고객 요구에 맞춘 환형 전자빔 증착 코팅기
전자 빔 증발 기계
,환형 전자빔 코팅 장비
,광학 전자빔 코팅 시스템
- 반지형 전자 총 시스템:원형 필라멘트 (카토드), 애노드, 초점 코일, 굴곡 코일; 원형 카토드는 뜨거운 전자를 방출하며, 전기장으로 가속되고 자기장으로 집중되고 굴곡됩니다.,정확히 그 물체를 폭격합니다.
- 진공 시스템: 진공 챔버, 기계 펌프, 분자 펌프 / 냉동 펌프. 궁극적 진공은 일반적으로 10−4 ~ 10−6 Pa에 도달하여 가스 단계 충돌과 오염을 줄입니다.
- 증발원 및 용기:물 냉각 된 구리 크라이블은 크라이블 재료의 증발 및 반응을 방지하고 필름 층의 순도를 향상시킵니다. 멀티 스테이션 전환 및 멀티 레이어 필름 퇴적을 지원합니다.
- 기판 단계:물로 가열/냉각할 수 있고, 태양 주위/자신의 축을 회전하여 균일한 필름 두께를 보장할 수 있다.
- 제어 시스템:고전압 전원 공급, 빔 제어, 필름 두께 모니터링 (반기 오시레이터), 진공 측정기 및 자동화 프로그램, 파라미터의 폐쇄 루프 제어 달성.
- 전자 빔 생성 및 가속:타로이드 필라멘트가 전기화되면 뜨거운 전자를 방출하여 높은 에너지를 얻기 위해 5-10 kV 고전압 전기장으로 가속됩니다.
- 중점화 및 기울기:전자기 스핀은 전자 빔을 집중시키고 피저 내부의 표적 물질 표면에 팽창시킵니다. 에너지 밀도는 106 ~ 107 W / cm2에 도달 할 수 있습니다.
- 증발 및 퇴적:전자 빔의 운동 에너지는 열 에너지로 변환되며, 대상 물질은 증발점까지 빠르게 뜨고 증발합니다.가스상 원자/분자는 높은 진공 아래 서브스트라트에 직선으로 운반되고 균일한 필름을 형성하기 위해 응고됩니다..
- 프로세스 제어:퇴적 속도 및 필름 두께의 실시간 모니터링, 프로세스 안정성을 보장하기 위해 빔 전류와 전력의 동적 조정.
- 높은 에너지 밀도:지역 온도는 3000~6000°C까지 도달할 수 있으며, 울프스탄, 몰리브덴, SiO2와 같은 높은 녹는 지점의 물질을 증발시킬 수 있습니다.
- 극히 낮은 오염:물로 냉각 된 크라이블은 크라이블 오염을 줄이고 필름 층의 순도는 99.99% 이상에 도달 할 수 있습니다.
- 효율성 및 비율:높은 열 효율, 퇴적 속도 0.1-100 nm/s, 균형 효율 및 필름 품질.
- 유연한 과정:멀티 크루시블 스위칭은 다층 필름을 지원합니다. 기판 가열 / 회전으로 필름 층의 컴팩트성과 접착력이 향상됩니다.
- 넓은 재료 적응력:금속, 합금, 산화물, 반도체 등과 호환되며, 특히 불탄소 물질에 적합합니다.
- 필름 레이어 품질은 훌륭합니다.높은 순도, 좋은 밀도, 강한 접착력, 고정도 광학 및 전자 장치의 요구 사항을 충족합니다.
- 비용 효율성:높은 재료 활용률, 목표 재료에 집중된 에너지 소비, 낮은 장기 운영 비용.
- 높은 자동화 수준:매개 변수는 정확하게 제어 할 수 있으며 좋은 반복성이 있으며 과학 연구와 대량 생산에 적합합니다.
- 광적 필름:반사 필름 (AR), 고반사 필름, 필터, 빔 스플리터, 안경, 카메라, 레이저 장치, 태양 전지 전지에 사용됩니다.
- 반도체 및 마이크로 전자:금속 전극 (Al, Cu), 변압층 (SiO2, Si3N4), 센서 필름.
- 기능성 코팅:장식 필름, 전도성 필름 (ITO), 부식 저항성/후모 저항성 코팅, 항공우주, 도구 및 소비자 전자제품에 적용됩니다.
- 과학 연구 및 소규모 생산:대학과 연구소용 자료를 준비하고 MEMS, 생의학 기기 등에 맞춤형 필름을 제작합니다.
완전 자동 제어 및 전자빔 코팅 기술을 갖춘 저가형 진공 광학 코팅기
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