονα υψηλή αντοχή στις γρατσουνιές (AS) και μακροχρόνια αποτελέσματα κατά των δακτυλικών αποτυπωμάτων (AF), αποφεύγοντας την ανάγκη για δευτερεύουσα επίστρωση.
  • Ανώτερη ποιότητα ταινίας: Η διαδικασία διασκορπισμού με μαγνητρόνιο παράγει φιλμ με υψηλή πυκνότητα (≥ 98% της θεωρητικής πυκνότητας του στόχου), ισχυρή πρόσφυση υποστρώματος (δοκιμή σταυρωτής κοπής ≥ 4B) και ομοιόμορφο πάχος (σφάλμα ≤ ±5%).
  • Σταθερή Ανθεκτικότητα: Το φαινόμενο AF παραμένει αποτελεσματικό μετά από 500+ φορές τριβής (με φορτίο 500 g) ή 200+ φορές σκούπισμα με οινόπνευμα. Η απόδοση του AS δεν υποβαθμίζεται μετά από 1000+ φορές τριβής του χαλύβδινου μαλλί.

2.2 Τεχνικά πλεονεκτήματα εξοπλισμού

  • Ευρεία προσαρμοστικότητα υποστρώματος: Συμβατό με επίπεδα/3D υποστρώματα διαφορετικών υλικών (γυαλί, κράμα αλουμινίου, PC, PET) και μεγεθών (από 300×300mm έως 1800×2400mm).
  • Προστασία του Περιβάλλοντος: Χωρίς οργανικούς διαλύτες (σε αντίθεση με την υγρή επίστρωση), χωρίς εκπομπές απόβλητων υγρών/αερίων, σύμφωνα με τα RoHS, REACH και άλλα διεθνή περιβαλλοντικά πρότυπα.
  • Έξυπνος Έλεγχος: Εξοπλισμένο με σύστημα οθόνης αφής PLC +, που υποστηρίζει αυτόματο έλεγχο πίεσης, ρύθμιση ρεύματος στόχου και ρύθμιση χρόνου επίστρωσης. παρακολούθηση σε πραγματικό χρόνο του βαθμού κενού, της θερμοκρασίας και του πάχους του φιλμ.
  • Υψηλή απόδοση: Υιοθετεί διαμόρφωση πολλαπλών στόχων (2 ~ 6 στόχοι) και συνεχή μεταφορική ταινία (για υποστρώματα φύλλων) ή πλανητική περιστροφή (για 3D μέρη), επιτυγχάνοντας ταχύτητα επίστρωσης 0,5 ~ 3 m/min (ρυθμιζόμενη με πάχος φιλμ).

3. Σημεία πώλησης (Αξία προσανατολισμένη στην αγορά)

3.1 Επίλυση προβλημάτων πελατών

  • Εξαλείφει το πρόβλημα των "εύκολων γρατσουνιών + μόλυνσης από δακτυλικά αποτυπώματα" για προϊόντα υψηλής τεχνολογίας (π.χ. οθόνες κινητών τηλεφώνων, γυαλί αυτοκινήτου), βελτιώνοντας την εμπειρία χρήστη και τη διάρκεια ζωής του προϊόντος.
  • Αντικαθιστά την παραδοσιακή υγρή επίστρωση (χαμηλή αντοχή, ρύπανση του περιβάλλοντος) και την επίστρωση εξάτμισης (χαμηλή πυκνότητα φιλμ), μειώνοντας τα ποσοστά επισκευής μετά την επίστρωση κατά ≥ 30%.

3.2 Κόστους-αποτελεσματικότητας

  • Χαμηλό Λειτουργικό Κόστος: Το ποσοστό χρήσης υλικού-στόχου φτάνει το 70% ~ 85% (μεγαλύτερο από το 30% ~ 50%) της επίστρωσης εξάτμισης και η κατανάλωση ενέργειας του συστήματος κενού είναι 20% χαμηλότερη από παρόμοιο εξοπλισμό.
  • Συμβατότητα μαζικής παραγωγής: Ο σχεδιασμός συνεχούς επίστρωσης υποστηρίζει λειτουργία 24/7, με ημερήσια απόδοση ενός μηχανήματος (για γυαλί κινητού τηλεφώνου 5 ιντσών) έως και 10.000 τεμάχια.

3.3 Προσαρμογή & Συμμόρφωση

  • Προσαρμόσιμες παράμετροι φιλμ: Προσαρμόστε τους τύπους στόχων (π.χ. SiO2 + φθοροπολυμερές για AS AF υψηλής διαφάνειας, TiN + φθοροπολυμερές για μεταλλικό AS AF) και πάχος φιλμ (50 ~ 500 nm) για να καλύψετε τις διαφορετικές ανάγκες της βιομηχανίας.
  • Πληροί τα διεθνή πρότυπα ποιότητας: Οι ταινίες περνούν τη δοκιμή ψεκασμού αλατιού (48 ώρες), τη δοκιμή υψηλής θερμοκρασίας και υγρασίας (85℃/85% RH, 1000 ώρες) και τη δοκιμή γήρανσης UV (1000 ώρες).

4. Πεδία Εφαρμογής


Βιομηχανία Τυπικά προϊόντα
3C Ηλεκτρονικά Οθόνες/περιβλήματα κινητών τηλεφώνων, καλύμματα φορητών υπολογιστών, πλάκες για tablet
Αυτοκίνητο Παρμπρίζ, πάνελ κεντρικής κονσόλας, χειρολαβές θυρών
Οικιακές Συσκευές Πάνελ πόρτας ψυγείου, επαγωγικές επιφάνειες εστιών, τζάμι πόρτας μικροκυμάτων
Οπτικά εξαρτήματα Φακοί κάμερας, οθόνες οθόνης (OLED/LCD), γυαλί έξυπνου ρολογιού
Μηχανήματα υπολογιστών Είδη μπάνιου (μπαταρίες, κεφαλές ντους), λεπίδες μαχαιριών κουζίνας

5. Βασικές τεχνικές παράμετροι


Παράμετρος Προσδιορισμός
Βαθμός κενού (Θάλαμος) ≤ 5×10-5 Pa
Τύποι στόχων SiO2, DLC, Al2O3, TiN, Φθοροπολυμερή
Ταχύτητα επίστρωσης 0,5 ~ 3 m/min (ρυθμιζόμενο)
Εύρος πάχους φιλμ 50 ~ 500 nm
Μέγεθος υποστρώματος (Μέγ.) 1800×2400 mm (επίπεδη); φ300 mm (εξαρτήματα 3D)
Τροφοδοτικό 380V/50Hz (τριφασικό)
Διάσταση μηχανής 4500×1800×2200 mm (Μ×Π×Υ)
Μήνυμα για γρήγορη απάντηση
Σχετικά Προϊόντα