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Machine de revêtement d'évaporation de faisceau d'électrons annulaire personnalisée pour les besoins du client
Machine de revêtement d'évaporation de faisceau d'électrons annulaire personnalisée pour les besoins du client
Lieu d'origine:Zhaoqing, Guangdong
Nom de la marque:Zhongda
Attestation:CE
Quantité minimum de commande:1
Délai de livraison:45-60 jours de travail
Détails du produit
Mettre en évidence:
machine d'évaporation de faisceau d'électrons personnalisée
,équipement de revêtement de faisceau d'électrons annulaire
,système de revêtement de faisceau d'électrons optique
Coating Substrate:
Métal, verre, céramique, plastique
Coating Application:
Décoratif, fonctionnel, protecteur
Machine Size:
Personnalisable
Rotation Stand:
2 ensembles
Evaporation Material:
Métal, alliage, matériaux organiques
Cooling System:
Refroidissement de l'eau
Coating Film Material:
Au, Ag, Al, Cu, SiO2, etc.
Coating Chamber Size:
Personnalisé
Coating Efficiency:
Haut
Deposition Rate:
Rapide
Vacuum Level:
Vide élevé
Coating Size:
Personnalisable
Operation Way:
Écran tactile
Coating Temperature:
≤ 200 ℃
Guarantee Period:
1 an
Operation Mode:
Manuel / automatique
Coating Deposition Rate:
Réglable
Description du produit
Spécifications détaillées et caractéristiques
I. Composition structurelle
- Système de canon électronique annulaire:filament annulaire (cathode), anode, bobine de mise au point, bobine de déflexion; La cathode annulaire émet des électrons chauds, qui sont accélérés par le champ électrique et concentrés et déflectés par le champ magnétique,bombardant précisément le matériau à l'intérieur du creuset.
- Système sous videLe vide ultime atteint généralement 10−4 à 10−6 Pa, réduisant la collision et la contamination en phase gazeuse.
- Source d'évaporation et creuset:Crêble de cuivre refroidi à l'eau pour empêcher l'évaporation et la réaction des matériaux de crêble et améliorer la pureté de la couche de film; Il prend en charge le commutation multi-stations et le dépôt de film multi-couches.
- Étape du substrat:Il peut être chauffé/refroidi par l'eau et peut tourner autour du soleil/sur son propre axe pour assurer une épaisseur de film uniforme.
- Système de commande:L'alimentation haute tension, le contrôle du faisceau, la surveillance de l'épaisseur du film (oscillateur à cristaux), la jauge de vide et le programme d'automatisation permettent de contrôler les paramètres en boucle fermée.
II. Principe de fonctionnement
- Génération et accélération du faisceau d'électrons:Lorsqu'un filament toroïdal est électrifié, il émet des électrons chauds, qui sont accélérés par un champ électrique haute tension de 5 à 10 kV pour atteindre une énergie élevée.
- Focalisation et déviation:La bobine électromagnétique concentre et dégrade le faisceau d'électrons sur la surface du matériau cible à l'intérieur du creuset, avec une densité d'énergie pouvant atteindre 106 à 107 W/cm2.
- Evaporation et dépôt:L'énergie cinétique du faisceau d'électrons est convertie en énergie thermique, et le matériau cible se chauffe rapidement jusqu'au point d'évaporation et se vaporise.Les atomes/molécules en phase gazeuse sont transportés en ligne droite vers le substrat sous vide élevé et condensés pour former un film uniforme.
- Contrôle du processus:Surveillance en temps réel du taux de dépôt et de l'épaisseur du film, réglage dynamique du courant et de la puissance du faisceau pour assurer la stabilité du processus.
III. Caractéristiques principales
- Densité d'énergie élevée:La température locale peut atteindre 3000-6000°C et il peut évaporer des matériaux à point de fusion élevé tels que le tungstène, le molybdène et le SiO2.
- Extrêmement faible pollution:Les creuset refroidis à l'eau réduisent la pollution du creuset et la pureté de la couche de film peut atteindre plus de 99,99%.
- Efficacité et taux:Efficacité thermique élevée, taux de dépôt de 0,1-100 nm/s, efficacité d'équilibrage et qualité du film.
- Processus souple:La commutation multi-crucible prend en charge les films multicouches. Le chauffage/rotation du substrat améliore la compacité et l'adhérence de la couche de film.
IV. Avantages
- Large adaptabilité du matériau:Compatible avec les métaux, alliages, oxydes, semi-conducteurs, etc., particulièrement adapté aux matériaux réfractaires.
- La qualité de la couche de film est excellente:haute pureté, bonne densité et forte adhérence, répondant aux exigences des dispositifs optiques et électroniques de haute précision.
- Le coût-efficacité:Un taux d'utilisation des matériaux élevé, une consommation d'énergie concentrée sur les matériaux cibles et des coûts d'exploitation à long terme plus faibles.
- Un degré élevé d'automatisationLes paramètres sont contrôlables avec précision et une bonne répétabilité, ce qui le rend adapté à la recherche scientifique et à la production de masse.
V. Applications typiques
- Films optiques:films antireflet (AR), films à haute réflexion, filtres, séparateurs de faisceau, utilisés dans les lunettes, les appareils photo, les appareils laser, les cellules photovoltaïques.
- Les semi-conducteurs et les micro-électroniques:Électrodes métalliques (Al, Cu), couches diélectriques (SiO2, Si3N4), films capteurs.
- Les revêtements fonctionnels:films décoratifs, films conducteurs (ITO), revêtements résistants à la corrosion/à l'usure, appliqués dans l'aérospatiale, les outils et l'électronique grand public.
- Recherche scientifique et production à petite échelle:Préparation de matériel pour les universités et les instituts de recherche, ainsi que des films sur mesure pour les MEMS, les dispositifs biomédicaux, etc.
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