| Parameter | Einzelheiten |
|---|---|
| Substratkompatibilität | Maximale Glasgröße: 1500×2000mm ~ 2440×3660mm (anpassbar); Dicke: 1,6-6mm |
| Das ultimative Vakuum | ≤ 8,0×10−5Pa (Beschichtungskammer) |
| Depositionsquote | 00,5-2,5 μm/min (reaktive/nicht-reaktive Verfahren) |
| Zielkompatibilität | Ti, Si, Cr, Al, ITO, Nb2O5, Si3N4 (Low-E, AR) |
| Produktionskapazität | Bis zu 1,6 Mio. m2/Jahr (eine Linie, 6000 Arbeitsstunden) |
| Zykluszeit | ≥ 15 s/Stück (Hochgeschwindigkeits-kontinuierliche Beschichtung) |
| Filmmaniformität | ± 3% (entsprecht der ASTMD3359 4B-Norm) |
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