| Paramètre | Détails |
|---|---|
| Compatibilité du substrat | Taille maximale du verre: 1500 × 2000 mm ~ 2440 × 3660 mm (personnalisable); Épaisseur: 1,6-6 mm |
| Le vide ultime | ≤ 8,0×10−5Pa (chambre de revêtement) |
| Taux de dépôt | 00,5-2,5 μm/min (processus réactifs/non réactifs) |
| Compatibilité des objectifs | Ti, Si, Cr, Al, ITO, Nb2O5, Si3N4 (faible E, AR) |
| Capacité de production | Jusqu'à 1,6 million m2/an (ligne unique, 6000 heures de travail) |
| Temps de cycle | ≥ 15 s/pièce (couche continue à grande vitesse) |
| Uniformité du film | ± 3% (conforme à la norme ASTMD3359 4B) |
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