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Máquina de revestimento por evaporação de feixe de elétrons anular personalizada para as necessidades do cliente

Máquina de revestimento por evaporação de feixe de elétrons anular personalizada para as necessidades do cliente
Local de Origem:Zhaoqing, Guangdong
Marca:Zhongda
Certificação:CE
Quantidade mínima de pedido:1
Prazo de entrega:45-60 dias de trabalho
Detalhes do produto
Destacar:

Máquina de evaporação por feixe de elétrons personalizada

,

Equipamento de revestimento de feixe de elétrons anular

,

sistema de revestimento de feixe de elétrons ópticos

Coating Substrate: Metal, vidro, cerâmica, plástico
Coating Application: Decorativo, funcional, protetor
Machine Size: Personalizável
Rotation Stand: 2 conjuntos
Evaporation Material: Metal, Liga, Materiais Orgânicos
Cooling System: Resfriamento de água
Coating Film Material: Au, Ag, Al, Cu, SiO2, etc.
Coating Chamber Size: Personalizado
Coating Efficiency: Alto
Deposition Rate: Rápido
Vacuum Level: Alto vácuo
Coating Size: Personalizável
Operation Way: Tela sensível ao toque
Coating Temperature: ≤200 ℃
Guarantee Period: 1 ano
Operation Mode: Manual/automático
Coating Deposition Rate: Ajustável
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas
I. Composição estrutural
  • Sistema de arma de elétrons anulado:Filamento anular (cátodo), ânodo, bobina de foco, bobina de deflexão; O cátodo anular emite elétrons quentes, que são acelerados pelo campo elétrico e focados e defletores pelo campo magnético,Bombardeando com precisão o material dentro do cadinho.
  • Sistema de vácuoO vácuo final geralmente atinge 10−4 a 10−6 Pa, reduzindo a colisão e a contaminação da fase gasosa.
  • Fonte de evaporação e cadinho:Crisol de cobre resfriado a água para evitar a evaporação e a reação dos materiais do crisol e melhorar a pureza da camada de filme; Ele suporta comutação de várias estações e deposição de filme de várias camadas.
  • Fase de substrato:Pode ser aquecido/resfriado por água e pode girar em torno do sol/em seu próprio eixo para garantir espessura uniforme da película.
  • Sistema de controlo:Fornecimento de energia de alta tensão, controlo do feixe, monitorização da espessura do filme (oscilador de cristal), medidor de vácuo e programa de automação, conseguindo um controlo de circuito fechado dos parâmetros.
II. Princípio de trabalho
  • Geração e aceleração do feixe de elétrons:Quando um filamento toroidal é eletrificado, ele emite elétrons quentes, que são acelerados por um campo elétrico de alta tensão de 5-10 kV para alcançar alta energia.
  • Foco e deflexão:A bobina eletromagnética focaliza e desinfla o feixe de elétrons na superfície do material alvo dentro do cadinho, com uma densidade de energia que pode atingir 106 a 107 W/cm2.
  • Evaporação e deposição:A energia cinética do feixe de elétrons é convertida em energia térmica, e o material alvo aquece rapidamente até o ponto de evaporação e se vaporiza.Os átomos/moléculas gasosos são transportados em linha reta para o substrato sob grande vácuo e condensados para formar uma película uniforme.
  • Controle do processo:Monitorização em tempo real da taxa de deposição e da espessura da película, ajuste dinâmico da corrente do feixe e da potência para garantir a estabilidade do processo.
III. Características essenciais
  • Alta densidade de energia:A temperatura local pode atingir 3000-6000°C, e pode evaporar materiais com alto ponto de fusão, como o tungstênio, o molibdênio e o SiO2.
  • Poluição extremamente baixa:Os cristais refrigerados a água reduzem a poluição dos cristais e a pureza da camada de filme pode atingir mais de 99,99%.
  • Eficiência e taxa:Alta eficiência térmica, taxa de deposição de 0,1-100 nm/s, eficiência de equilíbrio e qualidade do filme.
  • Processo flexível:A comutação multi-crucible suporta filmes de várias camadas.
IV. Vantagens
  • Ampla adaptabilidade dos materiais:Compatível com metais, ligas, óxidos, semicondutores, etc., especialmente adequado para materiais refratários.
  • A qualidade da camada de filme é excelente:alta pureza, boa densidade e forte adesão, satisfazendo os requisitos dos dispositivos ópticos e electrónicos de alta precisão.
  • Eficiência dos custos:Alta taxa de utilização dos materiais, consumo de energia concentrado nos materiais alvo e custos operacionais mais baixos a longo prazo.
  • Alto grau de automação:Os parâmetros são precisamente controláveis com boa repetibilidade, tornando-o adequado tanto para pesquisa científica como para produção em massa.
V. Aplicações típicas
  • Filmes ópticos:Películas antirreflexo (AR), filtros, divisores de feixe, utilizados em óculos, câmaras, dispositivos a laser, células fotovoltaicas.
  • Semicondutores e Microeletrónica:Eletrodos metálicos (Al, Cu), camadas dielétricas (SiO2, Si3N4), filmes de sensores.
  • Revestimentos funcionais:filmes decorativos, filmes condutores (ITO), revestimentos resistentes à corrosão/resistentes ao desgaste, aplicados na indústria aeroespacial, ferramentas e eletrónica de consumo.
  • Investigação científica e produção em pequena escala:Preparação de materiais para universidades e institutos de investigação, bem como filmes personalizados para MEMS, dispositivos biomédicos, etc.
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