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Máquina de recubrimiento de evaporación de haz de electrones anulado personalizado para las necesidades del cliente
Máquina de recubrimiento de evaporación de haz de electrones anulado personalizado para las necesidades del cliente
Lugar de origen:Zhaoqing, Provincia de Cantón
Nombre de la marca:Zhongda
Proceso de dar un título:CE
Cantidad mínima de pedido:1
El tiempo de entrega:45-60 días de trabajo
Detalles del producto
Resaltar:
máquina de evaporación de haz de electrones personalizada
,equipos de recubrimiento de haz de electrones anulados
,sistema de recubrimiento óptico de haz de electrones
Coating Substrate:
Metal, vidrio, cerámica, plástico
Coating Application:
Decorativo, funcional, protector
Machine Size:
Personalizable
Rotation Stand:
2 conjuntos
Evaporation Material:
Metal, aleación, materiales orgánicos.
Cooling System:
Enfriamiento de agua
Coating Film Material:
Au, Ag, Al, Cu, SiO2, etc.
Coating Chamber Size:
Personalizado
Coating Efficiency:
Alto
Deposition Rate:
Rápido
Vacuum Level:
Altos vacío
Coating Size:
Personalizable
Operation Way:
pantalla táctil
Coating Temperature:
≤200 ℃
Guarantee Period:
1 año
Operation Mode:
Manual/automático
Coating Deposition Rate:
Ajustable
Descripción del Producto
Especificaciones y Características Detalladas
I. Composición Estructural
- Sistema de cañón de electrones anular: filamento anular (cátodo), ánodo, bobina de enfoque, bobina de deflexión; El cátodo anular emite electrones calientes, que son acelerados por el campo eléctrico y enfocados y deflectados por el campo magnético, bombardeando con precisión el material dentro del crisol.
- Sistema de vacío: cámara de vacío, bomba mecánica, bomba molecular/bomba criogénica. El vacío final suele alcanzar entre 10⁻⁴ y 10⁻⁶ Pa, lo que reduce la colisión y contaminación en fase gaseosa.
- Fuente de evaporación y crisol: Crisol de cobre refrigerado por agua para evitar la evaporación y reacción de los materiales del crisol y mejorar la pureza de la capa de película; Admite el cambio de múltiples estaciones y la deposición de películas multicapa.
- Etapa del sustrato: Se puede calentar/enfriar con agua y puede girar alrededor del sol/sobre su propio eje para asegurar un espesor de película uniforme.
- Sistema de control: Fuente de alimentación de alto voltaje, control del haz, monitoreo del espesor de la película (oscilador de cristal), manómetro de vacío y programa de automatización, logrando el control de circuito cerrado de los parámetros.
II. Principio de Funcionamiento
- Generación y aceleración del haz de electrones: Cuando un filamento toroidal se electrifica, emite electrones calientes, que son acelerados por un campo eléctrico de alto voltaje de 5-10 kV para lograr una alta energía.
- Enfoque y deflexión: La bobina electromagnética enfoca y desvía el haz de electrones sobre la superficie del material objetivo dentro del crisol, con una densidad de energía que puede alcanzar entre 10⁶ y 10⁷ W/cm².
- Evaporación y deposición: La energía cinética del haz de electrones se convierte en energía térmica, y el material objetivo se calienta rápidamente hasta el punto de evaporación y se vaporiza. Los átomos/moléculas en fase gaseosa se transportan en línea recta al sustrato bajo alto vacío y se condensan para formar una película uniforme.
- Control del proceso: Monitoreo en tiempo real de la velocidad de deposición y el espesor de la película, ajuste dinámico de la corriente del haz y la potencia para asegurar la estabilidad del proceso.
III. Características Principales
- Alta densidad de energía: La temperatura local puede alcanzar entre 3000 y 6000℃, y puede evaporar materiales de alto punto de fusión como tungsteno, molibdeno y SiO₂.
- Contaminación extremadamente baja: Los crisoles refrigerados por agua reducen la contaminación del crisol, y la pureza de la capa de película puede alcanzar más del 99,99%.
- Eficiencia y velocidad: Alta eficiencia térmica, velocidad de deposición de 0,1-100 nm/s, equilibrando la eficiencia y la calidad de la película.
- Proceso flexible: El cambio de múltiples crisoles admite películas multicapa. El calentamiento/rotación del sustrato mejora la compacidad y la adhesión de la capa de película.
IV. Ventajas
- Amplia adaptabilidad de materiales: Compatible con metales, aleaciones, óxidos, semiconductores, etc., especialmente adecuado para materiales refractarios.
- La calidad de la capa de película es excelente: alta pureza, buena densidad y fuerte adhesión, cumpliendo con los requisitos de dispositivos ópticos y electrónicos de alta precisión.
- Rentabilidad: Alta tasa de utilización de materiales, consumo de energía concentrado en los materiales objetivo y menores costos operativos a largo plazo.
- Alto grado de automatización: Los parámetros son precisamente controlables con buena repetibilidad, lo que lo hace adecuado tanto para la investigación científica como para la producción en masa.
V. Aplicaciones Típicas
- Películas ópticas: películas antirreflectantes (AR), películas de alta reflexión, filtros, divisores de haz, utilizados en gafas, cámaras, dispositivos láser, células fotovoltaicas.
- Semiconductores y Microelectrónica: Electrodos metálicos (Al, Cu), capas dieléctricas (SiO₂, Si₃N₄), películas para sensores.
- Recubrimientos funcionales: películas decorativas, películas conductoras (ITO), recubrimientos resistentes a la corrosión/desgaste, aplicados en la industria aeroespacial, herramientas y electrónica de consumo.
- Investigación científica y producción a pequeña escala: Preparación de materiales para universidades e institutos de investigación, así como películas personalizadas para MEMS, dispositivos biomédicos, etc.
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